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公开(公告)号:CN100368449C
公开(公告)日:2008-02-13
申请号:CN200510084480.5
申请日:2002-10-30
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: C08F216/12 , C08L29/10 , G02B6/00
CPC classification number: G02B6/02038 , C07C43/17 , C08F16/32 , C08F214/18 , G02B1/046 , G02B6/02033 , C08L29/10
Abstract: 本发明提供了可形成折射率较低、耐热性良好的光学树脂材料的新颖的含氟聚合物,以及形成该含氟聚合物的具有2个不饱和键的新颖的含氟二烯化合物。此外,由于折射率较低、耐热性良好,所以能够提供高性能的光传输体及塑料光纤。由CF2=CFCF(ORf)CF2OCF=CF2(式中的Rf表示三氟甲基等全氟烷基)表示的含氟二烯化合物及其含氟聚合物,使用该含氟聚合物的光传输体,以及该含氟聚合物中含有含氟低分子化合物作为高折射率化剂形成芯的塑料光纤。
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公开(公告)号:CN1993419A
公开(公告)日:2007-07-04
申请号:CN200580025676.5
申请日:2005-07-27
Applicant: 旭硝子株式会社
Abstract: 本发明提供含氟聚合物胶乳的生产性良好、而且所得的含氟聚合物的贮藏稳定性良好的含氟聚合物胶乳的制造方法及该含氟聚合物胶乳。含氟聚合物胶乳的制造方法,其特征在于,在含有0.001~10.0质量%的通式(1):F(CF2)nO(CF2CF2O)mCF2COOA所表示的含氟乳化剂的水性介质中,将含氟单体进行乳液聚合而得到含氟聚合物胶乳;式中,A为氢原子、碱金属或NH4,n为3~10的整数,m为0或1~3的整数。
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公开(公告)号:CN1832909A
公开(公告)日:2006-09-13
申请号:CN200480022275.X
申请日:2004-08-06
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: C07C41/06 , C07C43/123
Abstract: 本发明提供了在温和的反应条件也可获得满意的反应速度的,并且可高效实施反应后的蒸馏等后续工序的含氟烷基醚的制造方法。即,向反应容器内导入非质子性极性溶剂、含氟醚、催化剂、含氟烷醇以及氟化烯烃后,使该含氟烷醇和该氟化烯烃反应制造含氟烷基醚,被导入反应容器内的非质子性极性溶剂和含氟醚这2种成分的比例用质量比表示为,非质子性极性溶剂/含氟醚=5/95~80/20。
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公开(公告)号:CN1798722A
公开(公告)日:2006-07-05
申请号:CN200480015210.2
申请日:2004-06-03
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: C07C41/06 , C07C43/123
Abstract: 在溶剂及催化剂存在下使含氟烷醇和氟化烯烃反应生成含氟烷基醚的制造方法,该方法的特征在于,向反应器中连续提供含氟烷醇和氟化烯烃,自反应器中连续抽取含有含氟烷基醚的反应生成物,并且将反应器中存在的含氟烷醇的浓度对应于反应器中存在的全部有机成分控制为小于等于7质量%而使反应进行。通过本发明,可以工业规模并且以较快的反应速度制造高纯度的含氟烷基醚。
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公开(公告)号:CN1231453C
公开(公告)日:2005-12-14
申请号:CN02804233.6
申请日:2002-01-31
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: C07C67/307 , C07C69/75 , C07B39/00 , C07C67/37 , C07C69/757
CPC classification number: C07C17/18 , C07B39/00 , C07C17/04 , C07C67/307 , C07C69/75
Abstract: 提供一种利用2阶段反应来将容易得到的羰基化合物高产率合成具有偕位二氟结构的目的含氟化合物的方法。使4-氧代环己烷羧酸乙酯等化合物(1)和五氯化磷等式X-Z所示的化合物或以Z2O表示的化合物(Z是能形成-OZ结构的1价离去基团,X是氯原子、溴原子或碘原子)进行反应,然后使产生氟负离子的HF等氟化剂作用于反应产物,得到4,4-二氟环己烷羧酸乙酯等含氟化合物(2)。
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公开(公告)号:CN1675191A
公开(公告)日:2005-09-28
申请号:CN03819680.8
申请日:2003-08-21
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: C07D307/30 , C08F34/02 , G03F1/14
CPC classification number: C07D307/16 , C07D307/18 , C07D307/30 , C08F34/02 , G03F1/62 , G03F1/64
Abstract: 提供了对短波长的光具有良好的透过性及耐久性、能用于使用了KrF准分子激光等的光刻工序的表膜。该表膜是表膜的膜通过粘合剂与框体粘接而成的用于波长小于等于200nm的光的曝光处理的表膜,该表膜的膜及/或该粘合剂由含有下式(1)表示的重复单元的聚合物形成,Q表示直链结构的碳原子数1~3的多氟亚烷基等或选自该多氟亚烷基中的氢原子及氟原子的1个或1个以上的原子被可含醚性氧原子的多氟烷基形成的取代基取代的基团;X表示氢原子、氟原子或可含醚性氧原子的碳原子数1~3的多氟烷基。
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