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公开(公告)号：CN115521640B
公开(公告)日：2023-06-06
申请号：CN202210207875.3
申请日：2022-03-03
Applicant: 中国科学院上海硅酸盐研究所
Abstract: 本发明公开了一种抗原子氧微纳多孔涂层及其制备方法。所述抗原子氧微纳多孔涂层包括：形成在聚合物基体表面的由纳米氧化物颗粒和硅烷偶联剂粘结形成的多孔微纳结构涂层；所述硅烷偶联剂为具有氨基的硅烷偶联剂；所述聚合物基体为具有羧基的改性聚合物基体。本发明所涉及的涂层由无机氧化物纳米颗粒组成的骨架构成，为具有纳米孔隙的微纳结构，其柔韧性得到显著提高，防开裂性能优异，并且具备优异的抗原子氧侵蚀性能；同时，该涂层具有纳米骨架组成可替换的特点，可满足防原子氧涂层的增透、防静电等功能需求，而且其原料及制备价格低廉，易于实施操作，可广泛应用于航天领域中受原子氧侵蚀影响的低轨航天器。
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公开(公告)号：CN112940621A
公开(公告)日：2021-06-11
申请号：CN201911267963.7
申请日：2019-12-11
Applicant: 中国科学院上海硅酸盐研究所
IPC: C09D183/08 , C08J7/046 , B05D5/08 , B05D7/24 , C08L79/08
Abstract: 本发明涉及一种仿生非光滑耐磨涂层及其制备方法和应用，所述仿生非光滑耐磨涂层的制备方法为将含有多官能度有机硅的有机硅溶液涂覆在基底表面，再经过初步干燥处理、水解处理和固化处理，得到所述仿生非光滑耐磨表面；所述多官能度有机硅包含：三硅官能度有机硅和四硅官能度有机硅中的至少一种和二硅官能度有机硅。
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公开(公告)号：CN109244159B
公开(公告)日：2020-03-17
申请号：CN201710561510.X
申请日：2017-07-11
Applicant: 中国科学院上海硅酸盐研究所
IPC: H01L31/041 , H01L31/18 , H01L21/66 , G01B11/24
Abstract: 本发明提供了一种柔性基板原子氧防护层的生产线，具备：用于固定安装柔性基板的固定安装预备系统；用于清洗并烘干的清洗烘干处理系统；用于进行活化预处理的活化处理系统；用于进行硅烷化处理的硅烷化处理系统；用于稳定化处理的稳定化处理系统；用于检测的自主检测系统；用于对废液进行回收处理的废液回收系统；用于在各系统间传动柔性基板的传动系统；和用于控制动作的控制系统；各系统间采用线性排列。根据本发明，能以自动化的方式流水线作业，生产出的柔性基板原子氧防护层产品具有产品大面积均匀性好、批次稳定性好、成品率高，防原子氧效果显著等优点，适合于柔性基板原子氧防护层的生产使用。
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公开(公告)号：CN116239809B
公开(公告)日：2025-04-08
申请号：CN202111493332.4
申请日：2021-12-08
Applicant: 中国科学院上海硅酸盐研究所
Abstract: 本发明涉及一种抗原子氧/防静电的有机硅烷/还原氧化石墨烯复合表面改性薄膜及其制备方法。所述抗原子氧/防静电的有机硅烷/还原氧化石墨烯复合表面改性薄膜包括：聚合物基体、以及形成在聚合物基体表面的有机硅烷和还原氧化石墨烯混合层；其中，有机硅烷同时与聚合物基体和还原氧化石墨烯发生键合反应。
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公开(公告)号：CN116731541B
公开(公告)日：2025-02-14
申请号：CN202210207848.6
申请日：2022-03-03
Applicant: 中国科学院上海硅酸盐研究所
Abstract: 本发明公开了一种抗原子氧水滑石涂层及其制备方法与应用。所述抗原子氧水滑石涂层包括：形成在聚合物基体表面的由水滑石纳米片或类水滑石纳米片中至少一种和硅烷偶联剂交联形成的多孔涂层。与目前常规致密的抗原子氧涂层不同，本发明所涉及的涂层由防护单元水滑石或类水滑石纳米片与氨烃基硅烷偶联剂共同构成，具有纳米片取向高度一致的叠层排列形成的非致密微纳结构，可以防止内应力作用而开裂；同时交联剂氨烃基硅烷偶联剂能增强涂层与基体间的界面附着力，防止剥脱现象的发生。该涂层主体为无机水滑石或类水滑石纳米片层，原料价格低廉、工艺简捷、操作方便，且抗原子氧/防剥落开裂性能优异，可广泛应用于航天领域。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN118834428A
公开(公告)日：2024-10-25
申请号：CN202310456172.9
申请日：2023-04-25
Applicant: 中国科学院上海硅酸盐研究所
Abstract: 本发明涉及一种抗原子氧/防静电复合防护涂层及其制备方法。所述抗原子氧/防静电复合防护涂层包括：聚合物基体，以及形成在聚合物基体表面的还原氧化石墨烯/水滑石防护层；所述还原氧化石墨烯/水滑石防护层为包含硅烷偶联剂、还原氧化石墨烯和水滑石纳米片的复合层。
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公开(公告)号：CN118562389A
公开(公告)日：2024-08-30
申请号：CN202310173849.8
申请日：2023-02-28
Applicant: 中国科学院上海硅酸盐研究所
IPC: C09D187/00 , C09D1/00
Abstract: 本发明涉及一种抗原子氧金属有机框架涂层及其制备方法。所述抗原子氧微纳结构有机无机杂化涂层包括：原位形成在聚合物基体表面的金属有机框架晶种层、以及形成在金属有机框架晶种层表面的由金属有机框架纳米颗粒形成的微纳结构有机无机杂化涂层。
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公开(公告)号：CN116726823A
公开(公告)日：2023-09-12
申请号：CN202310597910.1
申请日：2023-05-25
Applicant: 中国科学院上海硅酸盐研究所
Abstract: 本发明公开了一种硅烷化处理装置，包括壳体和至少两个导液管，其中壳体的内部开设有反应槽，反应槽用于放置待硅烷化处理样件和硅烷试剂，使待硅烷化处理样件浸泡于硅烷试剂内，壳体内还设置有若干加热板，加热板均对应分布于反应槽外的两侧，导液管均设置于反应槽内对应待硅烷化处理样件的两侧，导液管上均开设有若干导液孔，导液管通过软管连接，软管上还连通有动力泵，若干导液管、软管与反应槽形成闭环管路，使得硅烷试剂能够在动力泵的驱动下于闭环管路内以预定流速进行循环流动，本发明解决了现有技术中处理样品的硅烷化效果不佳的问题，有效提升了产品硅烷化的良品率，为后续的已硅烷化处理的产品的使用提供有效保障。
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公开(公告)号：CN116604845A
公开(公告)日：2023-08-18
申请号：CN202310598123.9
申请日：2023-05-25
Applicant: 中国科学院上海硅酸盐研究所
IPC: B29C71/04
Abstract: 本发明公开了一种紫外辐照表面改性装置，包括箱体，箱体内部开设有若干放置腔，放置腔内均设置有样品台和辐照灯阵，样品台用于承载待辐照基材，辐照灯阵均朝向样品台发射紫外光，且对应待辐照基材的不同辐照范围，另外放置腔内还设置有气氛调节装置和换热器，气氛调节装置用于控制放置腔内的臭氧或氧气等气氛浓度，换热器用于调整放置腔内的温度，使放置腔内的辐照环境气氛可根据待辐照基材进行调整。本发明能够适用不同辐照范围需求的待辐照基材，同时通过气氛调节装置和换热器对放置腔内的辐照环境气氛给予有效控制，从而为待辐照基材的紫外表面活化或稳定化等处理提供了稳定的环境，进而有效提高待辐照基材表面活化或稳定化等处理的稳定性和均匀性。
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公开(公告)号：CN114018792A
公开(公告)日：2022-02-08
申请号：CN202111263287.3
申请日：2021-10-28
Applicant: 中国科学院上海硅酸盐研究所
IPC: G01N17/00
Abstract: 本发明提供一种空间环境多因素协同试验装置，包括空间环境模拟系统(1)、真空辐照室(2)、紫外辐照强度测量系统(3)和控制系统(4)。本发明还提供一种如上所述的空间环境多因素协同试验装置的测试方法。本发明的空间环境多因素协同试验装置，集成度高，最多可进行原子氧辐照/近紫外辐照/远紫外辐照/温度循环/真空环境五种空间因素综合辐照协同试验，具有很好的灵活性；可实现对综合辐照试验中原子氧束流密度及均匀性、近紫外辐照强度及均匀性、温度循环温度和真空模拟系统的真空度进行测量，保障综合辐照试验数据的准确性。
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