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公开(公告)号：CN106920739A
公开(公告)日：2017-07-04
申请号：CN201710245266.6
申请日：2017-04-14
Applicant: 中国科学院宁波材料技术与工程研究所
IPC: H01L21/02 , H01L29/205 , H01L33/00 , H01L33/12 , H01L33/32
CPC classification number: H01L33/32 , H01L21/0242 , H01L21/02458 , H01L21/0251 , H01L21/0254 , H01L29/205 , H01L33/007 , H01L33/12
Abstract: 本发明涉及一种基于梯度叠层缓冲层薄膜的外延生长AlmGa1‑mN的方法。具体地，本发明公开了一种复合材料以及所述复合材料的制备方法和应用。所述复合材料所包含的外延薄膜的位错密度、薄膜裂纹密度和薄膜表面粗糙度得到综合改善，因此可获得晶体质量、薄膜完整性和表面形貌平衡提升的复合材料，同时，基于这种复合材料可以大大缩短外延芯片的生长时间，全面提升包含所述复合材料的光电器件或功率器件的性能和产率。所述方法具有工艺简单、成本低、产品良率高等特点。
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公开(公告)号：CN104498872A
公开(公告)日：2015-04-08
申请号：CN201410647741.9
申请日：2014-11-14
Applicant: 中国科学院宁波材料技术与工程研究所
CPC classification number: C23C14/067 , C23C14/35
Abstract: 本发明公开了一种高硬度耐磨损的硼化钒涂层，所述的涂层组成为VxBy，其中y/x＝1.5～2.4；所述的涂层由长短不一的柱状晶组成，柱状晶宽度为50nm～300nm，柱状晶长宽比为5～30；涂层密度在4.0g/cm3～4.9g/cm3；所述的涂层利用X射线衍射(XRD)检测，具有高度(001)择优取向。本发明还公开了高硬度耐磨损的硼化钒涂层的制备方法，制备的硼化钒涂层具有高硬度H≥35GPa，摩擦系数为0.4～0.6，对直径6mm的Al2O3研磨球在5N的作用力下，涂层的磨损率为～10-16m3/N·m数量级。该涂层适合高温、高压下用来增强器件表面的耐磨性，延长器件的使用寿命。
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公开(公告)号：CN114395753A
公开(公告)日：2022-04-26
申请号：CN202210009150.3
申请日：2022-01-06
Applicant: 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 , 宁波杭州湾新材料研究院
Abstract: 本发明公开了一种多层结构的Fe‑Cr‑Al基防护涂层，包括由Fe‑Cr‑Al‑Me‑Si‑Y层和氮化物Cr‑Al‑Me‑Si‑N层组合而成的多层结构，Me为Mo、Ta、Ni、Nb中的一种或两种，Fe‑Cr‑Al‑Me‑Si‑Y层为致密的非晶结构或致密非晶中弥散分布纳米晶的两相结构，Cr‑Al‑Me‑Si‑N层为致密的非晶结构，该涂层更加显著延长了其耐高温水蒸气氧化的时间。本发明还公开了一种多层结构的Fe‑Cr‑Al基防护涂层的制备方法。该制备方法简单、高效。
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公开(公告)号：CN114107917A
公开(公告)日：2022-03-01
申请号：CN202111332943.0
申请日：2021-11-11
Applicant: 中国科学院宁波材料技术与工程研究所
Abstract: 本发明公开一种CZO透明导电薄膜，成分组成为：Cu(1at.％～2at.％)，Zn(48at.％～50at.％)，O(50at.％～52at.％)，呈纤维状生长结构，包括多条被阻断的柱状晶，相邻柱状晶之间无微裂纹或微孔洞，密度为5.3～5.5g/cm3。该导电薄膜具有较低的电阻率，较好的透光率。本发明还提供了一种CZO透明导电薄膜的制备方法，包括：向镀膜腔室抽真空，持续通入惰性气体，设置靶电源参数，采用纯CZO陶瓷靶在基体上进行单靶溅射、以ZnO陶瓷靶和金属Cu靶在基体上进行双靶共溅射或以ZnCu合金靶在基体上进行反应溅射以形成CZO透明导电薄膜。该方法制备简单、高效。
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公开(公告)号：CN112853288A
公开(公告)日：2021-05-28
申请号：CN202011623564.2
申请日：2020-12-31
Applicant: 中国科学院宁波材料技术与工程研究所
Abstract: 本发明属于合金涂层防护领域，公开一种具有长时间耐高温水蒸汽氧化的Fe‑Cr‑Al基防护涂层及其制备方法，该涂层的组成表示为FexCryAlzMemSinYp，Me选自Mo、Nb、Ni中的一种或两种，其中x，y，z，m，n，p为原子比，30.5≤x≤34.9，20.6≤y≤23.2，11.6≤z≤16.1，13.4≤m≤14.9，13.6≤n≤17.4，1.6≤p≤2.6；所述的Fe‑Cr‑Al基防护涂层为非晶结构或非晶中弥散分布纳米晶的两相结构，涂层呈非柱状晶生长，沿涂层生长方向无贯穿性空隙或裂纹。该防护涂层应用于Zr合金包壳管上，可提高锆合金抵抗高温水蒸汽(1000～1200℃)氧化的能力，一方面为事故留下更多的容错时间，另一方面可显著延长核电用包壳管的使用寿命。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112853287A
公开(公告)日：2021-05-28
申请号：CN202011618645.3
申请日：2020-12-31
Applicant: 中国科学院宁波材料技术与工程研究所
Abstract: 本发明涉及核电防护涂层领域，公开了一种具有长时间耐高温水蒸汽氧化的防护涂层及其制备方法，该防护涂层包括陶瓷层和合金层，所述的合金层组成表示为CraMe100‑a，Me为Al、Ni中的一种，84.6≤a≤100；陶瓷层组成表示为(CrxAlySi100‑x‑y)zT100‑z，T选自C、N中的一种，其中40.7≤x≤61.2，29.8≤y≤45.3，78.5≤z≤89.5；其中a、x、y、z都为原子比。该防护涂层通过物理气相磁控溅射法制备，在高温水蒸气(1200℃)氧化过程中可形成连续、致密且无开裂、拱起等缺陷的Cr2O3防护层，进而显著提高耐高温水蒸气氧化时间(8～12h)，可用于核电中锆合金包壳管的防护。
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公开(公告)号：CN111041436A
公开(公告)日：2020-04-21
申请号：CN201911120712.6
申请日：2019-11-15
Applicant: 中国科学院宁波材料技术与工程研究所
Abstract: 本发明提供了一种用于锆合金防护的Fe-Cr-Al-Y涂层及其制备方法和应用，所述涂层的成分组成为Fe100-x-y-zCrxAlyYz，14.9≤x≤25，13.8≤y≤35，1.1≤z≤3，其中x，y，z为原子比，所述Fe-Cr-Al-Y涂层呈纤维柱状晶生长结构，相邻两个纤维柱状晶之间边界致密，无贯穿性空隙，柱状晶宽度为60～90nm。该Fe-Cr-Al-Y涂层可直接施镀于锆合金表面，提高了锆合金的抗高温水蒸气腐蚀能力和抗氧化能力。另外，本发明方法大大简化了工艺步骤，涂层厚度只有8～12μm，节约了原材料，形成的涂层均匀性好，工艺可控，生产效率高。
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公开(公告)号：CN106567049B
公开(公告)日：2019-01-15
申请号：CN201610882869.2
申请日：2016-10-10
Applicant: 中国科学院宁波材料技术与工程研究所
Abstract: 本发明公开了一种MAX相陶瓷涂层，此涂层组成为V2AlxC2‑x，x＝0.7～1.5，涂层为柱状晶生长结构，每一个柱状晶由一层Al原子层和两层V原子层交替排列形成，且C原子层位于两层V原子层之间，涂层密度为4.5～5.2g/cm3。本发明还公开了所述MAX相陶瓷涂层的制备方法，采用双靶磁控溅射法并辅助射频叠加中频的电源施加方式，在制备温度为550～650℃的情况下，在非晶基体上非外延生长出所述MAX相陶瓷涂层。该制备条件下获得的V2AlxC2‑x涂层纯度达到了99.9％，涂层硬度在13～16GPa。此方法一步合成，成本较低，可控制性强，有利于MAX相涂层低温制备和多领域应用。
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公开(公告)号：CN105063560B
公开(公告)日：2017-11-24
申请号：CN201510424508.9
申请日：2015-07-17
Applicant: 中国科学院宁波材料技术与工程研究所
Abstract: 本发明公开了一种利用磁控溅射法制备电阻率分布均匀的AZO薄膜的方法，采用射频电源辅助直流电源的方式沉积AZO薄膜，设置射频电源功率PRF为50～400W，直流电源功率PDC为10～150W，并调节射频电源功率的比值fRF为0.38～0.98，以控制靶电压为60～150V，AZO薄膜的沉积速率不低于35nm/min，在常温下制备得到电阻率分布均匀的AZO薄膜。本制备方法，采用射频辅助直流的电源设备，通过调节射频电源与直流电源的功率，使得在靶电压小于150V的情况下，仍以较高的沉积速率(～40nm/min)沉积得到AZO薄膜；制备得到的AZO薄膜的电阻率较低，且分布均匀。
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公开(公告)号：CN105954824B
公开(公告)日：2017-11-07
申请号：CN201610319920.9
申请日：2016-05-13
Applicant: 中国科学院宁波材料技术与工程研究所
Abstract: 本发明公开了一种耐腐蚀高反光的正面镜，包括玻璃基体与沉积在玻璃基底上的反光涂层，该反光涂层为非晶结构，涂层致密，组成为(Ti100‑xMex)yB100‑y，其中，0≤x≤25，50≤y≤80，Me包括Mo或Al；该正面镜具有反光率高、耐腐蚀、耐刮擦的优点。本发明还公开了该正面镜的制备工艺，工艺简单。
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