公开(公告)号：CN1296064A

公开(公告)日：2001-05-23

申请号：CN00134237.1

申请日：2000-09-28

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 池本一人 ,  安部幸次郎 ,  青山哲男

IPC: C11D7/26 ,  H01L21/304

CPC classification number: H01L21/02071 ,  C11D7/08 ,  C11D7/10 ,  C11D7/263 ,  C11D7/268 ,  C11D7/3209 ,  C11D7/3227 ,  C11D11/0047 ,  G03F7/423 ,  G03F7/425 ,  H01L21/31133

Abstract: 一种光刻胶洗涤组合物包括0.001—0.5%重量氟化合物,50—99%重量醚溶剂和余量是水。由于含有这种特定含量范围的醚溶剂,该光刻胶洗涤组合物在冲洗步骤中用水稀释时表现出减小腐蚀性并可以完全去除光刻胶残余物而不腐蚀电路材料和基片材料。

公开(公告)号：CN105189501B

公开(公告)日：2017-09-26

申请号：CN201480023785.2

申请日：2014-04-23

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 池本一人

IPC: C07D471/04 ,  A61K31/4745 ,  A61K8/49 ,  A61K47/10 ,  A61K47/40 ,  C08B37/16 ,  A23L33/10 ,  A61P3/00 ,  A61P17/18

CPC classification number: C07D471/04 ,  A23L33/10 ,  A23V2002/00 ,  A61K8/494 ,  A61K9/10 ,  A61K9/146 ,  A61K31/4745 ,  A61K47/10 ,  A61K47/40 ,  A61Q19/00 ,  C08B37/0015 ,  C08L5/16

Abstract: 本发明涉及一种黄色系还原型吡咯喹啉醌结晶，其相对于水的溶解度为0.040～0.20(mg/mL)。

公开(公告)号：CN107106554A

公开(公告)日：2017-08-29

申请号：CN201580051221.4

申请日：2015-09-18

Applicant: 国立大学法人名古屋大学 ,  三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 森郁惠 ,  笹仓宽之 ,  池本一人 ,  中野昌彦

IPC: A61K31/4745 ,  A61P43/00

CPC classification number: C07D471/04 ,  A61K31/4745

Abstract: 一种寿命延长剂，其中含有吡咯喹啉醌和/或该吡咯喹啉醌的衍生物。

公开(公告)号：CN104744462B

公开(公告)日：2016-09-21

申请号：CN201510103290.7

申请日：2010-06-09

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 枝广纯一 ,  坂本齐 ,  池本一人 ,  清水甫 ,  长谷川达也 ,  中野昌彦

IPC: C07D471/04 ,  A61K31/4745 ,  A61P1/16 ,  A61P17/02 ,  A61P27/12 ,  A61P35/00 ,  A61P37/08 ,  A61P43/00 ,  A23L33/10

CPC classification number: C07D471/04 ,  A23L33/10 ,  A23L33/15 ,  A23V2002/00 ,  C07B2200/13

Abstract: 本发明提供一种吡咯并喹啉醌的三钠盐结晶及其制造方法，以及含有上述吡咯并喹啉醌的钠盐结晶的功能性食品、医药。该吡咯并喹啉醌的三钠盐结晶，作为通过X射线粉末衍射使用Cu Kα放射线得到的2θ的峰，显示6.6°、11.4°、13.0°、22.6°、26.9°、27.9°、37.0°、38.9°、43.4°(均为±0.2°)。

公开(公告)号：CN103857676B

公开(公告)日：2016-06-08

申请号：CN201280048910.6

申请日：2012-09-24

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 池本一人 ,  坂本齐

IPC: C07D471/04 ,  A23L33/10 ,  A23L2/52 ,  A61K8/49 ,  A61Q5/00 ,  A61Q19/00 ,  A61K31/4745 ,  A61P31/04 ,  A61P43/00

CPC classification number: C07D471/04 ,  A23K20/137 ,  A23L2/52 ,  A23L2/58 ,  A23L5/47 ,  A23L33/10 ,  A23V2002/00 ,  A61K8/4926 ,  A61K31/122 ,  A61K31/4745 ,  A61K2800/42 ,  A61Q1/06 ,  A61Q1/10 ,  A61Q5/02 ,  A61Q19/007 ,  A61Q19/08 ,  A61K2300/00

Abstract: 本发明涉及能够改善吡咯喹啉醌（PQQ）的红色并且能够得到原来的PQQ功能的式（A）或（B）所表示的化合物或者其盐，以及高效地制造这些化合物的制造方法（式中，R为烷基、羟烷基、二羟烷基或者烷氧基烷基）。

公开(公告)号：CN103857676A

公开(公告)日：2014-06-11

申请号：CN201280048910.6

申请日：2012-09-24

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 池本一人 ,  坂本齐

IPC: C07D471/04 ,  A23L1/30 ,  A23L2/52 ,  A61K8/49 ,  A61Q5/00 ,  A61Q19/00 ,  A61K31/4745 ,  A61P31/04 ,  A61P43/00

CPC classification number: C07D471/04 ,  A23K20/137 ,  A23L2/52 ,  A23L2/58 ,  A23L5/47 ,  A23L33/10 ,  A23V2002/00 ,  A61K8/4926 ,  A61K31/122 ,  A61K31/4745 ,  A61K2800/42 ,  A61Q1/06 ,  A61Q1/10 ,  A61Q5/02 ,  A61Q19/007 ,  A61Q19/08 ,  A61K8/67 ,  A61K2300/00

Abstract: 本发明涉及能够改善吡咯喹啉醌（PQQ）的红色并且能够得到原来的PQQ功能的式（A）或（B）所表示的化合物或者其盐，以及高效地制造这些化合物的制造方法（式中，R为烷基、羟烷基、二羟烷基或者烷氧基烷基）。

公开(公告)号：CN103119044A

公开(公告)日：2013-05-22

申请号：CN201180045652.1

申请日：2011-09-22

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 池本一人 ,  中野昌彦

IPC: C07D471/04

CPC classification number: C07D471/04

Abstract: 本发明的目的在于提供以不使用大量的有机溶剂、在工业上有用的方法制造吡咯并喹啉醌的钙盐的方法及其高纯度的结晶。根据本发明，通过使吡咯并喹啉醌的碱金属盐与钙离子源反应，制造高纯度的吡咯并喹啉醌的钙盐。

公开(公告)号：CN102770432A

公开(公告)日：2012-11-07

申请号：CN201180009574.X

申请日：2011-02-16

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 池本一人 ,  中野昌彦 ,  枝广纯一

IPC: C07D471/04

CPC classification number: C07D471/04

Abstract: 本发明的目的在于提供一种不需要昂贵的设备、由氧化型吡咯并喹啉醌简便地制造还原型吡咯并喹啉醌的方法、以及稳定地保存还原型吡咯并喹啉醌的方法。根据本发明，通过在溶剂中混合吡咯并喹啉醌和抗坏血酸，能够以适于工业规模的生产的方法、简便且有效地得到高品质的还原型吡咯并喹啉醌。

公开(公告)号：CN100338530C

公开(公告)日：2007-09-19

申请号：CN02821688.1

申请日：2002-10-31

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 清水英贵 ,  松永裕嗣 ,  大户秀 ,  池本一人

IPC: G03F7/42 ,  H01L21/027 ,  H01L21/302

CPC classification number: H01L21/02052 ,  G03F7/425 ,  H01L21/31133 ,  H01L21/31138

Abstract: 在本发明的抗蚀剂剥离方法中，在氧气比例为2%体积或更低的氛围中，使具有残留抗蚀剂层的布线基质与抗蚀剂剥离组合物接触。优选在用过氧化氢预处理残留的抗蚀剂层之后除去抗蚀剂。在本发明的抗蚀剂剥离方法中优选使用含胺化合物、溶剂、强碱和水的抗蚀剂剥离组合物。

公开(公告)号：CN1184299C

公开(公告)日：2005-01-12

申请号：CN00134237.1

申请日：2000-09-28

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 池本一人 ,  安部幸次郎 ,  青山哲男

IPC: C11D7/26 ,  H01L21/304

CPC classification number: H01L21/02071 ,  C11D7/08 ,  C11D7/10 ,  C11D7/263 ,  C11D7/268 ,  C11D7/3209 ,  C11D7/3227 ,  C11D11/0047 ,  G03F7/423 ,  G03F7/425 ,  H01L21/31133

Abstract: 一种光刻胶洗涤组合物包括0.001-0.5%重量氟化合物，50-99%重量醚溶剂和余量是水。由于含有这种特定含量范围的醚溶剂，该光刻胶洗涤组合物在冲洗步骤中用水稀释时表现出减小腐蚀性并可以完全去除光刻胶残余物而不腐蚀电路材料和基片材料。