电气、电子器械用铜合金
    32.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101314825B

    公开(公告)日:2013-02-06

    申请号:CN200810110003.5

    申请日:2008-06-02

    Abstract: 本发明涉及一种电气、电子器械用铜合金,其包含0.5~4.0质量%的Ni、0.5~2.0质量%的Co、0.3~1.5质量%的Si,余量为Cu和不可避免的杂质,当将材料表面的{111}面的衍射强度设定为I{111}、{200}面的衍射强度设定为I{200}、{220}面的衍射强度设定为I{220}、{311}面的衍射强度设定为I{311}、{200}面的衍射强度在这些衍射强度中所占比例设定为R{200}=I{200}/(I{111}+I{200}+I{220}+I{311})时,R{200}为0.3以上。

    铜合金板材及其制造方法
    33.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102695811A

    公开(公告)日:2012-09-26

    申请号:CN201080051567.1

    申请日:2010-12-01

    CPC classification number: C22C9/06 C22F1/08 H01B1/026

    Abstract: 本发明提供一种铜合金板材及其制造方法,所述铜合金板材的弯曲加工性优异、且具有优异的强度,适合用于电气、电子仪器用引线框、连接器、端子材料等、汽车车载用等的连接器或端子材料、继电器、开关等。本发明的铜合金板材在EBSD(Electron Back Scatter Diffraction:电子背散射衍射)测定的晶体取向分析中,将BR取向{362}<853>、RD-Rotated-Cube取向{012}<100>、Cube取向{100}<001>、Copper取向{121}<111>、S取向{231}<346>、Brass取向{110}<112>各自的集合组织取向成分的面积率设为[BR]、[RDW]、[W]、[C]、[S]、[B]时,定义为R=([BR]+[RDW]+[W])/([C]+[S]+[B])的R为1以上,屈服强度为500MPa以上,导电率为30%IACS以上。

    用于电气电子设备的铜合金板材及其制造方法

    公开(公告)号:CN101535511A

    公开(公告)日:2009-09-16

    申请号:CN200780041267.3

    申请日:2007-09-12

    CPC classification number: C22C9/06 C22F1/08

    Abstract: 本发明提供用于电气电子设备的铜合金板材及其制造方法,所述铜合金板材具有优异的镀敷性、压制性、耐热性。上述用于电气电子设备的铜合金板材,由含有Ni 2.0~5.0质量%、Si 0.43~1.5质量%,余量为Cu与不可避免的杂质的铜合金所形成;其特征在于:含有Ni与Si总含量为50质量%以上的三种金属间化合物A、B、C,该金属间化合物A的化合物直径是0.3μm以上、2μm以下;该金属间化合物B的化合物直径是0.05μm以上、小于0.3μm;该金属间化合物C的化合物直径是超过0.001μm、小于0.05μm。

    用于电气电子设备的铜合金板材及其制造方法

    公开(公告)号:CN101535511B

    公开(公告)日:2011-09-21

    申请号:CN200780041267.3

    申请日:2007-09-12

    CPC classification number: C22C9/06 C22F1/08

    Abstract: 本发明提供用于电气电子设备的铜合金板材及其制造方法,所述铜合金板材具有优异的镀敷性、压制性、耐热性。上述用于电气电子设备的铜合金板材,由含有Ni2.0~5.0质量%、Si0.43~1.5质量%,余量为Cu与不可避免的杂质的铜合金所形成;其特征在于:含有Ni与Si总含量为50质量%以上的三种金属间化合物A、B、C,该金属间化合物A的化合物直径是0.3μm以上、2μm以下;该金属间化合物B的化合物直径是0.05μm以上、小于0.3μm;该金属间化合物C的化合物直径是超过0.001μm、小于0.05μm。

Patent Agency Ranking