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公开(公告)号：CN104769073A
公开(公告)日：2015-07-08
申请号：CN201380057146.3
申请日：2013-06-25
Applicant: 福吉米株式会社
CPC classification number: C09G1/02 , C09K3/1409 , C09K3/1463
Abstract: 提供一种研磨用组合物，其可以充分维持对合金材料的高研磨速度、且提高合金材料表面的平滑性，得到高光泽的表面。本发明为一种研磨用组合物，其用于研磨合金材料的用途，该研磨用组合物包含一次颗粒的平均长径比为1.10以上的二氧化硅颗粒、和pH调节剂。
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公开(公告)号：CN102725374A
公开(公告)日：2012-10-10
申请号：CN201180007110.5
申请日：2011-01-21
Applicant: 福吉米株式会社
CPC classification number: C09K3/1463 , B24B37/044 , C09G1/02 , H01L21/02024 , H01L21/02032
Abstract: 提供一种研磨用组合物，其用于研磨半导体晶片表面以将具有台阶的半导体的表面平坦化并且由此再生所述半导体晶片。所述研磨用组合物至少包括台阶消除剂，所述台阶消除剂吸附至半导体晶片表面并且起到防止在研磨期间蚀刻在所述表面上的台阶底部的作用。所述台阶消除剂为，例如，水溶性高分子或表面活性剂，更具体地，聚乙烯醇类、聚乙烯吡咯烷酮类、聚乙二醇类、纤维素类、羧酸型表面活性剂、磺酸型表面活性剂、磷酸酯型表面活性剂或氧化烯类聚合物。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108068005A
公开(公告)日：2018-05-25
申请号：CN201711106965.9
申请日：2017-11-10
Applicant: 福吉米株式会社
IPC: B24B37/04 , B24B37/005 , C09K3/14
CPC classification number: B24B37/044 , B24B37/0056 , C09K3/1463
Abstract: 本发明提供一种物品的制造方法，提供抑制加工对象物的强度降低、并且将该加工对象物的表面调整为平滑面与粗糙面之间的中间质感的技术。根据本发明，提供具有表面粗糙度Rz为1μm以上粗糙化的霜样表面的物品的制造方法。该方法依次包括如下工序：粗糙化工序，使用包含平均粒径5μm以上且30μm以下的磨粒A1的研磨液S1和研磨垫P1对加工对象面进行研磨，由此使该加工对象面的表面粗糙度Rz上升；精加工研磨工序，使用包含磨粒A2的研磨液S2和研磨垫P2对上述加工对象面进行研磨，由此使该加工对象面的表面粗糙度Rz降低。其中，作为上述研磨垫P2，使用比上述研磨垫P1硬度高的研磨垫。
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公开(公告)号：CN105452416B
公开(公告)日：2018-05-15
申请号：CN201480044100.2
申请日：2014-07-17
Applicant: 福吉米株式会社
CPC classification number: C09K3/1436 , B24B1/00 , B24B37/00 , C09G1/02 , C09K3/1445 , C09K3/1463
Abstract: 本发明课题在于，提供一种能够提高合金材料表面的平滑性并得到高光泽的表面、能够得到使划痕等显著减少的高品质的镜面的研磨用组合物。提供一种研磨用组合物，其用于研磨合金材料的用途，其包含磨粒和添加剂，所述添加剂不与特定的金属种类形成络合物、并吸附在合金表面发挥防腐蚀效果。
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公开(公告)号：CN104769073B
公开(公告)日：2017-03-08
申请号：CN201380057146.3
申请日：2013-06-25
Applicant: 福吉米株式会社
CPC classification number: C09G1/02 , C09K3/1409 , C09K3/1463
Abstract: 提供一种研磨用组合物，其可以充分维持对合金材料的高研磨速度、且提高合金材料表面的平滑性，得到高光泽的表面。本发明为一种研磨用组合物，其用于研磨合金材料的用途，该研磨用组合物包含一次颗粒的平均长径比为1.10以上的二氧化硅颗粒、和pH调节剂。
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公开(公告)号：CN105829097A
公开(公告)日：2016-08-03
申请号：CN201480068374.5
申请日：2014-12-04
Applicant: 福吉米株式会社
Abstract: 本发明提供具备色彩和金属光泽的新型构成的带有金属氧化物膜的物品。此处公开的带有金属氧化物膜的物品的特征在于，其具备：由金属材料形成的基材、和覆盖该基材的表面的由金属氧化物形成的金属氧化物膜，前述金属氧化物膜通过使用由前述金属氧化物形成的颗粒对前述基材的表面进行研磨而形成。
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公开(公告)号：CN104471016A
公开(公告)日：2015-03-25
申请号：CN201380037667.2
申请日：2013-07-16
Applicant: 福吉米株式会社
CPC classification number: C09K3/1436 , B24B37/00 , C09K3/1409 , G11B5/8404
Abstract: 本发明提供一种用于研磨合金材料的用途的合金材料研磨用组合物。合金材料含有：主成分的第1金属种、以及与前述第1金属种不同种类且具有比前述第1金属种的标准电极电位高的标准电极电位的第2金属种。合金材料研磨用组合物含有与碳键合的官能团能捕捉前述第2金属种的化合物。
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