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公开(公告)号:CN111826710A
公开(公告)日:2020-10-27
申请号:CN201910329242.8
申请日:2019-04-23
Applicant: 上海新昇半导体科技有限公司
Abstract: 本发明提供一种控制硅熔体坩埚安全升降的方法和装置,所述方法包括:获取所述坩埚的初始位置高度POS0、所述坩埚中硅熔体的初始液面高度D0以及所述坩埚中硅熔体液面与导流筒之间的初始距离MG0;获取当前生长的硅晶棒长度为L时的所述坩埚的当前位置高度POSL和所述坩埚中硅熔体的当前液面高度DL;根据所述初始位置高度POS0、所述当前位置高度POSL、所述初始液面高度D0和所述当前液面高度DL判断当前生长的硅晶棒长度为L时所述坩埚的当前位置高度是否安全。根据本发明的控制硅熔体坩埚安全升降的方法和装置,避免了拉晶过程中因为坩埚的上下移动超出限度而发生毁损,同时保证了在坩埚上下移动过程中其中的硅熔体液面的稳定性,保证了硅晶棒的稳定生长。
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公开(公告)号:CN111270301A
公开(公告)日:2020-06-12
申请号:CN201811472539.1
申请日:2018-12-04
Applicant: 上海新昇半导体科技有限公司
Abstract: 一种晶体生长炉的导流筒和晶体生长炉,所述导流筒包括内筒、外筒和设置在所述内筒和所述外筒之间的隔热材料,其中所述内筒的热阻较所述外筒的热阻低。根据本发明的晶体生长炉的导流筒和晶体生长炉,将导流筒设置成包括内筒、外筒和设置在内筒和外筒之间的隔热材料,使外筒的热阻高于内筒的热阻,降低了导流筒上外筒对内筒的传热,从而使内筒的温度降低,有效增加了晶棒表面到导流筒内筒的辐射热传导,从而提升了晶棒的纵向温度梯度;同时,使外筒的温度上升,减少了硅熔体液面蒸发的硅氧化蒸汽(SiOx)在导流筒外筒上凝聚,从而减少了氧化物(SiOx)落入硅液产生杂质而发生多晶化(Dislocation)的现象。
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