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公开(公告)号：CN114121740B
公开(公告)日：2025-01-14
申请号：CN202110949142.2
申请日：2021-08-18
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/677 , H01L21/67
Abstract: 提供一种提高输送精度的基板输送系统的控制方法和基板输送系统。一种基板输送系统的控制方法，基板输送系统包括：输送机构，其具有保持基板的保持部，输送机构用于输送基板；以及测量部，其对由输送机构输送的基板的外缘进行检测，并对基板的中心位置进行测量，基板输送系统将基板向目标位置输送，其中，基于保持部的基准位置和由测量部测量到的基板的中心位置之间的偏移量、利用测量部对基板的外缘进行检测的测量位置处的输送机构的由热膨胀所引起的保持部的基准位置的热位移量、以及输送基板的目标位置处的输送机构的由热膨胀所引起的保持部的基准位置的热位移量来校正目标位置，控制输送机构，以使保持部的基准位置成为校正后的目标位置。
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公开(公告)号：CN113257729B
公开(公告)日：2024-06-11
申请号：CN202110162764.0
申请日：2021-02-05
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 新藤健弘
IPC: H01L21/677 , H01L21/68 , B25J11/00 , B25J9/00
Abstract: 本发明提供一种示教方法，能够提高搬送位置的精度。示教方法是搬送机构的示教方法，包括进行载置的工序、进行搬送的工序、进行检测的工序以及进行校正的工序。在进行载置的工序中，将第一基板或边缘环载置在搬送机构的叉子上，将第一基板或边缘环搬送到目标位置，并且将第一基板或边缘环载置到目标位置。在进行搬送的工序中，将具有位置检测传感器的第二基板载置在叉子上，并且将第二基板搬送到目标位置的正上方或正下方。在进行检测的工序中，使用第二基板的位置检测传感器来检测第一基板或边缘环与目标位置的偏离量。在进行校正的工序中，基于检测到的偏离量来校正下一个要搬送的第一基板或边缘环的、搬送机构的搬送位置数据。
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公开(公告)号：CN116721952A
公开(公告)日：2023-09-08
申请号：CN202310173715.6
申请日：2023-02-28
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 新藤健弘
IPC: H01L21/677 , H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种基板处理系统和基板搬送方法，能够针对多个模块以高自由度且高生产率进行基板替换动作。对基板进行处理的处理系统具备：多个模块，所述多个模块包括保持基板并对基板进行处理的处理室；搬送室，其与多个模块连接；基板搬送装置，其设置于搬送室的内部，进行针对多个模块的基板的交接和基板的取出；以及控制部，其中，所述基板搬送装置具有第一搬送单元和第二搬送单元，第一搬送单元和第二搬送单元能够载置基板，并能够在搬送室的面上独立且自如地进行直线移动及转动，控制部控制基板搬送装置，以使第一搬送单元与第二搬送单元同时并行地移动，来进行用来自多个模块中的一个模块的基板替换多个模块中的其它模块的基板的替换动作。
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公开(公告)号：CN115116892A
公开(公告)日：2022-09-27
申请号：CN202210223312.3
申请日：2022-03-07
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , F16K11/22 , F16K31/06 , H01L21/677
Abstract: 本发明提供一种对开口部进行开闭的开闭装置和输送室。本发明的开闭装置对将第一室和与上述第一室相邻的第二室连通的开口部进行开闭，上述开闭装置包括：平面电机，其具有排列于上述第一室的线圈；移动体，其在能够上述平面电机上移动，具有封闭上述开口部的阀体；和控制部，其控制上述线圈的通电。
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公开(公告)号：CN114649246A
公开(公告)日：2022-06-21
申请号：CN202111499716.7
申请日：2021-12-09
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/677 , H01L21/67
Abstract: 本发明提供输送基片的装置、处理基片的系统和输送基片的方法，能够调节叉形部件的倾斜。基片输送装置包括：末端执行器，其具有保持基片的叉形部件和保持叉形部件的根端部的腕部；以及臂，其能够安装末端执行器并具有使叉形部件移动的机构，在基片输送装置的保持叉形部件的根端部的腕部与臂之间具有调节叉形部件的倾斜的倾斜调节机构，该倾斜调节机构包括：用于从下表面侧支承腕部的3个支承销；使这些支承销的上端的高度位置彼此相对地变化的高度调节部；和被设置成将叉形部件向支承销一侧牵引的牵引销。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114203605A
公开(公告)日：2022-03-18
申请号：CN202111042397.7
申请日：2021-09-07
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 新藤健弘
IPC: H01L21/677
Abstract: 本发明提供能够提高输送精度的基片输送系统的控制方法和基片输送系统。本发明的控制方法是具有保持基片的保持部且能够输送上述基片的输送机构的控制方法，其包括：检测由上述输送机构输送的上述基片的外缘，使用预先设定的与输送上述基片的路径对应的调整值来测量上述基片的中心位置的步骤；基于上述基片的中心位置与预先设定的上述保持部的基准位置的偏移量，来修正目标位置的步骤；和控制上述输送机构，以使上述保持部的基准位置成为修正后的上述目标位置的步骤。
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公开(公告)号：CN108933097A
公开(公告)日：2018-12-04
申请号：CN201810503290.X
申请日：2018-05-23
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 新藤健弘
IPC: H01L21/677
CPC classification number: H01L21/67196 , H01L21/67167 , H01L21/67754
Abstract: 本发明提供一种在真空气氛下输送基片的真空输送组件。真空输送组件(4)具有在装载互锁组件(3)与对基片进行真空处理的多个处理组件(6)之间输送基片(W)的基片输送机构(51)，还具有：内部形成真空气氛的箱体(41)；和接合件安装部(44)，其在箱体(41)的侧壁形成有多个，能够分别选择专门用来连接装载互锁组件(3)的第一接合件(45)和专门用来连接处理组件(6)的第二接合件(46)中的一者来安装，且对于该第一接合件(45)和第二接合件(46)是通用的。由此，能够提高与该真空输送组件连接的装载互锁组件和多个处理组件的配置的自由度。
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公开(公告)号：CN101542711B
公开(公告)日：2011-04-06
申请号：CN200880000699.4
申请日：2008-02-12
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 新藤健弘
IPC: H01L21/68
CPC classification number: H01L21/67259
Abstract: 公开一种方法，是在基板位置检测装置中对拍摄基板摄像面上的摄像部件的摄像区域的坐标的配置进行调整的摄像部件调整方法，该基板位置检测装置被配置在载置基板的可转动的载置台和基板交接装置的附近，该基板交接装置与载置台分开准备，并构成为相对于载置台能够在水平方向上驱动向载置台交接基板的支撑销。该方法利用支撑销将具有与基板的周缘部对应的标记的带标记的晶圆支撑在载置台上方的规定高度，使标记进入摄像区域内，在水平方向上驱动支撑销来一边在摄像区域内的一个方向上每次移动标记规定距离地进行移动、一边在多个点上检测标记，按照检测出的多个点的排列方向校正坐标的轴方向，利用高度调整用夹具将带标记的晶圆维持在载置台上方的规定高度上，使标记进入摄像区域内，转动载置台来一边在摄像区域内每次移动标记规定角度地进行移动、一边在多个点上检测标记，按照根据这些多个点求出的转动中心来校正坐标的原点位置。
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公开(公告)号：CN101461053A
公开(公告)日：2009-06-17
申请号：CN200780020791.2
申请日：2007-08-20
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 新藤健弘
CPC classification number: H01L21/67259
Abstract: 即使在晶圆位置偏移大到无法检测晶圆周缘部的情况下，也不损坏晶圆而对晶圆进行定位等。根据来自沿着晶圆周缘部形状配设的多个摄像单元的输出图像来分别检测成为对象的晶圆的周缘部(步骤S210)，根据能够检测出晶圆周缘部的摄像单元的个数来进行晶圆的位置偏移校正(步骤S220)、倾角校正(步骤S230)。在无法由所有摄像单元检测出晶圆周缘部的情况下，使晶圆向根据来自各摄像单元的输出图像的组合而得到的位置调整方向移动即对晶圆位置进行调整(步骤S240)。由此，能够通过与位置偏移程度相应的处理来正确地对晶圆进行定位。
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公开(公告)号：CN100342519C
公开(公告)日：2007-10-10
申请号：CN200480001008.4
申请日：2004-07-09
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 被处理基板(W)的搬送装置(20)包含可旋转的旋转基台(24)，在旋转基台上安装可伸屈的第1和第2臂机构(26，28)，第1和第2臂机构各自具有从旋转基台侧顺序地相互可旋转连接的基端臂(26A，28A)、中间臂(26B，28B)和鸟嘴部(26C，28C)，鸟嘴部按照支持被处理基板的方式设置，第1和第2臂机构的基端臂上连接连杆机构(30)，从而驱动第1和第2臂机构，为了旋转驱动旋转基台，配设第1驱动源(32)，为了旋转连杆机构以便使第1和第2臂机构伸屈，配设第2驱动源(34)。
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