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公开(公告)号：CN114761498B
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202080082423.6
申请日：2020-11-20
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: C09D11/101 , C08F2/46 , C09D11/38 , G02B1/04 , C08F220/38
Abstract: 本发明提供能形成兼具高折射率和高透明性的固化物的液态的感光性油墨组合物、该感光性油墨组合物的固化物、具备由该固化物形成的膜的显示面板、和使用前述的感光性油墨组合物的固化物的制造方法。在包含光聚合性化合物(A)、和光聚合引发剂(C)的感光性油墨组合物中，使用特定结构的硫醚化合物(A1)、和特定结构的(甲基)丙烯酸酯化合物(A2)作为光聚合性化合物(A)，使用氧化膦化合物(C1)、和肟酯化合物(C2)作为光聚合引发剂(C)。
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公开(公告)号：CN114686025A
公开(公告)日：2022-07-01
申请号：CN202111611272.1
申请日：2021-12-27
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明涉及光固性液态组合物、固化物、及固化物的制造方法，提供能够形成高折射率的固化物的光固性液态组合物、上述光固性液态组合物的固化物、和使用上述光固性液态组合物的固化物的制造方法。使用包含具有烯键式不饱和双键的光聚合性单体(A)、金属氧化物纳米粒子(B)、和光聚合引发剂(C)的光固性液态组合物。光固性液态组合物优选包含特定结构的化合物作为增塑剂(D)。另外，光固性液态组合物优选包含特定结构的含硫(甲基)丙烯酸酯(A01)作为光聚合性单体(A)。
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公开(公告)号：CN102163722B
公开(公告)日：2013-01-02
申请号：CN201110070861.3
申请日：2007-12-11
Applicant: 东京应化工业株式会社 , 株式会社日本表面处理研究所
IPC: H01M4/66 , H01M10/0525 , C09D183/04 , G03F7/039 , G03F7/038
CPC classification number: H01M4/60 , G03F7/022 , G03F7/032 , G03F7/033 , G03F7/0382 , G03F7/0385 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , H01M4/045 , H01M4/049 , H01M4/134 , H01M4/1391 , H01M4/1395 , H01M4/48 , H01M4/66 , H01M4/665 , H01M4/667 , H01M4/668 , H01M10/0525 , H01M2004/021 , H01M2004/025 , H01M2004/027 , Y02E60/122 , Y02P70/54 , Y02T10/7011
Abstract: 本发明利用与以往技术不同的构成，能够实现一种具有高输出电压及高能量密度、且充放电循环特性优异的电池。本发明使用以下负极基材来作为用于锂离子二次电池的负极基材：特征在于在具备有机膜的支撑体上形成金属膜的负极基材；特征在于所述有机膜的表层由金属氧化物膜被覆的所述负极基材；特征在于在具备由包含有机成分及无机成分的复合膜形成材料所形成的复合膜的支撑体上，形成金属膜的负极基材；或者特征在于在形成了光阻图案的支撑体上，形成由二氧化硅系被覆膜形成用涂布液所形成的二氧化硅系被覆膜，并在除去了所述光阻图案的支撑体上形成金属膜的负极基材。
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公开(公告)号：CN101065707B
公开(公告)日：2011-06-01
申请号：CN200580040710.6
申请日：2005-11-29
Applicant: 东京应化工业株式会社
CPC classification number: G03F7/0382 , G03F7/11 , H05K3/108 , H05K3/384 , H05K2201/0317
Abstract: 本发明用于制造抗蚀图案的方法是包括下列步骤的用于制造抗蚀图案的方法：层压(a)具有其上存在铜的上表面的载体，(b)由从无机物质源供应的无机物质组成的无机物质层，和(c)由化学放大型负性光致抗蚀剂组合物组成的光致抗蚀剂层以获得光致抗蚀剂层压材料的步骤；将激活光或放射线选择性辐照到所述光致抗蚀剂层压材料上的步骤；和将所述(c)光致抗蚀剂层与所述(b)无机物质层一起显影以形成抗蚀图案的步骤。
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公开(公告)号：CN101065709A
公开(公告)日：2007-10-31
申请号：CN200580040726.7
申请日：2005-11-28
Applicant: 东京应化工业株式会社
CPC classification number: H05K3/108 , G03F7/0397 , G03F7/11 , H05K3/384 , H05K2201/0317
Abstract: 本发明用于制造抗蚀图案的方法包括：层压(a)具有其上存在铜的上表面的载体，(b)由从无机物质源供应的无机物质组成的无机物质层，和(c)由化学放大型正性光致抗蚀剂组合物组成的光致抗蚀剂层，获得光致抗蚀剂层压材料的步骤；将激活光或放射线选择性辐照到所述光致抗蚀剂层压材料上的步骤；和将所述(c)光致抗蚀剂层与所述(b)无机物质层一起显影以形成抗蚀图案的步骤。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108884574B
公开(公告)日：2022-10-14
申请号：CN201780021865.8
申请日：2017-03-29
Applicant: 东京应化工业株式会社 , 株式会社JCU
Abstract: 本发明提供含有与N,N‑二甲基乙酰胺(DMA)、N‑甲基吡咯烷酮(NMP)不同的有机溶剂、且保形涂布性优异的金属氧化物膜形成用涂布剂及具有金属氧化物膜的基体的制造方法。金属氧化物膜形成用涂布剂，其含有溶剂和金属，溶剂含有下述的式(1)表示的化合物(A)。式(1)中，R1及R2各自独立地为碳原子数1～3的烷基，R3为下式(1‑1)或下式(1‑2)表示的基团。式(1‑1)中，R4为氢原子或羟基，R5及R6各自独立地为碳原子数1～3的烷基。式(1‑2)中，R7及R8各自独立地为氢原子、或碳原子数1～3的烷基。
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公开(公告)号：CN114341281A
公开(公告)日：2022-04-12
申请号：CN202080059923.8
申请日：2020-08-25
Applicant: 东京应化工业株式会社 , 皮瑟莱根特科技有限责任公司
IPC: C09D11/30 , C09D11/36 , C09D11/38 , C09D133/04 , C09D7/62
Abstract: 本发明提供能够形成高折射率的固化物且能够应用喷墨法的液态的固化性油墨组合物、该固化性油墨组合物的固化物、具备由该固化物形成的膜的显示器面板、和使用上述固化性油墨组合物的固化物的制造方法。在包含光聚合性化合物(A)、和金属化合物纳米晶体(B)的固化性油墨组合物中，作为光聚合性化合物(A)，使用特定结构的硫醚化合物(A1)、和特定结构的(甲基)丙烯酸酯化合物(A2),作为金属化合物纳米晶体(B)，使用氧化锆纳米晶体。
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公开(公告)号：CN109324477A
公开(公告)日：2019-02-12
申请号：CN201810845036.8
申请日：2018-07-27
Applicant: 东京应化工业株式会社
CPC classification number: C08G59/4078 , C08G59/245 , C08G59/306 , C08G59/3236 , C08G59/3245 , C08G59/3281 , C08G59/4064 , C08G59/68 , C08G75/08 , C09D163/00 , H01L27/3244 , H01L51/004 , H01L51/0097 , H01L51/5253 , H01L51/56 , H01L2251/5338 , G03F7/004 , G03F7/027
Abstract: 本发明的课题在于提供能形成耐热性(耐热解性)和对于基材的密合性良好的固化物、且固化性良好的固化性组合物、由该固化性组合物的固化物形成的固化膜、具备该固化膜的显示面板或OLED照明、和使用前述固化性组合物的固化物的制造方法。本发明的解决手段为：在包含(A)固化性化合物和(B)阳离子聚合引发剂的固化性组合物中，使(A)固化性化合物中含有以包含芳香环的3个以上的环进行稠合而得到的稠环为主骨架的阳离子聚合性化合物，并且，作为(B)阳离子聚合引发剂，使用包含特定结构的含镓阴离子作为阴离子部的盐。
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公开(公告)号：CN108884574A
公开(公告)日：2018-11-23
申请号：CN201780021865.8
申请日：2017-03-29
Applicant: 东京应化工业株式会社 , 株式会社JCU
Abstract: 本发明提供含有与N,N‑二甲基乙酰胺(DMA)、N‑甲基吡咯烷酮(NMP)不同的有机溶剂、且保形涂布性优异的金属氧化物膜形成用涂布剂及具有金属氧化物膜的基体的制造方法。金属氧化物膜形成用涂布剂，其含有溶剂和金属，溶剂含有下述的式(1)表示的化合物(A)。式(1)中，R1及R2各自独立地为碳原子数1～3的烷基，R3为下式(1‑1)或下式(1‑2)表示的基团。式(1‑1)中，R4为氢原子或羟基，R5及R6各自独立地为碳原子数1～3的烷基。式(1‑2)中，R7及R8各自独立地为氢原子、或碳原子数1～3的烷基。
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公开(公告)号：CN106019862A
公开(公告)日：2016-10-12
申请号：CN201610186764.3
申请日：2016-03-29
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供一种抑制迁移或基板、布线的表面氧化的效果优异的光刻用显影液及抗蚀图案形成方法。本发明的解决手段为一种光刻用显影液，所述光刻用显影液含有(A)下述通式(1)表示的咪唑化合物和(B)水及/或有机溶剂。式(1)中，R1为氢原子或烷基，R2为可以具有取代基的芳香族基，R3为可以具有取代基的亚烷基，R4各自独立地为卤素原子、羟基、巯基、硫醚基、甲硅烷基、硅烷醇基、硝基、亚硝基、磺酸盐/酯基、膦基、氧膦基、膦酸盐/酯基、或有机基团，n为0～3的整数。
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