公开(公告)号：CN105074877A

公开(公告)日：2015-11-18

申请号：CN201480009306.1

申请日：2014-02-25

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 詹姆斯·马修·霍尔登 ,  徐松文 ,  托德·伊根 ,  卡利安吉特·戈什 ,  利昂·沃尔福夫斯基 ,  迈克尔·R·赖斯 ,  理查德·吉利朱姆

IPC: H01L21/30

CPC classification number: H01L21/67028 ,  B01D39/12 ,  B08B5/00 ,  B08B7/00 ,  H01L21/02076 ,  H01L21/02087 ,  H01L21/0209 ,  H01L21/67051

Abstract: 一种基板清洁设备可包括：基板支撑件，该基板支撑件具有支撑表面，以支撑待清洁的基板，其中该基板支撑件可围绕垂直于支撑表面的中心轴旋转；第一喷嘴，当基板支撑件的支撑表面支撑该基板时，该第一喷嘴将第一清洁气体提供至内部空间的区域，该区域对应于基板的边缘的位置；第一环形主体，该第一环形主体设置于基板支撑件的支撑表面的相对面，且与该基板支撑件的支撑表面间隔开缝隙，该第一环形主体具有中央开口，该中央开口由内壁界定，该内壁经塑形以在径向向外的方向上于第一环形主体与支撑表面之间提供减小尺寸的缝隙；和第一气体入口，该第一气体入口将第一气体提供至第一环形主体的中央开口。