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公开(公告)号：CN102844820B
公开(公告)日：2015-04-01
申请号：CN201080066259.6
申请日：2010-05-27
Applicant: 三菱电机株式会社
Inventor： 原田久
CPC classification number: A61N5/1042 , A61N5/1043 , A61N5/1049 , A61N5/1065 , A61N5/1079 , A61N2005/1074 , A61N2005/1087 , G21K1/093
Abstract: 本发明的目的在于在粒子射线照射系统中，提供更高精度的剂量分布。照射控制部(13)包括设定带电粒子束的能量的能量设定控制器(14)、控制射束扫描器(41)的射束扫描控制器(16)、及控制射束直径变更器(40、60)的射束直径控制器(15)，照射控制部(13)利用射束直径控制器(15)将带电粒子束的射束直径设定为第一射束直径，利用射束扫描控制器(16)使带电粒子束以阶跃状进行扫描，以对照射目标的规定区域照射带电粒子束，之后，利用射束直径控制器(15)将带电粒子束的射束直径设定为与第一射束直径不同的第二射束直径，利用射束扫描控制器(16)使带电粒子束以阶跃状进行扫描，以控制成对与照射目标的所述规定区域的至少一部分重叠的区域照射带电粒子束。
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公开(公告)号：CN103917274A
公开(公告)日：2014-07-09
申请号：CN201280054629.3
申请日：2012-09-21
Applicant: 三菱电机株式会社
CPC classification number: A61N5/1042 , A61N5/1043 , A61N5/1067 , A61N2005/1087 , H05H7/04 , H05H2007/048 , H05H2277/11
Abstract: 本发明的粒子射线治疗系统包括对带电粒子射束进行加速的加速器系统、以及将从该加速器射出的高能量射束输送到照射位置的射束输送系统，所述射束输送系统中具备至少一个转向电磁铁和与该转向电磁铁相对应的至少一个射束位置监视器，所述射束位置监视器向所述转向电磁铁提供对周期性变动的射束位置进行校正的励磁电流。
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公开(公告)号：CN102905761B
公开(公告)日：2013-12-18
申请号：CN201180023612.7
申请日：2011-06-22
Applicant: 三菱电机株式会社
CPC classification number: G21K1/046 , A61N5/1043 , A61N5/1045 , A61N5/1048 , A61N2005/1052 , A61N2005/1054 , A61N2005/1087 , A61N2005/1095 , G21K1/10 , G21K5/00
Abstract: 本发明的目的在于提供一种能以简单的结构来检查扫描机构等的动作、从而可靠性更高的粒子射线照射装置。包括：对扫描出的粒子束(4)的一部分进行屏蔽的粒子束屏蔽体(6)；对扫描出的粒子束(4)与该粒子束屏蔽体(6)发生碰撞时所产生的即时信号进行检测的即时信号检测器(11)；以及信号比较装置(12)，该信号比较装置(12)预测并求出由预先决定的扫描图案所产生的即时信号的产生图案，并将其作为比较用信号时间图案来进行存放，该信号比较装置(12)将检测信号时间图案与所存放的比较用信号时间图案进行比较，以对粒子束的扫描或粒子束屏蔽体(6)的异常进行检测，其中，所述检测信号时间图案是根据预先决定的扫描图案来将粒子束进行扫描并对目标照射粒子束时由即时信号检测器(11)所检测出的信号的时间图案。
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公开(公告)号：CN102421481A
公开(公告)日：2012-04-18
申请号：CN200980159292.0
申请日：2009-06-03
Applicant: 三菱电机株式会社
IPC: A61N5/10
CPC classification number: A61N5/10 , A61N5/1043 , A61N2005/1087
Abstract: 本发明的目的在于提供一种既能抑制带电粒子束的最大可利用射程的减少、又能扩大束点的剂量分布的粒子射线照射装置。粒子射线照射装置包括粒子射线加速单元(1)、粒子射线输送单元(2)、具有带电粒子束扫描电磁铁和扫描电源(11)的扫描装置、及照射控制单元(14)，所述扫描装置包括第一扫描单元(3)和第二扫描单元(4)，该第一扫描单元(3)将带电粒子束进行扫描来形成伪扩大束点，该第二扫描单元(4)使所述伪扩大束点的位置与所述目标区域一致来进行扫描。
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公开(公告)号：CN104023791B
公开(公告)日：2017-03-08
申请号：CN201180074600.7
申请日：2011-11-03
Applicant: 三菱电机株式会社
IPC: A61N5/10
CPC classification number: A61N5/1081 , A61N5/1077 , A61N2005/1087 , A61N2005/1095
Abstract: 本发明的目的在于，即使带电粒子束为低能量，也以较小的射束尺寸对照射对象进行照射。本发明的粒子射线照射装置(58)的特征在于，包括：形成供带电粒子束(1)通过的真空区域的真空管道(6、7)；从真空区域释放带电粒子束(1)的真空窗8；在与射束轴垂直的方向上扫描带电粒子束(1)的扫描电磁铁(2、3)；具有对带电粒子束视器(5)的监视器装置(67)；覆盖真空窗(8)、并在下游侧配置有监视器装置(67)的低散射气体填充室(39)；以及对带电粒子束(1)的照射进行控制的照射管理装置(20)，低散射气体填充室(39)配置成使得监视器装置(67)与真空窗(8)在射束轴向上的相对位置能变更为规定位置，在照射带电粒子束(1)时，填充有散射比空气小的低散射气体。(1)的通过位置以及射束尺寸进行检测的位置监
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公开(公告)号：CN105073191A
公开(公告)日：2015-11-18
申请号：CN201380073590.4
申请日：2013-02-22
Applicant: 三菱电机株式会社
IPC: A61N5/10
CPC classification number: A61N5/1081 , A61N2005/1087 , H05H7/04 , H05H2007/008 , H05H2007/046 , H05H2007/048
Abstract: 本发明的粒子射线治疗装置具有旋转吊架(10)，该旋转吊架(10)构成为使照射装置(4)绕着转轴(XR)的周围旋转，由此来向被照射体照射粒子射线(B)，在该旋转吊架(10)中设置有入口侧偏转电磁铁(1)，该入口侧偏转电磁铁(1)具有使沿着转轴(XR)提供来的粒子射线(B)朝径向偏转从而导入照射装置(4)的偏转路径(1c)、以及与偏转路径(1c)自由切换并使所提供的粒子射线(B)直线前进的直进路径(1s)，该粒子射线治疗装置还包括轨道修正装置(5、6)，该轨道修正装置(5、6)具有在转轴(XR)方向的两侧夹着入口侧偏转电磁铁(1)而配置的两个位置传感器(5)。
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公开(公告)号：CN102292122B
公开(公告)日：2015-04-22
申请号：CN200980155484.4
申请日：2009-06-09
Applicant: 三菱电机株式会社
IPC: A61N5/10
CPC classification number: H01J3/22 , A61N5/1042 , A61N5/1043 , A61N5/1077 , A61N5/1078 , A61N2005/1087 , H01J3/26
Abstract: 本发明的目的在于获得一种照射自由度较高、能够减小照射到正常组织的照射量的粒子射线治疗装置。包括：扫描电磁铁(2)，该扫描电磁铁(2)对所提供的带电粒子束Bec进行扫描输出，使其整形为基于治疗计划的三维的照射形状；以及偏转电磁铁(4、5)，该偏转电磁铁(4、5)切换所述带电粒子束Bec的轨道，以使得由扫描电磁铁(2)进行了扫描后输出的带电粒子束Bec经过从扫描电磁铁(2)到等中心C之间设定的多条轨道(7a、7b、7c)中的、所选择的一条轨道，而到达等中心C。
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公开(公告)号：CN104258506A
公开(公告)日：2015-01-07
申请号：CN201410499265.0
申请日：2005-02-04
Applicant: 三菱电机株式会社
Inventor： 原田久
IPC: A61N5/10
Abstract: 在进行深度方向的照射区域扩大和横向的照射区域扩大的粒子射线照射方法及粒子射线照射装置中，力求使照射目标的各照射层的每一层照射剂量实质上为一定，以简化控制。深度方向照射区域扩大单元为将沿所述粒子射线束的照射方向上射程互不相同的多层照射层进行重叠的主动的照射区域扩大，另外，横向照射区域扩大单元为将所述粒子射线束的照射点沿横向进行重叠的主动的照射区域扩大，此外，配置具有沿照射目标深度方向最深部位的形状的物块，以使其横着切割粒子射线束。
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公开(公告)号：CN102292122A
公开(公告)日：2011-12-21
申请号：CN200980155484.4
申请日：2009-06-09
Applicant: 三菱电机株式会社
IPC: A61N5/10
CPC classification number: H01J3/22 , A61N5/1042 , A61N5/1043 , A61N5/1077 , A61N5/1078 , A61N2005/1087 , H01J3/26
Abstract: 本发明的目的在于获得一种照射自由度较高、能够减小照射到正常组织的照射量的粒子射线治疗装置。包括：扫描电磁铁(2)，该扫描电磁铁(2)对所提供的带电粒子束Bec进行扫描输出，使其整形为基于治疗计划的三维的照射形状；以及偏转电磁铁(4、5)，该偏转电磁铁(4、5)切换所述带电粒子束Bec的轨道，以使得由扫描电磁铁(2)进行了扫描后输出的带电粒子束Bec经过从扫描电磁铁(2)到等中心C之间设定的多条轨道(7a、7b、7c)中的、所选择的一条轨道，而到达等中心C。
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