公开(公告)号：CN110325910A

公开(公告)日：2019-10-11

申请号：CN201880013367.3

申请日：2018-08-24

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 林敏映 ,  李泰燮 ,  朴贤旻

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  C07D221/14

Abstract: 本发明涉及光致产酸剂和包含其的用于厚膜的化学增幅型光致抗蚀剂组合物，其中光致产酸剂具有优异的溶解度和感光度，并且除了作为光致产酸剂的效果之外，还具有抗腐蚀效果。因此，包含所述光致产酸剂的用于厚膜的化学增幅型光致抗蚀剂组合物减少了在显影之后在曝光部分处的浮渣和/或基脚。

公开(公告)号：CN109429511A

公开(公告)日：2019-03-05

申请号：CN201880001512.6

申请日：2018-03-16

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 林敏映 ,  李泰燮 ,  金智慧

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明涉及正性光致抗蚀剂组合物、使用其的光致抗蚀剂图案和用于制造图案的方法，所述正性光致抗蚀剂组合物包含含有特定结构的重复单元的丙烯酸类树脂、和光敏酸产生化合物。

公开(公告)号：CN111699206B

公开(公告)日：2022-05-10

申请号：CN201980012719.8

申请日：2019-10-31

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 金智慧 ,  全成浩 ,  林敏映

IPC: C08F232/02 ,  C08F8/34 ,  G03F7/039

Abstract: 本公开内容涉及包含光致产酸剂的聚合物。

公开(公告)号：CN109429511B

公开(公告)日：2022-01-28

申请号：CN201880001512.6

申请日：2018-03-16

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 林敏映 ,  李泰燮 ,  金智慧

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明涉及正性光致抗蚀剂组合物、使用其的光致抗蚀剂图案和用于制造图案的方法，所述正性光致抗蚀剂组合物包含含有特定结构的重复单元的丙烯酸类树脂、和光敏酸产生化合物。

公开(公告)号：CN111670177A

公开(公告)日：2020-09-15

申请号：CN201980010872.7

申请日：2019-10-11

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 朴贤旻 ,  林敏映

IPC: C07C309/23 ,  C07C321/10 ,  G03F7/004 ,  G03F7/032 ,  G03F7/26

Abstract: 本说明书提供了化合物、包含其的光致抗蚀剂组合物、包含其的光致抗蚀剂图案和用于制备光致抗蚀剂图案的方法。

公开(公告)号：CN110178084A

公开(公告)日：2019-08-27

申请号：CN201880006630.6

申请日：2018-11-22

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 安庸植 ,  金容美 ,  林敏映

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/033 ,  G03F7/028 ,  G03F7/11

Abstract: 本发明涉及光致抗蚀剂组合物和使用其的光致抗蚀剂膜，所述光致抗蚀剂组合物能够形成其中在金属表面基底上形成精细图案期间高度感光的同时抑制基脚现象的图案，并且能够产生化学稳定性优异的光致抗蚀剂膜。

公开(公告)号：CN101646977B

公开(公告)日：2014-08-27

申请号：CN200880009943.3

申请日：2008-11-10

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 崔东昌 ,  崔庚铢 ,  池昊燦 ,  车槿英 ,  林敏映 ,  金星炫 ,  金韩修 ,  许闰姬 ,  刘志钦

IPC: G03F7/004

CPC classification number: G03F7/0007 ,  G03F7/033 ,  G03F7/105

Abstract: 本发明的有色分散体包含一种作为粘合剂树脂的含有式1至4的单体的树脂。因此，可提供一种用于具有高遮光性的黑色矩阵的光致抗蚀剂组合物，该组合物含有分散性稳定的本发明有色分散体；并且可制备一种具有均匀的加工特性同时保持高遮光性的高灵敏性黑色矩阵。

公开(公告)号：CN101998947A

公开(公告)日：2011-03-30

申请号：CN200980112763.2

申请日：2009-06-30

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 许闰姬 ,  林敏映 ,  池昊燦 ,  金星炫 ,  金韩修 ,  金善花

IPC: C07C51/54

CPC classification number: C07C59/285 ,  C07C269/02 ,  C07C2603/18 ,  C07C271/16

Abstract: 本发明涉及一种氨基甲酸酯的多官能单体、一种该单体的制备方法，及一种含有该单体的光敏树脂组合物。所述氨基甲酸酯的多官能单体通过反应以下化合物而制备：(a)一种具有至少2个环氧基的环氧化合物，(b)一种具有酸基的二元醇化合物，(c)一种具有烯键式不饱和基和异氰酸酯基的化合物。所述含有本发明的氨基甲酸酯多官能单体的光敏树脂组合物具有较低的粘度和优良的感光性，及突出的耐化学性、耐热性和显影宽容度。

公开(公告)号：CN119866476A

公开(公告)日：2025-04-22

申请号：CN202480003974.7

申请日：2024-05-03

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 金智慧 ,  成知兗 ,  朴贤旻 ,  田圣浩 ,  林敏映

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/075 ,  C08G73/10

Abstract: 本公开内容涉及光敏树脂组合物，并且提供了可溶于环境友好的水性溶剂、可用水性显影溶液显影并且能够提供具有优异的耐化学性、低介电常数特性、低介电损耗特性和机械特性的绝缘膜的光敏树脂组合物。

公开(公告)号：CN111868038B

公开(公告)日：2024-03-12

申请号：CN201980019703.X

申请日：2019-10-11

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 安俊炫 ,  林敏映

IPC: C07D237/24 ,  G03F7/20 ,  G03F7/26 ,  G03F7/004 ,  G03F7/032

Abstract: 本公开内容涉及化合物、包含其的光致抗蚀剂组合物、包含其的光致抗蚀剂图案和用于制备光致抗蚀剂图案的方法。