公开(公告)号：CN101150910A

公开(公告)日：2008-03-26

申请号：CN200710085457.7

申请日：2007-03-05

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 陈映霖 ,  高季安 ,  陈柏仁 ,  萧义理 ,  余振华 ,  汪青蓉 ,  许呈锵

IPC: H05H1/24 ,  H05H1/02 ,  H01L21/00

CPC classification number: H01J37/32568 ,  H01J37/32091 ,  H01J37/321

Abstract: 本发明提供具有可调式电导体的装置及调整可调式电导体的方法，该装置包括用于半导体制程中的一压力反应室的一种可调式上电极或上线圈，该可调式上电极或上线圈的形状可选择性地被改变，而可调式上电极或上线圈包括两部分，这些部分可选择地由不同的功率或频率所驱动；因此，可调式上电极及上线圈可使压力反应室中的等离子体密度分布可选择地被控制。

公开(公告)号：CN1283375C

公开(公告)日：2006-11-08

申请号：CN200310103618.2

申请日：2003-10-29

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 陈柏仁

IPC: B08B3/08 ,  B08B3/10 ,  H01L21/00

CPC classification number: H01L21/02052 ,  G03F7/42 ,  H01L21/31133

Abstract: 本发明提供一种晶圆清洗的旋转湿制程及其设备，在用以承载基板的旋转台上，加入一加温装置，使得基板表面温度与喷嘴所喷洒的化学清洗剂温度相同。如此，基板表面具有黏度均匀的化学清洗剂，而可得到清洗效果均匀且稳定的清洗制程。