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公开(公告)号:CN211814161U
公开(公告)日:2020-10-30
申请号:CN201921747964.7
申请日:2019-10-17
Applicant: AGC株式会社
IPC: C03B33/033
Abstract: 本实用新型提供能够充分抑制在玻璃切断时玻璃片飞散,并且能够充分抑制玻璃片向玻璃板的固定的玻璃板的切断线加工机和具备该切断线加工机的切断线加工装置。在对玻璃板的表面加工切断线的玻璃板的切断线加工机中,具备:刀具;以及润滑剂供给装置,其向刀具与玻璃板之间、或者向通过刀具在玻璃板上形成的切断线上供给含有从液体石蜡、硅油、甘油、聚乙二醇所构成的组中选出的至少一种的润滑剂。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号:CN203396363U
公开(公告)日:2014-01-15
申请号:CN201320353689.7
申请日:2013-06-20
Applicant: 川崎重工业株式会社
IPC: G01B11/06 , G01N21/958
CPC classification number: G01N21/896
Abstract: 本实用新型提供一种对具有成型方向的板状玻璃能进行高效率检查的板状玻璃的检查单元及制造设备,根据本实用新型的制造设备(100)的检查单元(20)是向下游传送具有成型方向的板状玻璃(101)的同时进行检查的检查单元。以旋转装置(40)为基准,在其上游及下游中,在一侧配置有平行边缘检查装置(30),在另一侧配置有正交边缘检查装置(50)、面检查装置(60)及线检查装置(70)。
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公开(公告)号:CN2687720Y
公开(公告)日:2005-03-23
申请号:CN03251214.7
申请日:2003-03-13
Applicant: 精工爱普生株式会社
CPC classification number: G03G15/0815 , G03G2215/0116 , G03G2215/06
Abstract: 本实用新型公开了一种显影单元、显影装置、成像设备和计算机系统,其中,显影装置包括:显影剂容器,用于容纳显影剂;显影剂携带件,它设置在显影剂容器的下方并能携带和运送显影剂;显影剂供给件,它设置在显影剂容器的下方,能在邻接区抵靠显影剂携带件,并能将显影剂供给到显影剂携带件;和流动通道限制件,它能限制显影剂容器中所容纳显影剂的流动通道。该流动通道从邻接区的正上方通向该邻接区。
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公开(公告)号:CN1297826C
公开(公告)日:2007-01-31
申请号:CN02127624.2
申请日:2002-08-05
Applicant: 株式会社日立制作所 , 日立化成工业株式会社
IPC: G02B3/08 , G02B5/02 , G02F1/1335
CPC classification number: G02B5/201 , G02B3/0025 , G02B3/0031 , G02B3/0043 , G02B3/0056 , G02B5/021 , G02B5/0268 , G02B5/0284 , G02F1/133553 , G02F2203/03
Abstract: 本发明涉及一种具有基本上环形的微型透镜结构,当在垂直于所述微型透镜结构的长轴或短轴的任何一个面取截面时,该结构由在任何截面的圆形的一部分和非球面曲线构成。本发明涉及一种转印迭片,该转印迭片包括具有转印原始模型的凹凸面形状的凹凸面模型,在所述转印原始模型中布置有多个如上所述的那样的结构,所述结构被转印到被转印的基板上,并且薄膜层叠置于其凹或凸表面上,其中薄膜层的一个对着与临时支撑相接触表面的表面被用作是贴合基板的粘合面。而且,本发明还涉及一种制造漫反射板的方法,该方法包括以下步骤:将转印迭片固定于与薄膜层的粘合面接触的贴合基板上,分离临时支撑,在薄膜层的凹或凸表面上形成反射膜。
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公开(公告)号:CN1402021A
公开(公告)日:2003-03-12
申请号:CN02127624.2
申请日:2002-08-05
Applicant: 株式会社日立制作所 , 日立化成工业株式会社
IPC: G02B3/08 , G02B5/02 , G02F1/1335
CPC classification number: G02B5/201 , G02B3/0025 , G02B3/0031 , G02B3/0043 , G02B3/0056 , G02B5/021 , G02B5/0268 , G02B5/0284 , G02F1/133553 , G02F2203/03
Abstract: 本发明涉及一种具有基本上环形的微型透镜结构,当在垂直于所述微型透镜结构的长轴或短轴的任何一个面取截面时,该结构由在任何截面的圆形的一部分和非球面曲线构成。本发明涉及一种转印迭片,该转印迭片包括具有转印原始模型的凹凸面形状的凹凸面模型,在所述转印原始模型中布置有多个如上所述的那样的结构,所述结构被转印到被转印的基板上,并且薄膜层叠置于其凹或凸表面上,其中薄膜层的一个对着与临时支撑相接触表面的表面被用作是贴合基板的粘合面。而且,本发明还涉及一种制造漫反射板的方法,该方法包括以下步骤:将转印迭片固定于与薄膜层的粘合面接触的贴合基板上,分离临时支撑,在薄膜层的凹或凸表面上形成反射膜。
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公开(公告)号:CN106470755A
公开(公告)日:2017-03-01
申请号:CN201580033998.8
申请日:2015-06-16
Applicant: 佐竹化学机械工业株式会社 , 日挥株式会社
Abstract: 本发明的目的是提供一种使被搅拌物获得良好的气体吸附作用的往复式搅拌装置。该往复式搅拌装置包括:插入被搅拌物(3)的搅拌容器轴(4)、以交叉的方式连接固定于该驱动轴(4)的搅拌叶片(8)以及微细气泡发生装置(9),该微细气泡发生装置(9)包括由多孔质体(19)形成的分布器(10)和向该分布器(10)供给气体的气体供给机构,被该气体供给机构供给到所述分布器(10)的气体通过所述多孔质体(19)的细孔(21)在所述被搅拌物(3)内产生气泡。(2)、设置在该搅拌容器(2)内的往复运动的驱动
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公开(公告)号:CN112236418B
公开(公告)日:2023-10-31
申请号:CN201980036936.0
申请日:2019-06-11
IPC: C07D249/12
Abstract: 本发明提供以高纯度、高产率而工业化制造三唑烷二酮化合物的方法。实施制备包含下述式(1)表示的三唑烷二酮化合物的溶液、并使三唑烷二酮化合物析出的析出工序,此时,使溶液的pH为3.0~8.5,使溶液包含相对于1质量份的三唑烷二酮化合物而言为3~15容量份的溶剂。式(1)中,R1为具有取代或未取代的氨基的有机基团。#imgabs0#
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公开(公告)号:CN112236418A
公开(公告)日:2021-01-15
申请号:CN201980036936.0
申请日:2019-06-11
IPC: C07D249/12
Abstract: 本发明提供以高纯度、高产率而工业化制造三唑烷二酮化合物的方法。实施制备包含下述式(1)表示的三唑烷二酮化合物的溶液、并使三唑烷二酮化合物析出的析出工序,此时,使溶液的pH为3.0~8.5,使溶液包含相对于1质量份的三唑烷二酮化合物而言为3~15容量份的溶剂。式(1)中,R1为具有取代或未取代的氨基的有机基团。
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公开(公告)号:CN1643433A
公开(公告)日:2005-07-20
申请号:CN03807355.2
申请日:2003-03-27
CPC classification number: G02B6/3572 , G02B6/3514 , G02B6/353 , G02B6/3548 , G02B6/3566 , G02B6/3584 , G02B6/3596
Abstract: 一种光学装置,将插入板保持在具有电气布线的板状悬臂中,将板状磁铁布置成面向悬臂的一个表面,悬臂的该表面是与悬臂面向光波导的另一表面相反的表面,在此状态下控制电气布线中的电流,通过基于所述电流和所述磁场的相互作用的洛伦兹力,移动所述悬臂,从而驱动所述插入板在光波导中设置的开口中上下动作,向该开口插入或从中拔出,从而切换信号光的光路或进行光束的光量的调整。
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