公开(公告)号：CN302040889S

公开(公告)日：2012-08-22

申请号：CN201230082499.7

申请日：2012-03-30

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Designer： 吉村章弘 ,  宫川正章 ,  佐藤彻治 ,  桑原有生 ,  长久保启一 ,  水上俊介

Abstract: 1．本外观设计产品的名称：聚焦环；2．本外观设计产品的用途：用于将产生在半导体晶片上的等离子体的分布扩展到位于等离子加工设备的室中的产品附近，其国际外观设计分类号为08-05；3．本外观设计的设计要点：产品的形状；4．最能表明设计要点的图片或者照片：设计1立体图；5.基本设计：设计1；6．设计1－4的后视图分别与设计1－4的主视图相同，故省略设计1－4的后视图；设计1－4的左视图分别与设计1－4的右视图相同，故省略设计1－4的左视图。

公开(公告)号：CN3506176D

公开(公告)日：2006-02-15

申请号：CN200530015560.6

申请日：2005-05-20

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Designer： 长久保启一 ,  佐藤大树

Abstract: 左视图与右视图对称，故省略左视图。

公开(公告)号：CN3504367D

公开(公告)日：2006-02-08

申请号：CN200530015558.9

申请日：2005-05-20

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Designer： 长久保启一 ,  佐藤大树

Abstract: 1.左视图与右视图对称，省略左视图。

公开(公告)号：CN3347223D

公开(公告)日：2004-01-14

申请号：CN03342354.7

申请日：2003-05-20

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Designer： 长久保启一 ,  伊藤淳 ,  根津崇明

Abstract: 左视图与右视图对称，省略左视图。