一种肖特基势垒二极管可靠性的预测方法

    公开(公告)号:CN117151012A

    公开(公告)日:2023-12-01

    申请号:CN202311312876.5

    申请日:2023-10-11

    Abstract: 本发明的一种肖特基势垒二极管可靠性的预测方法,涉及肖特基势垒二极管可靠性建模并通过建模获得可靠性预测的方法。目的是为了克服现有肖特基势垒二极管的可靠性预测方法复杂度高,计算效率低,模型可解释性也较差的问题,具体步骤如下:步骤一、将需预测可靠性的肖特基势垒二极管的预计工作时长输入至训练好的可靠性预测模型,得到肖特基势垒二极管的可靠性参数预测值;步骤二、将可靠性参数预测值与预设的可靠性参数阈值比较,在可靠性参数预测值小于可靠性参数阈值时,判断肖特基势垒二极管在预计工作时长后为可靠。

    一种太阳电池低温量子效率试验装置及其方法

    公开(公告)号:CN114236339A

    公开(公告)日:2022-03-25

    申请号:CN202111546467.2

    申请日:2021-12-16

    Abstract: 本发明公开了一种太阳电池低温量子效率试验装置及其方法,该装置包括:恒温真空舱、光源控制单元、氙灯光源、测试单元和控制模块;方法包括以下步骤:S1.氙灯光源产生入射光;入射光包括单色光和偏置光;S2.将恒温真空舱横向放置,舱头部的光学窗口正对单色光下方,确保单色光和偏置光入射至待测电池表面,通过探针连接待测电池电极,并通过测试线将探针与测试单元相连,确认无断触后关闭舱门;S3.将恒温真空舱抽成真空;S4.达到真空度要求后进行降温;S5.通过测试单元进行量子效率性能测试得到量子效率曲线,根据量子效率曲线获取短路电流密度,以及半导体材料在当前温度下的带隙。本发明为深空太阳电池低温量子效率测试提供了试验条件。

    基于深层离子注入的氧化镓肖特基二极管抗位移辐照方法

    公开(公告)号:CN110473787B

    公开(公告)日:2022-03-25

    申请号:CN201910774716.X

    申请日:2019-08-21

    Abstract: 一种基于深层离子注入的氧化镓肖特基二极管抗位移辐照方法,属于二极管微电子技术领域。本发明针对现有氧化镓肖特基二极管在带电粒子辐照环境中抗位移辐照能力差,易造成其正向及反向特性退化的问题。它根据原Ga2O3肖特基二极管的结构参数,确定离子的待注入位置,并模拟确定所述离子的能量和射程;再模拟获得离子注入后Ga2O3肖特基二极管正向及反向目标特性变化曲线,记录目标特性变化曲线的变化量小于原Ga2O3肖特基二极管正向及反向特性变化曲线10%时的离子注入量;再计算离子注入机的离子源电压、离子束电流和离子注入时间;设置离子注入机,对原Ga2O3肖特基二极管进行离子注入并进行退火处理。本发明用于氧化镓肖特基二极管的加固。

    一种抗单粒子多节点翻转的近阈值SRAM存储单元

    公开(公告)号:CN109658962B

    公开(公告)日:2021-06-29

    申请号:CN201811554118.3

    申请日:2018-12-19

    Abstract: 一种抗单粒子多节点翻转的近阈值SRAM存储单元,它涉及一种SRAM存储单元,本发明要解决目前没有既能在近阈值或亚阈值电压区域工作,又能有效抵抗单粒子多节点翻转效应的SRAM存储单元结构的问题,本发明通过设计冗余加固技术以及合理的结构设计,增加了电路的内部节点数量从而达到抗单粒子翻转的目的;通过极性加固技术,对电路结构中的特定节点进行了抗单粒子翻转加固保护;此外,还通过版图加固技术,实现了对可能发生多节点翻转的节点对的隔离。在电路级和版图级加固的联合作用下,所提出的近阈值SRAM存储单元具备抵抗单粒子多节点翻转的能力。满足了低电压应用领域对抗单粒子多节点翻转近阈值SRAM存储单元的设计需求。

    基于深层离子注入的氧化镓肖特基二极管抗位移辐照方法

    公开(公告)号:CN110473787A

    公开(公告)日:2019-11-19

    申请号:CN201910774716.X

    申请日:2019-08-21

    Abstract: 一种基于深层离子注入的氧化镓肖特基二极管抗位移辐照方法,属于二极管微电子技术领域。本发明针对现有氧化镓肖特基二极管在带电粒子辐照环境中抗位移辐照能力差,易造成其正向及反向特性退化的问题。它根据原Ga2O3肖特基二极管的结构参数,确定离子的待注入位置,并模拟确定所述离子的能量和射程;再模拟获得离子注入后Ga2O3肖特基二极管正向及反向目标特性变化曲线,记录目标特性变化曲线的变化量小于原Ga2O3肖特基二极管正向及反向特性变化曲线10%时的离子注入量;再计算离子注入机的离子源电压、离子束电流和离子注入时间;设置离子注入机,对原Ga2O3肖特基二极管进行离子注入并进行退火处理。本发明用于氧化镓肖特基二极管的加固。

    模拟不同注量率中子辐照的试验方法

    公开(公告)号:CN106501284B

    公开(公告)日:2019-11-15

    申请号:CN201610911409.8

    申请日:2016-10-19

    Abstract: 模拟不同注量率中子辐照的试验方法,涉及材料和器件的辐照试验。为了解决采用中子辐照产生的位移辐射损伤易形成位移缺陷,进而造成材料和器件性能退化的问题。所述方法为:选择重离子的类型和注量率,利用选择的重离子对材料和器件进行辐照,使所述材料和器件产生的位移损伤程度与待模拟注量率的中子辐照产生的位移损伤程度相同。选择的重离子的射程大于材料的厚度或器件有源区深度的2倍。在满足重离子加速器的要求的前提下,选择的重离子的注量率的范围为104~109ion/cm2·s,在所述范围内选择重离子的类型,使一个重离子产生的位移吸收剂量最小。本发明基于重离子辐照实现不同注量率中子辐照所产生的位移缺陷状态,原位检测性能退。

    基于深层离子注入方式的PIN二极管抗位移辐照加固方法

    公开(公告)号:CN109888025A

    公开(公告)日:2019-06-14

    申请号:CN201910219155.7

    申请日:2019-03-21

    Abstract: 本发明一种基于深层离子注入方式的PIN二极管抗位移辐照加固方法涉及半导体器件领域,目的是为了克服PIN二极管受空间辐照效应,导致本征区的载流子被辐射缺陷俘获造成正向特性的退化的问题,具体方法为:步骤一、通过PIN二极管的结构参数和需注入PIN二极管的离子类型,计算离子注入所述PIN二极管的离子注入深度D和与离子注入深度D所对应的离子能量E;步骤二、计算离子注入量Ф;步骤三、通过所述离子能量E计算离子源电压值V;步骤四、通过所述离子注入量Ф确定离子注入时间t,并计算离子束电流值I;步骤五、根据所述离子注入深度D、离子源电压值V、离子束电流值I和离子注入时间t,向PIN二极管的本征区注入离子。

    芳香族聚合物绝缘材料的位移辐射损伤等效性评价方法

    公开(公告)号:CN106404810B

    公开(公告)日:2019-04-09

    申请号:CN201610911383.7

    申请日:2016-10-19

    Abstract: 芳香族聚合物绝缘材料的位移辐射损伤等效性评价方法,涉及粒子辐射环境用芳香族聚合物绝缘材料不同辐照源位移辐照效应等效性的评价方法。解决了现有的辐射环境用芳香族聚合物材料空间辐照效应评价误差大的问题。首先计算各辐射源在待测材料样品中的位移辐射吸收剂量及射程;根据各辐射源在待测材料样品中的射程,确定待测材料样品厚度,使每种辐射源对应一块待测材料样品进行辐照试验,使各辐射源的辐照粒子完全穿透所对应的待测材料样品的厚度;辐照后,绘制各辐射源在辐照条件下的微观结构分析获得的各物理量与位移辐射吸收剂量的关系曲线,及性能测试获得的各物理量与位移辐射吸收剂量的关系曲线。本方法用于对芳香族聚合物绝缘材料进行评价。

    电子材料及器件热循环与带电粒子辐照综合环境试验方法

    公开(公告)号:CN106569055A

    公开(公告)日:2017-04-19

    申请号:CN201610911384.1

    申请日:2016-10-19

    CPC classification number: G01R31/003

    Abstract: 电子材料及器件热循环与带电粒子辐照综合环境试验方法,属于空间环境效应领域。为了解决目前的倒闸操作票托板在特殊情况下使用不便的问题。所述方法包括:步骤一:根据待模拟的综合环境,设定环境因素:真空度、热循环条件和辐照条件;步骤二:控制各环境因素的作用次序,对待测电子材料或器件产生损伤,进行综合环境试验。本发明的应用不同类型地面单因素及多因素环境,步骤简单,易于操作。本发明所提出方法能够大幅度降低试验的费用,对电子材料和器件空间环境效应地面模拟试验和研究具有重大的意义。

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