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公开(公告)号：CN104778327A
公开(公告)日：2015-07-15
申请号：CN201510196146.2
申请日：2015-04-23
Applicant: 复旦大学
Abstract: 本发明属于机械设计技术领域，具体为一种基于人工神经网络的飞机翼型优化设计方法。本发明是在基于人工神经网络的翼型参数化反设计的基础上，进一步提出新型翼型优化方法，以此技术进行翼型数据库的扩充，增加设计人员的可利用技术资源。本发明通过分析研究参数化翼型数据的结构与人工神经网络的联系，寻找实现优化方向的手段；从理论和实验比较不同的学习关系对于人工神经网络的优化工作的影响，最终建构适合应用人工神经网络的翼型新型优化方法，使人工神经网络的智能化特点体现在满足更理想气动要求的翼型生成上。本发明将智能化地生成具备比原有的翼型更优良的气动性能的新翼型，形成设计工作的良性循环。
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公开(公告)号：CN102402635B
公开(公告)日：2014-03-05
申请号：CN201010286461.1
申请日：2010-09-19
Applicant: 复旦大学
IPC: G06F17/50 , H01L21/768
Abstract: 本发明属集成电路半导体制造技术领域，涉及一种针对耦合电容影响的化学机械抛光工艺哑元金属填充方法。本方法将求解最小化耦合电容影响的哑元金属填充问题转化成特殊的覆盖线性规划问题，然后用完全多项式时间近似法求解所述问题。本发明能保证最终结果的最优性，在满足给定金属密度约束的前提下，最终获得的哑元金属带来的耦合电容增加量不超过最小增加量的倍。本方法解决了以往方法中存在的速度和精度不能兼顾的难题，可以应用于解决大规模版图哑元填充问题。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101887467B
公开(公告)日：2012-08-22
申请号：CN200910050941.5
申请日：2009-05-11
Applicant: 复旦大学
IPC: G06F17/50 , H01L21/321 , H01L21/768
Abstract: 本发明属半导体铜互连化学机械抛光工艺领域，具体涉及一种粗糙打磨垫化学机械抛光工艺模型的建立方法。该方法采用概率密度函数来表征打磨垫表面的高度特性，用自相关函数来表征打磨垫表面的横向特性，并采用谱展开方法和非线性变换方法生成符合给定概率密度特性的打磨垫粗糙表面。本发明方法不需要对打磨垫表面做任何的几何简化和近似，可以严格地表征打磨垫表面任意随机分布的几何特性，本方法利用接触力学方程精确求解打磨垫粗糙表面和芯片表面的接触问题，从而实现对整个化学机械抛光工艺的建模，可用于检测化学机械抛光工艺的结果。
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公开(公告)号：CN101964001B
公开(公告)日：2012-08-01
申请号：CN200910055196.3
申请日：2009-07-22
Applicant: 复旦大学
IPC: G06F17/50
Abstract: 本发明属集成电路半导体制造技术领域，涉及一种化学机械抛光工艺的哑元填充方法。本发明将求解最小化哑元金属数目的哑元填充问题转化成一类特殊的覆盖线性规划CLP问题，然后根据CLP问题的特点，应用组合优化领域中一种完全多项式时间近似算法FPTAS来求解最小哑元填充问题。该方法既可以保证最终结果的ε最优性，又可以实现最终结果精度和计算速度的折中，解决了现有方法中存在的速度和精度不能兼顾的难题；该方法还可以在线性时间复杂度下，获得近似最少的哑元填充数目，可用于解决大规模版图哑元填充问题。
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公开(公告)号：CN102054090A
公开(公告)日：2011-05-11
申请号：CN201010511525.3
申请日：2010-10-19
Applicant: 复旦大学
IPC: G06F17/50
Abstract: 本发明涉及一种统计静态时序分析方法。该方法基于改进的嵌套式稀疏网格积分法的自适应随机配置法MASCM来求解统计静态时序分析方法中的MAX逼近问题。在MASCM中，将MAX逼近按照输入端情况分为两类：线性输入条件和非线性输入条件。在线性输入条件下，MASCM选择具有最大均值的那个输入端作为MAX的输出。在非线性输入条件下，MASCM利用改进的嵌套式稀疏网格积分法来计算正交多项式展开系数。改进的嵌套式稀疏网格积分法提高了随机配置法中积分点的利用率，在保证积分精度的同时，减少了配置点的个数，降低了统计静态时序分析中的计算时间。本发明提出的MASCM方法具有与现有方法相当的计算精度，但所需要的积分点个数以及计算时间都大大降低。
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公开(公告)号：CN101887467A
公开(公告)日：2010-11-17
申请号：CN200910050941.5
申请日：2009-05-11
Applicant: 复旦大学
IPC: G06F17/50 , H01L21/321 , H01L21/768
Abstract: 本发明属半导体铜互连化学机械抛光工艺领域，具体涉及一种粗糙打磨垫化学机械抛光工艺模型的建立方法。该方法采用概率密度函数来表征打磨垫表面的高度特性，用自相关函数来表征打磨垫表面的横向特性，并采用谱展开方法和非线性变换方法生成符合给定概率密度特性的打磨垫粗糙表面。本发明方法不需要对打磨垫表面做任何的几何简化和近似，可以严格地表征打磨垫表面任意随机分布的几何特性，本方法利用接触力学方程精确求解打磨垫粗糙表面和芯片表面的接触问题，从而实现对整个化学机械抛光工艺的建模，可用于检测化学机械抛光工艺的结果。
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公开(公告)号：CN215994653U
公开(公告)日：2022-03-11
申请号：CN202122231663.2
申请日：2021-09-15
Applicant: 复旦大学附属华山医院
IPC: A61G12/00
Abstract: 本实用新型公开了一种急诊用石膏车装置，属于医用器具技术领域。它包括车体，车体的内部左侧固定设有隔板并通过隔板分为左腔体及右腔体，左腔体的内部固定设有两个挡板并通过两个挡板从上至下依次分为操作腔、蓄水腔及工作腔，蓄水腔的内部固定设有两组电热棒，工作腔的内部固定设有泵体，泵体的吸入端及输出端分别固定连接有吸入管及输出管，吸入管远离泵体的一端与蓄水腔固定连通设置，操作腔的上端固定连接有蓄水盆，输出管远离泵体的一端穿过蓄水腔并延伸至蓄水盆的内部设置，车体的下端固定连接有电池盒。本实用新型无需到专门的取水点取用温水，节省时间，使用方便，使用局限性较小，实用性强，也适用于急诊科。
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