公开(公告)号：CN102398423A

公开(公告)日：2012-04-04

申请号：CN201110262633.6

申请日：2011-09-07

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 松本圭司 ,  小山修司 ,  横山宇 ,  藤井谦儿 ,  山室纯

IPC: B41J2/16

CPC classification number: B41J2/1603 ,  B41J2/1606 ,  B41J2/1628 ,  B41J2/1629 ,  B41J2/1632 ,  B41J2/1634 ,  Y10T29/49401

Abstract: 本发明提供了一种液体喷射头的制造方法，该方法包括以下的步骤：制备具有流路壁部件的基板；使流路壁部件与由光固化树脂构成并且用作喷射口部件的树脂层接合使得在内侧提供用作流路的空间；在树脂层中设置通孔，使得空间与外部空气连通；将树脂层的一部分曝光；加热树脂层的曝光部分；和从加热的树脂层去除未曝光部分以形成喷射口，由此在树脂层中形成喷射口部件。

公开(公告)号：CN101032885A

公开(公告)日：2007-09-12

申请号：CN200710080082.5

申请日：2007-03-07

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 坂井稔康 ,  小山修司 ,  小野贤二 ,  山室纯

IPC: B41J2/16 ,  B41J2/14

CPC classification number: B41J2/1603 ,  B41J2/1628 ,  B41J2/1631 ,  B41J2/1632 ,  B41J2/1634 ,  B41J2/1635 ,  B41J2/1639 ,  B41J2/1645 ,  H01L21/76898

Abstract: 本发明提供一种喷墨头基片和喷墨头及其制造方法。该喷墨头基片的制造方法包括在硅基片中形成供墨口，该方法包括：在基片的一面形成蚀刻掩模层的步骤，该蚀刻掩模层在与供墨口相对应的位置处具有开口；沿开口的长度方向形成至少两行通过蚀刻掩模层的开口的未穿透孔的步骤；以及通过在开口中对基片进行晶体各向异性蚀刻来形成供墨口的步骤。

公开(公告)号：CN1621236A

公开(公告)日：2005-06-01

申请号：CN200410097310.6

申请日：2004-11-26

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 藤井谦儿 ,  小山修司 ,  大角正纪 ,  永田真吾 ,  山室纯 ,  田川义则 ,  村山裕之 ,  浦山好信

IPC: B41J2/16 ,  B41J2/14 ,  B41J2/175

CPC classification number: B41J2/1639 ,  B41J2/1603 ,  B41J2/1628 ,  B41J2/1629 ,  B41J2/1631 ,  B41J2/1635 ,  B41J2/1642 ,  B41J2/1645 ,  B41J2002/14403 ,  B41J2002/14475

Abstract: 提供一种喷墨记录头的制造方法、喷墨记录头以及喷墨墨盒。该喷墨头的制造方法，包括：准备硅基板的工序；在该基板的第一面上，形成具有设置了作为过滤器掩模的多个孔的层、以及覆盖该第一面使得第一面不从该多个孔露出的层的膜片的工序；在该基板上形成的膜片上形成紧密接触提高层的工序；在该紧密接触提高层上，形成构成多个喷出口和与该多个喷出口分别连通的多个墨流路的流路构成构件的工序；在硅基板上，通过各向异性刻蚀，从与基板的第一面相对的第二面一侧形成与多个墨流路连通的墨供给口的工序；以及将膜片的设置了多个孔的层作为掩模，在紧密接触提高层的位于墨供给口的开口部内的部位上形成过滤器的工序。