公开(公告)号：CN1652025A

公开(公告)日：2005-08-10

申请号：CN200410011597.6

申请日：2002-07-04

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 菅田祥树 ,  金子文武 ,  立川俊和

IPC: G03F7/00 ,  H01L21/00

CPC classification number: G03F7/40

Abstract: 本发明涉及在用于降低基板上的光刻胶层的图案尺寸的所谓涂覆热流动方法中的改进来实现光刻胶图案细度的增加，其中将形成在光刻胶层上的水溶性树脂涂层进行热处理，使该涂层产生热收缩，同时减小图案尺寸，随后通过水洗除去涂层。该方法的改进是通过下述步骤实现的：除了水溶性树脂例如基于聚丙烯酸基的聚合物之外，在涂料水溶液中混合水溶性胺化合物例如三乙醇胺。进一步的改进是这样实现的：从特殊的共聚物中选择水溶性树脂，所述特殊共聚物包括(甲基)丙烯酸和含氮化合物例如N－乙烯基吡咯烷酮、N－乙烯基咪唑啉酮和N－丙烯酰基吗啉的共聚物以及在特定共聚比下的N－乙烯基吡咯烷酮和N－乙烯基咪唑啉酮的共聚物。

公开(公告)号：CN1582417A

公开(公告)日：2005-02-16

申请号：CN02822202.4

申请日：2002-11-05

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 菅田祥树 ,  金子文武 ,  立川俊和

IPC: G03F7/40 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/40

Abstract: 本发明提供一种用于图案细微化的涂膜形成剂，是一种用于按以下方式形成细微图案的涂膜形成剂：在具有光刻胶图案的基板上涂敷该涂膜形成剂，利用其热收缩作用缩小光刻胶图案间的间隔后，形成细微图案，其特征在于含有水溶性聚合物和表面活性剂。本发明还提供一种使用该涂膜形成剂形成细微图案的方法。利用本发明，能够提供一种可得到具有以下特性的细微图案的涂膜形成剂和使用该涂膜形成剂形成细微图案的方法：即图案尺寸控制性优良，具有良好的外形，以及半导体器件所要求的特性。