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公开(公告)号：CN115516618A
公开(公告)日：2022-12-23
申请号：CN202180033759.8
申请日：2021-04-12
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 斯里纳·索维纳哈里 , 克兰库玛尔·纽拉桑德拉·萨凡迪亚 , 巴斯卡尔·普拉萨德 , 斯里尼瓦萨·拉奥·耶德拉 , 托马斯·布里泽哲科
IPC: H01L21/687 , C23C16/458
Abstract: 一种用于将基板相对于基板支撑件定位的浮动销，包括被配置为移动通过基板支撑件中的导引孔的轴部，以及包括顶部表面及设置在该顶部表面与该轴部之间的平坦肩部表面的销头。该平坦肩部表面被配置为座设在该基板支撑件的凹入表面上且密封该基板支撑件的该导引孔。
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公开(公告)号：CN114945704A
公开(公告)日：2022-08-26
申请号：CN202180009414.9
申请日：2021-12-14
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 克兰库玛尔·纽拉桑德拉·萨凡迪亚 , 谢恩·拉万 , S·R·V·雷迪 , 兰德尔·迪恩·施米丁 , 曹勇
Abstract: 本文提供使用于处理腔室中的处理屏蔽件的实施方式。在一些实施方式中，使用于处理腔室中的处理屏蔽件包括：环状主体，该环状主体具有上部分及下部分，该下部分从该上部分向下且径向向内延伸，其中该上部分在该上部分的上表面上包括多个环状凹槽，且具有设置于该多个环状凹槽之间的多个插槽，以流体地连接该多个环状凹槽，其中一个或多个入口从该环状主体的外表面延伸至该多个环状凹槽的最外凹槽。
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公开(公告)号：CN114930492A
公开(公告)日：2022-08-19
申请号：CN202180008382.0
申请日：2021-06-22
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 克兰库玛尔·纽拉桑德拉·萨凡迪亚 , 基思·A·米勒 , 斯里尼瓦萨·拉奥·耶德拉 , 强德拉塞卡·肯查帕 , 马丁·李·瑞克
IPC: H01J37/32
Abstract: 本文提供了用于在等离子体处理腔室中使用的处理套件的实施方式。在一些实施方式中，一种用于在处理腔室中使用的处理套件包括：环形主体，该环形主体具有上部部分和从上部部分向下并径向向内延伸的下部部分，其中环形主体包括内表面，该内表面具有向下延伸的第一区段、从第一区段径向向外延伸的第二区段、从第二区段向下延伸的第三区段、从第三区段径向向外延伸的第四区段、从第四区段向下延伸的第五区段、从第五区段径向向内延伸的第六区段、从第六区段向下延伸的第七区段、及从第七区段径向向内延伸的第八区段。
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公开(公告)号：CN111602235A
公开(公告)日：2020-08-28
申请号：CN201980008457.8
申请日：2019-01-18
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 阿道夫·M·艾伦 , 克兰库玛尔·纽拉桑德拉·萨凡迪亚 , 兰德尔·D·施密丁 , 凡妮莎·法恩
IPC: H01L21/687 , H01L21/683 , C23C14/34
Abstract: 处理配件包括屏蔽件及环组件，用于在处理腔室中围绕基板支撑件定位，以减少处理沉积物在内部腔室部件及基板的悬伸边缘上的沉积。屏蔽件包括圆筒形带，该圆筒形带具有顶壁及底壁的倾斜部分，该顶壁被配置为围绕溅射靶材，该底壁的倾斜部分具有实质直的轮廓、具有气体传导孔且被配置为围绕基板支撑件。环组件包括盖环，该盖环具有围绕所述环的周边的球形突起。盖环的球形突起能够阻挡屏蔽件上的气体传导孔与处理腔室中的腔室主体空腔的入口之间的视线。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN308929832S
公开(公告)日：2024-11-08
申请号：CN202430179918.1
申请日：2024-04-02
Applicant: 应用材料公司
Designer： 巴斯卡尔·普拉萨德 , 托马斯·布里泽哲科 , 克兰库玛尔·纽拉桑德拉·萨凡迪亚 , 阿迪蒂亚·库马尔 , 维杰·帕蒂尔
Abstract: 1.本外观设计产品的名称：基板载体。
2.本外观设计产品的用途：本外观设计产品用作基板载体。
3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。
4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图1。
5.其他需要说明的情形其他说明：立体图1是基板载体的顶部右前方角度的视图，立体图2是底部左前方角度的视图。-
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公开(公告)号：CN305076439S
公开(公告)日：2019-03-22
申请号：CN201830507044.2
申请日：2018-09-10
Applicant: 应用材料公司
Designer： 威廉·R·约翰逊 , 克兰库玛尔·纽拉桑德拉·萨凡迪亚 , 普拉桑特·普拉巴卡尔·普拉布
Abstract: 1．本外观设计产品的名称：靶垫。
2．本外观设计产品的用途：本外观设计产品用于物理气相沉积腔靶的靶垫。
3．本外观设计产品的设计要点：产品的形状。
4．最能表明本外观设计设计要点的图片或照片：设计1立体图1。
5．指定基本设计：设计1与设计2、设计3、设计4、设计5、设计6为相似外观设计，设计1为基本设计。-
公开(公告)号：CN306687495S
公开(公告)日：2021-07-16
申请号：CN202030570947.2
申请日：2020-09-23
Applicant: 应用材料公司
Designer： 马丁·里克 , 威廉·弗鲁赫特曼 , 伊利亚·拉维特斯凯 , 斯里尼瓦萨·拉奥·耶德拉 , 克兰库玛尔·纽拉桑德拉·萨凡迪亚
Abstract: 1.本外观设计产品的名称：用于物理气相沉积腔室的溅射靶。
2.本外观设计产品的用途：本外观设计产品用作用于物理气相沉积腔室的溅射靶。
3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。
4.最能表明设计要点的图片或照片：设计1立体图。
5.指定设计1为基本设计。-
公开(公告)号：CN306285252S
公开(公告)日：2021-01-15
申请号：CN202030061024.4
申请日：2020-02-26
Applicant: 应用材料公司
Designer： 克兰库玛尔·纽拉桑德拉·萨凡迪亚 , 大卫·冈瑟 , 许绍杰
Abstract: 1.本外观设计产品的名称：用于物理气相沉积腔室的溅射靶。
2.本外观设计产品的用途：本外观设计产品用作用于物理气相沉积腔室的溅射靶。
3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。
4.最能表明设计要点的图片或照片：设计1立体图1。
5.指定设计1为基本设计。
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