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公开(公告)号：CN116770297A
公开(公告)日：2023-09-19
申请号：CN202310742664.4
申请日：2023-06-21
Abstract: 本发明公开了一种膜层材料辅助生长的锌基多级微纳结构及其制备方法。所述制备方法包括以下步骤：(1)在有机溶剂与水的混合液中加入锌源和含氮有机配体，在室温下充分混合均匀，得到澄清溶液；(2)在步骤(1)所得澄清溶液中加入有机羧酸配体，并在室温下充分混合均匀，得到制备锌基多级微纳结构的母液；(3)将膜层材料作为基底垂直置入步骤(2)所得母液中，置于90～120℃环境内保温15～48小时，即在所述基底表面得到锌基多级微纳结构。本发明的锌基多级微纳结构是由长条纳米棒或纳米线组装而成的球状形貌的锌基微纳结构，制备方法简单、流程短，原料方便易得，适合完成大面积多级微纳结构的制备。
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公开(公告)号：CN116731338A
公开(公告)日：2023-09-12
申请号：CN202310708189.9
申请日：2023-06-15
Abstract: 本发明公开了一种基于飞秒激光直写的图案化UiO系列无机膜的制备方法以及凝胶化配体溶液。所述基于飞秒激光直写的图案化UiO系列无机膜的制备方法包括如下步骤：A：图案化ZrO2薄膜的制备；B：UiO系列无机膜的凝胶化配体溶液的制备；C：UiO系列无机膜的制备。本发明提供了一种用于制备UiO系列无机膜的凝胶化配体溶液，其通过如下方法制备：将有机配体和调节剂溶解在DMF中，制备得到凝胶化配体溶液；所述的调节剂为三乙胺或氢氧化钾；所述的有机配体为下列化合物a‑c中的一种。本发明采用凝胶法旋涂制备图案化UiO系列无机膜，不仅减少了溶剂用量，而且有效降低反应温度，能够获得微米尺度的图案化UiO系列无机膜。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN116719207A
公开(公告)日：2023-09-08
申请号：CN202310699369.5
申请日：2023-06-13
Abstract: 本发明公开了一种可调折射率的含有杂多酸的激光直写光刻胶的制备以及基于该光刻胶的图案化方法。所述含有杂多酸的激光直写光刻胶的制备方法包括以下步骤：S1：得到杂多酸溶液；S2：得到成膜树脂溶液；S3：得到含有光引发剂的活性单体溶液；S4：取适量活性单体溶液与杂多酸溶液混合均匀，再将成膜树脂溶液缓慢滴加至混合溶液中，先缓慢摇晃，再静置至溶液分层现象消失，得到含有杂多酸的激光直写光刻胶。本发明将杂多酸分散在光刻胶中，无需另加分散剂促进分散，所得光刻胶折射率在1.4‑1.8范围内可调；胶膜在目标区域内的透光率大于90％；填料均匀分散且粒径小，表面粗糙度低；利用双光子光刻可以制作2D和3D不同形状的结构。
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公开(公告)号：CN116554391A
公开(公告)日：2023-08-08
申请号：CN202310708192.0
申请日：2023-06-15
IPC: C08F220/14 , G03F7/20 , C08F220/18 , C08F212/08 , C08F220/20 , G03F7/038 , G03F7/027
Abstract: 本发明公开了一种飞秒激光直写光刻胶成膜树脂、负性飞秒激光直写光刻胶及其图案化方法。所述飞秒激光直写光刻胶成膜树脂的化学结构式如式(I)所示，该飞秒激光直写光刻胶成膜树脂为无规共聚物，重均分子量Mw在1.7‑2.2kDa之间，分布指数D在1.4‑2之间。本发明提供的负性飞秒激光直写光刻胶包括3‑5wt％所述的成膜树脂、5‑10wt％活性单体、0.1‑1wt％双光子引发剂和85‑91wt％溶剂。本发明所述的成膜树脂可以提高负性光刻组合物的抗刻蚀性，提升胶膜与晶圆的附着力，从而提高光刻图形的分辨率，改善图形形貌。
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公开(公告)号：CN115869465A
公开(公告)日：2023-03-31
申请号：CN202211589198.2
申请日：2022-12-12
Abstract: 本发明公开了一种天然蛋白光刻胶和活性氧清除细胞支架的制备方法，属于医疗的技术领域，天然蛋白光刻胶是利用天然蛋白的活性基团进行不饱和修饰，并用其做促溶剂助溶功能蛋白，将改性后蛋白溶液与丙烯酸酯化的天然生物大分子共混，最后加入水溶性光敏剂并搅拌均匀而得到天然蛋白基光刻胶。该光刻胶及细胞支架具有以下优势：优秀的生物相容性；长期保持生物活性；活性氧清除细胞支架可以治疗植入部位的炎症反应；模拟细胞外基质环境以促进细胞粘附；可以快速制备并控制支架结构的精细度，以此调控细胞的粘附、生长和迁移。
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公开(公告)号：CN115826354A
公开(公告)日：2023-03-21
申请号：CN202211447277.X
申请日：2022-11-18
Abstract: 本发明公开了一种基于硅氢加成反应的飞秒激光光刻胶及制备、图案化方法，该光刻胶包括含硅氢键化合物和含不饱和双键化合物，通过非线性双光子吸收，发生硅氢加成反应交联形成三维网状结构，显影后得到图案。本发明的光刻胶体系中无光引发剂，通过飞秒激光诱导共价键生成，无需催化剂即可进行硅氢加成反应，操作简单；同时，光刻胶体系中含硅氧烷结构，具有耐候性、耐氧化稳定性、耐腐蚀等特性，有助于增加与基材的附着力。
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公开(公告)号：CN115201953B
公开(公告)日：2023-01-20
申请号：CN202211009602.4
申请日：2022-08-22
Applicant: 之江实验室
IPC: G02B5/18
Abstract: 本发明公开了一种双工作波段高衍射效率复合反射光栅，包括透明基底、设置于透明基底上的周期性高折射率栅条和设置于高折射率栅条上表面的金属薄膜；高折射率栅条的折射率大于透明基底的折射率；高折射率栅条的周期、高折射率栅条的斜面与光栅平面的夹角、高折射率栅条的折射率、光栅工作短波段的中心波长和光栅工作长波段的中心波长满足由反射定律、折射定律和光栅衍射方程得出的定量关系式，金属薄膜的厚度满足由趋肤效应得出的定量关系式。本发明的复合反射光栅可以在间隔超过400nm的两个中心波长处同时实现高于90％的衍射效率。
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公开(公告)号：CN114895536A
公开(公告)日：2022-08-12
申请号：CN202210823416.8
申请日：2022-07-14
Applicant: 之江实验室
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于激光直写的图案化Zn‑MOF膜的制备方法，属于图案化材料的技术领域，该制备方法包括以下步骤：（1）利用飞秒激光直写技术，对锌基光刻胶进行图案化光刻，显影后得到聚合后的光刻图案；（2）将得到的光刻图案进行高温退火，得到图案化的ZnO薄膜；（3）以ZnO为金属源，将其置于含有配体溶液的反应釜中，通过水热反应得到图案化的Zn‑MOF膜，本发明利用激光直写的方法能快速制备图案化的MOF膜、操作简单，更能在微米尺寸对MOF膜的图案进行控制。
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公开(公告)号：CN114527630B
公开(公告)日：2022-08-05
申请号：CN202210417731.0
申请日：2022-04-21
Abstract: 本发明公开了一种二氧化锆微纳图案的飞秒激光直写方法，将异丙醇锆与有机酸反应得到光刻胶单体，将光刻胶单体与光引发剂按比例溶解，旋涂在基板上之后，可在飞秒激光的诱导下在选定的位置发生聚合，显影后形成光刻图案，将所得的图案在空气气氛中高温退火，得到二氧化锆微纳图案，该方法无需掩模版，可以快速简便地制造任意的二氧化锆微纳图案，可用于电路电容和半导体微器件等产品的制造加工。
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公开(公告)号：CN114185246A
公开(公告)日：2022-03-15
申请号：CN202210143737.3
申请日：2022-02-17
Abstract: 本发明属于光刻胶及激光直写技术领域，并公开了一种适用于飞秒激光直写的高精度光刻胶组合物，所述光刻胶组合物由单体和光引发剂。技术特征在于，所述光刻胶组合物具有双色光敏性，可以被特定波长的飞秒激光引发聚合，同时又可以被另一束连续激光抑制聚合，抑制光束减小了飞秒激光的直写区域，从而提高了飞秒激光直写精度；进一步的，所述光刻胶组合物折射率和光学系统的物镜折射率差异小于0.01，减小了激光在光刻胶中的相差或球差，从而进一步提高飞秒激光直写精度，本发明所提供的光刻胶组合物通过特定结构的单体，不仅具有较高的直写精度，还有较低的直写阈值和体积收缩率。
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