公开(公告)号：CN308496320S

公开(公告)日：2024-03-05

申请号：CN202230438293.7

申请日：2022-07-11

Applicant: 应用材料公司

Designer： 梁志修 ,  迈克尔·斯特林·杰克逊 ,  吕疆 ,  振雄蔡 ,  松下智治 ,  黄祖滨

Abstract: 1.本外观设计产品的名称：用于基板处理腔室的基板支撑件。
2.本外观设计产品的用途：本外观设计产品用作用于基板处理腔室的支撑件，例如在
微电子器件和薄膜制造中使用的用于基板处理腔室的支撑件。
3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。
4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图。
4

公开(公告)号：CN307491737S

公开(公告)日：2022-08-09

申请号：CN202230140274.6

申请日：2022-03-17

Applicant: 应用材料公司

Designer： 黄祖滨 ,  斯里尼瓦斯·托库尔·莫哈纳 ,  斯里尼瓦斯·帕蒂尔·尚塔韦拉斯瓦米 ,  山帝仕·亚当 ,  拉维·加勒巴利 ,  哈普利特·辛格 ,  曼朱纳塔·特鲁格

Abstract: 1.本外观设计产品的名称：遮蔽环升降板。
2.本外观设计产品的用途：本外观设计产品用作用于基板处理系统的遮蔽环升降板。
3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。
4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图1。

公开(公告)号：CN308962345S

公开(公告)日：2024-11-22

申请号：CN202330664597.X

申请日：2022-07-11

Applicant: 应用材料公司

Designer： 梁志修 ,  迈克尔·斯特林·杰克逊 ,  吕疆 ,  振雄蔡 ,  松下智治 ,  黄祖滨

Abstract: 1.本外观设计产品的名称：用于基板处理腔室的基板支撑件。
2.本外观设计产品的用途：本外观设计产品用作用于基板处理腔室的支撑件，例如在微电子器件和薄膜制造中使用的用于基板处理腔室的支撑件。
3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。
4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图。
5.其他需要说明的情形其他说明：视图中的虚线代表不要求保护的环境，并且不构成所要求保护的设计的部分。

公开(公告)号：CN308638578S

公开(公告)日：2024-05-14

申请号：CN202230438294.1

申请日：2022-07-11

Applicant: 应用材料公司

Designer： 梁志修 ,  迈克尔·斯特林·杰克逊 ,  吕疆 ,  振雄蔡 ,  松下智治 ,  黄祖滨

Abstract: 1.本外观设计产品的名称：基板支撑件的上部。
2.本外观设计产品的用途：用于基板处理腔室的支撑件，例如在微电子器件和薄膜制造中使用的用于基板处理腔室的支撑件。
3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。
4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图。
5.其他需要说明的情形其他说明：视图中的虚线代表不要求保护的环境，并且不构成所要求保护的设计的部分。

公开(公告)号：CN307489883S

公开(公告)日：2022-08-09

申请号：CN202230154597.0

申请日：2022-03-23

Applicant: 应用材料公司

Designer： 黄祖滨 ,  斯里尼瓦斯·托库尔·莫哈纳 ,  斯里尼瓦斯·帕蒂尔·尚塔韦拉斯瓦米 ,  山帝仕·亚达马尼 ,  拉维·加勒巴利 ,  哈普利特·辛格 ,  曼朱纳塔·科帕

Abstract: 1.本外观设计产品的名称：遮蔽环升降杆。
2.本外观设计产品的用途：本外观设计产品用作用于基板处理系统的遮蔽环升降杆。
3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。
4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图1。