一种基于相位误差自动校正的高频晶体振荡器

    公开(公告)号:CN115498998B

    公开(公告)日:2023-02-21

    申请号:CN202211419950.9

    申请日:2022-11-14

    Abstract: 本发明公开了一种基于相位误差自动校正的高频晶体振荡器,包括高频晶体、负载电容、两个单刀双掷开关、环形振荡器、8分频电路、扭环形计数器、峰值检测器、缓冲器、数字模块、多路选择器和放大器,本发明在电路对高频晶体进行能量注入的同时,检测注入信号与晶体振荡信号之间的相位误差并自动校正,使相位误差始终小于45°。本发明保证了高频晶体内部能量持续高效的线性增长,大大降低晶体达到稳定振荡幅度所需的启动时间,实现快速启动;且基于相位误差自动校正技术,本发明在极大地降低启动时间的同时,大幅降低了产生能量注入信号的信号源频率精度要求,本发明显著地提升了芯片良率。

    一种基于灵活可配置模块的芯粒测试电路

    公开(公告)号:CN115295065A

    公开(公告)日:2022-11-04

    申请号:CN202211224306.6

    申请日:2022-10-09

    Abstract: 本发明涉及超大规模集成电路可测性设计领域,公开了一种基于灵活可配置模块的芯粒测试电路,电路核心结构位于中介层,包括灵活可配置模块FCM、控制信号配置模块和测试状态控制模块;FCM采用双路斜对称结构,实现水平方向及垂直方向的数据传输;控制信号配置模块连接所有FCM的控制信号,控制着所有FCM的数据传输方向以及导通和截断状态;测试状态控制模块控制着FCM和控制信号配置模块内部数据的移位和更新操作。本发明可满足多种场景芯粒的测试需求,实现对原有DFT测试逻辑的复用,满足芯粒即插即用的策略,提升测试的灵活性和可控性。

    一种非晶氧化物半导体薄膜晶体管及其制备方法

    公开(公告)号:CN115084276A

    公开(公告)日:2022-09-20

    申请号:CN202210672743.8

    申请日:2022-06-15

    Abstract: 本申请提供一种非晶氧化物半导体薄膜晶体管及其制备方法,包括衬底层、支撑层、栅电极层、栅绝缘层、IGZO有源层、刻蚀阻挡层、源区电极、漏区电极以及漏极场板;栅电极层在水平方向上与源区电极存在交叠区,与漏区电极之间存在非交叠区域,该非交叠区域形成漏极偏移区,刻蚀阻挡层位于IGZO有源层上方,左侧末端与源区电极层右侧末端相切,右侧末端与漏区电极左侧末端相切,漏极场板设于刻蚀阻挡层上方,与漏区电极层左侧末端相连,在水平方向上延伸至栅电极层上方,漏极场板结构通过覆盖于漏极偏移区上方,实现了对该区域处IGZO有源层中载流子浓度的调控,减小电阻,以及降低该处电场分布,改善器件的耐压特性,提升了IGZO薄膜晶体管的功率密度。

    一种可调谐的多级放大器结构
    25.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114301404A

    公开(公告)日:2022-04-08

    申请号:CN202111659207.6

    申请日:2021-12-30

    Abstract: 本发明公开了一种可调谐的多级放大器结构,该技术属于集成电路领域,包括N个级联的放大器,多级放大器输入端和第一级放大器之间通过输入匹配网络连接,第N级放大器与多级放大器输出端之间通过输出匹配网络连接,相邻两个级间的放大器通过级间匹配网络连接,所述输入匹配网络、输出匹配网络和级间匹配网络均连接可调节元件,相邻级间还设有与可调节元件连接的功率识别器。本发明在每一匹配网络都加入了可调节元件以调整频率;根据放大器具体级数N,加入N+1个功率识别器,用来检测功率的大小,通过该识别器检测到的功率,来调整输入匹配网络的电容,进行选择合适的电容,从而提高放大器整体性能。

    一种增益增强的分布式放大器结构

    公开(公告)号:CN114094963A

    公开(公告)日:2022-02-25

    申请号:CN202111420437.7

    申请日:2021-11-26

    Abstract: 本发明公开了一种增益增强的分布式放大器结构,实现的放大器增强功能包括三个方面:1.针对有源部分未匹配,在有源部分插入一个级间匹配;2.为了提高性能,提高增益,可以把前一个的信号通过耦合,引导到下一个的输入级,耦合的方法有2种,其一:电容直接通过电场发生耦合,其二:两个电感构成一个变压器通过此磁场发生耦合;3.为了提高输入能量传输效率,考虑到不同频率信号的在传输线中传输的特性不同,所以设置了每一级的输入输出网络的传输线的线长都不相同,这样能够将信号的传输效率最大化;通过以上方法均可提高分布式放大器的增益。

    一种三向电场可控的LDMOS及其制备方法

    公开(公告)号:CN112750911A

    公开(公告)日:2021-05-04

    申请号:CN202110147388.8

    申请日:2021-02-03

    Abstract: 本发明公开了一种三向电场可控的LDMOS,包括半导体衬底、埋层、有源区,所述有源区包括半导体漏区、条形半导体漂移区和半导体阱区,所述半导体漏区位于条形半导体漂移区一侧台阶处的上方,所述半导体阱区位于条形半导体漂移区的另一侧;三向控制电极,位于条形半导体漂移区的两侧及表面,所述三向控制电极与条形半导体漂移区之间为介质层;三栅电极,位于沟道区的两侧及顶部,形成三栅结构。本发明还公开了一种三向电场可控的LDMOS制备方法。本发明设置三向控制电极,能够获得较高的击穿电压,有效降低LDMOS的导通电阻;设置三栅电极,提供了良好的沟道控制能力,降低器件关闭时的漏电流,并抑制短沟道效应,大大降低阈值电压的迟滞。

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