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公开(公告)号：CN101855090B
公开(公告)日：2013-03-27
申请号：CN200880115660.7
申请日：2008-11-12
申请人： 京瓷株式会社
发明人： 比嘉刚久
CPC分类号： B41J2/14145 , B41J2/1603 , B41J2/1637 , B41J2002/14387 , B41J2202/07 , B41J2202/11
摘要： 本发明提供一种具有从一主面贯通至另一主面的流路的流路部件。该流路以从一主面侧朝向另一主面侧扩径的方式形成，在其内表面具有与另一主面大致平行且向另一主面侧露出的平行部。
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公开(公告)号：CN102939202A
公开(公告)日：2013-02-20
申请号：CN201180031711.X
申请日：2011-04-20
申请人： 伊斯曼柯达公司
CPC分类号： B41J2/14145 , B41J2/1603 , B41J2002/14467
摘要： 一种用于喷墨印刷头的喷墨印刷头裸片，其中所述喷墨印刷头裸片包括复合基底，所述复合基底包含平面半导体件、平面基底件和界面，所述平面半导体件在所述界面处与所述平面基底件熔合。
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公开(公告)号：CN101376286B
公开(公告)日：2012-12-12
申请号：CN200810212451.6
申请日：2008-08-29
申请人： 佳能株式会社
CPC分类号： B41J2/1404 , B41J2/14145 , B41J2202/11
摘要： 一种喷液头，包括：多个喷嘴，每一喷嘴包括用于喷射液滴的喷射口；喷射能量产生元件，其设置在与喷射口相对的位置处，用来产生用于喷射液滴的能量；压力腔，该压力腔中设置喷射能量产生元件并且与喷射口流体连通；以及供应通路，其用于将液体供应至压力腔；其中，的多个喷嘴包括第一喷嘴和第二喷嘴，第一喷嘴和第二喷嘴与供应通路中的、长度彼此不同的相应供应通路连通，其中，第一喷嘴和第二喷嘴设置于在用于将液体供应至第一喷嘴的细长的供应腔的宽度方向上的一个端部处，其中，第一喷嘴的供应通路沿着与液体从喷射口喷射的方向垂直的方向延伸，并且与供应腔流体连通，并且其中，第二喷嘴的供应通路沿着与液体的喷射方向平行的方向延伸。
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公开(公告)号：CN102307732A
公开(公告)日：2012-01-04
申请号：CN201080006638.6
申请日：2010-02-05
申请人： 佳能株式会社
CPC分类号： B41J2/04501 , B41J2/1404 , B41J2/14072 , B41J2/14145 , B41J2002/14467
摘要： 可通过利用被配置为使各单独的供给端口相互分开的横梁部分，铺设位于供给端口的右侧的加热器的电源加热器布线和加热器驱动电路布线。并且，多个供给端口被设置为向流路和压力室供给墨水并且通过横梁部分相互分开。因此，诸如喷射开口的喷射结构可位于供给端口中的每一个的两侧。即使喷射结构被相对致密地配置，加热器等也可在不受配置限制的情况下具有必要和足够的尺寸和位置。连接加热器与电源布线或驱动电路的布线也被铺设于用作供给端口的隔壁的横梁部分上。
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公开(公告)号：CN101821105A
公开(公告)日：2010-09-01
申请号：CN200880111115.0
申请日：2008-09-26
申请人： 惠普开发有限公司
IPC分类号： B41J2/14
CPC分类号： B41J2/1404 , B41J2/14112 , B41J2/14145 , B41J2002/14387 , B41J2002/14403 , B41J2002/14475 , B41J2202/11
摘要： 一种流体喷射装置包括：流体腔(110)；在所述流体腔内形成的电阻器(140)；以及与所述流体腔连通的孔口(162)，其中，所述流体喷射装置适于喷射不合水流体的液滴，并且其中，所述电阻器的面积的平方根与所述孔口的直径的比值在大约1.75到大约2.25的范围中。
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公开(公告)号：CN101797842A
公开(公告)日：2010-08-11
申请号：CN201010112069.5
申请日：2010-02-05
申请人： 佳能株式会社
CPC分类号： B41J2/14427 , B41J2/1404 , B41J2/14145 , B41J2002/14387 , B41J2002/14403 , B41J2002/14467 , B41J2202/11
摘要： 本发明提供一种喷墨打印头，其能够通过增大墨喷射频率提高吞吐量并且能够防止多个热施加部之间的串扰，实现以高速打印高品质图像的能力。使供给口的在垂直于热施加部的排列方向的方向上的开口尺寸比电热转换元件的在垂直于热施加部的排列方向的方向上的长度大。以使得供给口在该排列方向上与热施加部相邻的方式沿着该排列方向布置供给口。
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公开(公告)号：CN101081565B
公开(公告)日：2010-06-02
申请号：CN200710104694.3
申请日：2007-05-29
申请人： 佳能株式会社
CPC分类号： B41J2/14145 , B41J2/16532 , B41J2/1707 , B41J2/17513 , B41J2002/16502
摘要： 提供一种用于将通过供墨口引入的墨水通过喷墨出口喷出的喷墨记录头，包括：与所述供墨口流体连通的第一墨水流路；在分支部分从所述第一墨水流路分支出并与所述喷墨出口流体连通的第二墨水流路；以及用于在所述分支部分与外侧流体之间连通的第三墨水流路。
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公开(公告)号：CN101524920A
公开(公告)日：2009-09-09
申请号：CN200910118393.5
申请日：2009-03-05
申请人： 佳能株式会社
IPC分类号： B41J2/14
CPC分类号： B41J2/1404 , B41J2/14129 , B41J2/14145 , B41J2002/14403 , B41J2202/11
摘要： 一种喷墨记录头，其包括：喷出口，其用于喷墨；能量产生元件，其设置在硅基板上，用于产生从喷出口喷墨用的能量；墨流路，其与能量产生元件对应地设置并且与喷出口连通；通孔，其贯通硅基板；以及墨供给口，其用于将供给到通孔中的墨供给到墨流路。利用伸出构件形成墨供给口，该伸出构件接触构成墨流路的流路壁并且伸出到通孔的开口中。
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公开(公告)号：CN101380847A
公开(公告)日：2009-03-11
申请号：CN200810212556.1
申请日：2008-09-05
申请人： 佳能株式会社
CPC分类号： B41J2/14145 , B41J2/1603 , B41J2/1629 , B41J2/1631 , B41J2/1632 , B41J2/1634 , B41J2/1635 , B41J2/1639 , B41J2/1645
摘要： 本发明公开了一种用于制造液体喷射头基底的方法，所述基底包括具有用于供应液体的供给端口的硅基底。所述方法包括：在硅基底表面上设置蚀刻掩模层，所述蚀刻掩模层在与所述供给端口相对应的部分上具有开口；通过经由蚀刻掩模层上的开口对硅基底进行各向异性蚀刻而在所述硅基底上形成第一凹部；在所述硅基底的第一凹部的表面上形成第二凹部，所述第二凹部朝向硅基底的另一表面延伸；和通过从具有第二凹部的表面对所述硅基底进行各向异性蚀刻而形成供给端口。本发明还公开了相应的液体喷射头。
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公开(公告)号：CN101376286A
公开(公告)日：2009-03-04
申请号：CN200810212451.6
申请日：2008-08-29
申请人： 佳能株式会社
CPC分类号： B41J2/1404 , B41J2/14145 , B41J2202/11
摘要： 一种喷液头，包括：多个喷嘴，每一喷嘴包括用于喷射液滴的喷射口；喷射能量产生元件，其设置在与喷射口相对的位置处，用来产生用于喷射液滴的能量；压力腔，该压力腔中设置喷射能量产生元件并且与喷射口流体连通；以及供应通路，其用于将液体供应至压力腔；其中，的多个喷嘴包括第一喷嘴和第二喷嘴，第一喷嘴和第二喷嘴与供应通路中的、长度彼此不同的相应供应通路连通，其中，第一喷嘴和第二喷嘴设置于在用于将液体供应至第一喷嘴的细长的供应腔的宽度方向上的一个端部处，其中，第一喷嘴的供应通路沿着与液体从喷射口喷射的方向垂直的方向延伸，并且与供应腔流体连通，并且其中，第二喷嘴的供应通路沿着与液体的喷射方向平行的方向延伸。
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