公开(公告)号：CN108627968B

公开(公告)日：2019-05-07

申请号：CN201810437726.X

申请日：2018-05-09

Applicant: 哈尔滨工业大学

Inventor： 吴剑威 ,  温众普 ,  张银 ,  彬德尔 ,  崔继文 ,  谭久彬

IPC: G02B26/00 ,  G02B26/10

Abstract: 本发明公开一种多光阑共面的可变狭缝装置；该装置通过4只光阑片首尾相接并构成了矩形的狭缝式窗口，定位刀口平行安装在相邻的光阑片的运刀槽内，狭缝刀口平行安装在相邻的光阑片的定位刀槽内，实现了扫描窗口的4边共面，进而消除了由于边缘衍射对曝光均匀性的影响。本发明可用于建立一种高分辨率、高运动/定位精度的投影式曝光装置。

公开(公告)号：CN113917791B

公开(公告)日：2022-07-12

申请号：CN202111109804.1

申请日：2021-09-22

Applicant: 哈尔滨工业大学

Inventor： 赵鹏越 ,  赵博 ,  吴剑威 ,  李昌其 ,  潘健生 ,  张银 ,  谭久彬

IPC: G03F7/20 ,  F16F15/02 ,  F16F15/023

Abstract: 本发明涉及光刻设备技术领域，公开了一种用于光刻机的隔振装置，其包括基座、隔振平台、悬挂部、第一隔振机构、第二隔振机构和控制器，控制器可控制第一隔振机构对外界环境传递到隔振平台的振动或隔振平台上其他部件产生的振动进行减振处理，使得隔振平台下的悬挂部受到的振动干扰最小化，为安装在悬挂部上的工件台提供稳定的外部工作环境，控制器可控制第二隔振机构对工件台自身产生的振动进行减振处理，从而维持内部工作环境的稳定，也即，第一隔振机构和第二隔振机构相配合，协同优化了悬挂部内部和外部的隔振效果，为光刻机工件台及整机提供了稳定的运作环境，提高了工件台的运动精度。

公开(公告)号：CN113917791A

公开(公告)日：2022-01-11

申请号：CN202111109804.1

申请日：2021-09-22

Applicant: 哈尔滨工业大学

Inventor： 赵鹏越 ,  赵博 ,  吴剑威 ,  李昌其 ,  潘健生 ,  张银 ,  谭久彬

IPC: G03F7/20 ,  F16F15/02 ,  F16F15/023

Abstract: 本发明涉及光刻设备技术领域，公开了一种用于光刻机的隔振装置，其包括基座、隔振平台、悬挂部、第一隔振机构、第二隔振机构和控制器，控制器可控制第一隔振机构对外界环境传递到隔振平台的振动或隔振平台上其他部件产生的振动进行减振处理，使得隔振平台下的悬挂部受到的振动干扰最小化，为安装在悬挂部上的工件台提供稳定的外部工作环境，控制器可控制第二隔振机构对工件台自身产生的振动进行减振处理，从而维持内部工作环境的稳定，也即，第一隔振机构和第二隔振机构相配合，协同优化了悬挂部内部和外部的隔振效果，为光刻机工件台及整机提供了稳定的运作环境，提高了工件台的运动精度。

公开(公告)号：CN108594603B

公开(公告)日：2019-03-29

申请号：CN201810437738.2

申请日：2018-05-09

Applicant: 哈尔滨工业大学

Inventor： 吴剑威 ,  温众普 ,  张银 ,  谭久彬

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明公开一种基于双层气浮的悬臂式直线运动基准装置；该装置通过双层的力封闭式气浮结构，实现了二维的气浮支承与导向，并提高了单位气浮工作面上的转动刚度，最终通过结合精密驱动与反馈控制，达到高速、高加速、高频运动的目的。本发明可建立一种体积小、悬臂长、转矩载荷大的二维运动基准装置。

公开(公告)号：CN108594603A

公开(公告)日：2018-09-28

申请号：CN201810437738.2

申请日：2018-05-09

Applicant: 哈尔滨工业大学

Inventor： 吴剑威 ,  温众普 ,  张银 ,  谭久彬

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明公开一种基于双层气浮的悬臂式直线运动基准装置；该装置通过双层的力封闭式气浮结构，实现了二维的气浮支承与导向，并提高了单位气浮工作面上的转动刚度，最终通过结合精密驱动与反馈控制，达到高速、高加速、高频运动的目的。本发明可建立一种体积小、悬臂长、转矩载荷大的二维运动基准装置。

公开(公告)号：CN105549330A

公开(公告)日：2016-05-04

申请号：CN201610023013.X

申请日：2016-01-14

Applicant: 哈尔滨工业大学

Inventor： 谭久彬 ,  吴剑威 ,  张银

IPC: G03F7/20 ,  H02N15/00

CPC classification number: G03F7/70733 ,  G03F7/70716 ,  H02N15/00

Abstract: 基于主动平衡质量动线圈磁浮双工件台矢量圆弧换台方法及装置属于半导体制造装备技术，该装置包括支撑框架、平衡质量块、磁浮工件台、工件台测量装置、工件台驱动装置，两个工件台工作于测量位和曝光位之间，采用平面光栅对工件台位置进行测量，采用双电机曲柄摇杆机构组成的主动补偿结构对平衡质量块进行运动补偿，工件台采用磁悬浮平面电机驱动，采用双层水冷散热降温，双工件台交换过程中，采用平面电机驱动两个工件台实现单节拍弧线快速换台；本发明解决了现有换台方案节拍多、轨迹长、起停环节多、稳定时间长等问题，减少换台环节，缩短了换台时间，提高了光刻机的产率。