公开(公告)号：CN206396319U

公开(公告)日：2017-08-11

申请号：CN201720060159.1

申请日：2017-01-19

Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心

Inventor： 李恺 ,  吴卫东 ,  罗炳池 ,  罗江山 ,  张吉强 ,  谭秀兰 ,  李文琦 ,  金雷 ,  何玉丹

IPC: C23C14/26 ,  C23C14/14 ,  C23C14/06 ,  C23C14/58

Abstract: 本实用新型公开了一种大尺度自支撑铍薄膜的制备装置，包括沉积室（1），所述沉积室（1）内上部设置有基片架（2），所述基片架（2）底部设置有基片（3），所述基片（3）下方设置有挡板（4），所述沉积室（1）内下部还设置有坩埚(6)、Ta蒸发舟（7）及电极（8），所述坩埚(6)、Ta蒸发舟（7）均固定在电极（8）上，坩埚(6)位于 Ta蒸发舟（7）内，所述电极（8）通过电源（10）供电，所述坩埚(6)底部还设置有热电偶（11），所述沉积室（1）还连接真空系统（9）；采用本实用新型的装置，克服了金属铍的极大脆性，可制备最大尺寸达数十毫米、厚度介于1μm‑10μm的自支撑铍薄膜，而且所得的自支撑铍薄膜质量优良。