抗氧化性涂层及其制备方法

    公开(公告)号:CN101863683B

    公开(公告)日:2013-10-02

    申请号:CN200910049378.X

    申请日:2009-04-15

    Abstract: 本发明涉及抗氧化性涂层的制备方法属于涂层材料制备领域。本发明以复合材料为基体,涂层主要成分包括SiC相、游离Si相和M相,M相为MoSi2、W Si2、TaSi2单一陶瓷相或几种陶瓷混合相,涂层厚度约为20μm~600μm,涂层采用浆料涂覆-液相渗硅原位反应法制备涂层工艺,涂层体系适用面广,涵盖了整个Si系陶瓷涂层,通过浆料固含量以及浆料涂覆次数对涂层的厚度及组成进行有效控制,进而满足实际使用要求。

    一种Ti3SiC2基粉体的制备方法

    公开(公告)号:CN102050448B

    公开(公告)日:2013-01-16

    申请号:CN200910198406.4

    申请日:2009-11-06

    Abstract: 本发明提供一种Ti3SiC2基粉体的制备方法。本发明采用(1)将钛粉和聚碳硅烷按照重量比(0.71~2.48)∶1混合并溶于有机溶剂,搅拌烘干使其均匀混合;(2)对烘干的粉料低温裂解,温度为800℃~1200℃,保温时间0.5~2小时,升温速度2~7℃/min,获得初步反应物;(3)对初步反应物高温处理,温度为1400~1600℃,保温时间0.5~2小时,升温速度2~7℃/min。根据原料组分重量比不同,获得Ti3SiC2基粉体材料。结果显示,钛粉基本转化为Ti3SiC2。相比传统方法,高纯Ti3SiC2粉体纯度较高,粒度较小,结晶度较高。

    抗氧化性涂层及其制备方法

    公开(公告)号:CN101863683A

    公开(公告)日:2010-10-20

    申请号:CN200910049378.X

    申请日:2009-04-15

    Abstract: 本发明涉及抗氧化性涂层的制备方法属于涂层材料制备领域。本发明以复合材料为基体,涂层主要成分包括SiC相、游离Si相和M相,M相为MoSi2、WSi2、TaSi2单一陶瓷相或几种陶瓷混合相,涂层厚度约为20μm~600μm,涂层采用浆料涂覆-液相渗硅原位反应法制备涂层工艺,涂层体系适用面广,涵盖了整个Si系陶瓷涂层,通过浆料固含量以及浆料涂覆次数对涂层的厚度及组成进行有效控制,进而满足实际使用要求。

    一种高致密的碳化硅陶瓷基复合材料及其制备方法

    公开(公告)号:CN106588060B

    公开(公告)日:2019-08-20

    申请号:CN201610990055.0

    申请日:2016-11-10

    Abstract: 本发明涉及一种高致密的碳化硅陶瓷基复合材料及其制备方法,包括:采用含有高产碳率树脂、低残碳率有机聚合物的前驱体液浸渍纤维预制体中,裂解后获得纤维/C熔渗预制体;以及将熔融的Si或熔融的Si与金属的合金渗入所述纤维/C熔渗预制体中进行熔渗反应,得到所述碳化硅陶瓷基复合材料。本发明通过添加低残碳率聚合物改变熔渗预制体中树脂裂解形成的碳的结构,促进反应熔渗时硅和碳的接触和反应,熔渗后金属在基体中呈弥散状分布并且有效避免了块状残余碳和块状残余金属的产生,从而显著提高复合材料的力学性能和热导率。

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