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公开(公告)号：CN119579841A
公开(公告)日：2025-03-07
申请号：CN202510137842.X
申请日：2025-02-07
Applicant: 之江实验室
IPC: G06T19/20
Abstract: 本说明书公开了一种三维模型填充方法、装置、存储介质及电子设备。在采用本方法实现三维模型填充时，可根据目标三维模型在各轴向上的长度，通过多次划分的方式，将目标三维模型平均分为多组包含三角面片数量较少的三角面片集，并在计算隐式场值时过滤不必要的三角面片集，仅保留一个最小三角面片集进行计算，得到隐式场值并进行填充。本方法通过将三维模型进行空间划分，无需遍历所有的三角面片，能够在每次计算中快速剔除不必要的三角面片，仅仅对少量三角面片进行计算，极大地提高了计算速度。
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公开(公告)号：CN119379953A
公开(公告)日：2025-01-28
申请号：CN202411941319.4
申请日：2024-12-26
Applicant: 之江实验室
IPC: G06T17/20
Abstract: 本说明书公开了一种三角面片网格构建方法、装置、存储介质及电子设备，确定待打印物体的目标三维模型的包围盒，对该包围盒分层进行空间划分，得到各划分层次的子体素。按照空间分辨率从低至高的顺序，依次针对每个划分层次，在该划分层次的各子体素中，确定与目标三维模型相交的子体素，作为该划分层次对应的相交体素。根据最后一个划分层次对应的相交体素与目标三维模型的交点，构建目标三维模型的三角面片网格。在本方法中，按照各划分层次确定相交体素，即每次处理一个划分层次的子体素，同一划分层次的子体素之间没有前后依赖关系，可以并行计算，适用于GPU，可利用GPU的并行计算能力，加速三角面片网格的构建过程。
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公开(公告)号：CN113960892B
公开(公告)日：2024-04-16
申请号：CN202111248690.9
申请日：2021-10-26
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种可连续像旋转调制的高速并行激光直写光刻的方法与装置，本发明装置利用像旋转器对多光束排布方向进行旋转，使得多光束排布方向与转镜扫描方向连续可调，实现了五种不同的高速扫描策略。本发明基于上述五种不同扫描策略，有效解决了现有并行激光直写由于扫描策略单一导致扫描效果与扫描速度不佳的问题。本发明针对不同应用，使用不同扫描策略，实现扫描速度与扫描质量的双重提升。
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公开(公告)号：CN113960891B
公开(公告)日：2024-02-09
申请号：CN202111248686.2
申请日：2021-10-26
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种并行穿插超分辨高速激光直写光刻的方法与装置。本发明方法使用并行穿插算法，首先基于刻写光空间光调制器产生刻写用多光束实心光斑；基于抑制光空间光调制器产生抑制用多光束空心光斑；然后将多光束实心光斑与多光束空心光斑合束产生调制后的多光束光斑；再基于多通道声光调制器输出刻写波形，位移台匀速移动直到完成一整列区域刻写，关闭光开关，位移台进行一次步进移动；直到所有图形刻写完成。本发明装置基于并行穿插扫描策略，有效解决了现有并行转镜激光直写光刻系统由于扫描策略过于简单而导致刻写效率低下的问题。同时，基于边缘光抑制原理获得超分辨效果，提升了现有双光子激光直写光刻的刻写精度。
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公开(公告)号：CN116572533A
公开(公告)日：2023-08-11
申请号：CN202310259330.1
申请日：2023-03-13
IPC: B29C64/386 , B29C64/268 , B33Y50/00
Abstract: 本发明公开了一种基于转镜的三维阵列打印系统的激光直写打印方法，包括：基于最大刻写长度刻写的直线中选取粗细均匀且连续的线段，作为转镜的有效刻写长度；根据预设打印参数和有效刻写长度，计算获得打印平台的单次移动距离；根据预设打印参数，有效刻写长度以及单次移动距离，生成一个或多个连续垂直分布于转镜扫描平面的二维刻写数据文件；根据预设的刻写功率，二维刻写数据文件输入至三维阵列打印系统中，通过刻写激光对打印平台上的刻写材料进行循环输出，获得所述三维结构对应的阵列打印件。本发明还提供了一种激光直写打印方法。本发明提供的方法可以有效解决实际三维刻写过程中耗时过长的问题。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN116564361A
公开(公告)日：2023-08-08
申请号：CN202310266267.4
申请日：2023-03-13
IPC: G11B7/0045 , G03F7/20 , G11B7/126 , G11B7/1353
Abstract: 本发明公开了一种基于转镜的高速刻录系统的光存储方法，所述光存储方法基于高速刻录系统实现，包括：一、编码包括数据信息和刻录坐标的待存储数据，获得对应的二进制编码；二、调整二进制编码，获得存储编码；三、校准高速数字输出卡和确定刻录基底面；四、根据存储编码生成对应的光强波形数据并存入校准好的高速数字输出卡中；五、校准物镜与刻录基底面之间的光学球差，控制刻录激光进行y轴方向的刻录操作；六、调节物镜焦距的偏移量，并重复步骤五，直至完成z轴方向上所有存储编码的刻录，获得三维体存储数据。本发明还提供了一种光存储装置。本发明提供的方法解决了现有技术中数据存储时间过长的问题，提高了刻录的成功率和精确性。
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公开(公告)号：CN119850812A
公开(公告)日：2025-04-18
申请号：CN202510323451.7
申请日：2025-03-19
Applicant: 之江实验室
IPC: G06T15/00 , G06T15/20 , G06T5/70 , G06F30/10 , G06F113/10
Abstract: 本说明书公开了一种增材制造系统渲染方法、装置、存储介质及电子设备。在采用本说明书提供的增材制造系统渲染方法进行构件的渲染时，可通过平滑算法过渡待制造构件的模型和胞元填充阵列的边界区域，得到连续性较强的待定隐式函数，并根据待制造构件的外壳厚度调整待定隐式函数得到目标隐式函数，完成渲染任务。采用本方法不但能够解决显示建模中几何信息复杂数据量大、布尔运算复杂的问题，还通过在布尔运算中使用平滑算法，解决了边界区域不平滑导致球面追踪算法渲染异常问题。同时，通过使用图片集合渲染的方式，避免传统方式将数据模型转为多边形网格，减少计算和存储开销，提高了渲染过程的实时性。
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公开(公告)号：CN118244445B
公开(公告)日：2024-09-27
申请号：CN202410660267.7
申请日：2024-05-27
Abstract: 本发明公开了一种定力矩止动的高精度物镜对焦装置及对焦方法，该装置包括主体固定框架、压电驱动器、电动止推杆、止动活动块、止动部件底座、止动滑动块、主体滑动框架、弹簧柱塞、编码器、光栅尺、升降电机、升降连接器、行程挡块、行程开关等部件。该装置为一种小型化的集成物镜对焦装置，兼顾大范围运动行程与小范围运动精度，并配合行程开关和编码器光栅尺等部件实现闭环绝对位置控制和检测；且使用一种基于杠杆的固定力矩装置进行物镜升降止动，在止动时实现固定的止动力，根据安装的物镜重量进行预设，在失电时能保持止动。利用本发明装置及方法搭建的物镜对焦装置，可以广泛用于超分辨显微成像系统和高精度激光直写光刻系统。
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公开(公告)号：CN113985708B
公开(公告)日：2024-02-13
申请号：CN202111247035.1
申请日：2021-10-26
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种可连续像旋转调制的超分辨高速并行激光直写方法与装置。本发明利用空间光调制器产生多束刻写光与多束抑制光，抑制光与刻写光在空间上重合形成调制后的多光束。利用像旋转器对调制后的多光束排布方向进行旋转，使得多光束排布方向与转镜扫描方向连续可调，实现了五种不同的高速扫描策略。本发明通过引入抑制光，相较于现有双光子并行激光直写具有更高的分辨率。并通过不同的扫描策略，解决了现有系统由于扫描策略单一导致扫描效果与扫描速度不佳的问题。
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公开(公告)号：CN114019764B
公开(公告)日：2024-01-09
申请号：CN202111240495.1
申请日：2021-10-25
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种超分辨激光直写与成像方法与装置，该装置包括三个光源，分别为引发光刻胶产生聚合反应的激发光光源，激发光刻胶中发光的荧光染料分子从基态到激发态的激发光，抑制光刻胶聚合并同时使荧光染料分子产生受激辐射的抑制光光源或损耗光光源，抑制光与损耗光为同一个光源。其中，引发光刻胶聚合的激发光经过准直最后通过物镜在样品面上汇聚成圆形实心光斑；抑制光经过准直后，再通过相位掩膜调制相位，最后由物镜汇聚到样品面上形成环形空心光斑；光刻胶中荧光染料的激发光经过准直最后通过物镜在样品面上汇聚形成圆形实心光斑。本发明可以实现纳米结构刻写完成后直接的光学成像，无需进行电镜成像，使操作更为简单。
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