公开(公告)号：CN101907828B

公开(公告)日：2013-10-16

申请号：CN201010198420.7

申请日：2010-06-07

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 上田二朗 ,  高濑英明 ,  藤冈昌泰 ,  露木亮太

IPC: G03F7/075 ,  G02F1/1362 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明涉及放射线敏感性组合物、保护膜、层间绝缘膜以及它们的形成方法。所述放射线敏感性组合物可以形成透明性、耐热性等优异，同时对ITO基板密合性以及耐裂性高的保护膜和层间绝缘膜，而且具有足够分辨率。本发明的放射线敏感性组合物包括：[A]硅氧烷聚合物，[B]选自由式(1)和(3)分别表示的化合物构成的群组中的至少一种硅烷化合物，以及[C]放射线敏感性酸产生剂或放射线敏感性碱产生剂。[A]硅氧烷聚合物优选为式(4)的水解性硅烷化合物的水解缩合物。还可以进一步含有[D]脱水剂。作为[C]放射线敏感性酸产生剂优选使用选自由三苯基锍盐和四氢噻吩鎓盐构成的群组中的至少一种。(R1O)3Si-R2-Si(OR3)3 (1)(R7)q-Si-(OR8)4-q (4)。

公开(公告)号：CN101646718B

公开(公告)日：2013-04-03

申请号：CN200880010115.1

申请日：2008-03-21

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 藤冈昌泰 ,  饭岛孝浩 ,  上田二朗 ,  花村政晓 ,  山内英树 ,  谷本加奈子

IPC: C08G81/00 ,  G02B5/20

CPC classification number: C09D183/10

Abstract: 本发明涉及固化性树脂组合物，该组合物含有：含有具选自环氧乙基、氧杂环丁基和烯丙基的至少一种官能基团的聚合性不饱和化合物的聚合物，以及含有可通过热与该聚合物发生交联反应的官能基团的滤色器保护膜用硅氧烷低聚物。该组合物即使是表面平整性低的基体，也可以在该基体上形成平整性高的固化膜，并且用于形成透明性和表面硬度高，耐热耐压性、耐酸性、耐碱性、耐溅射性等各种耐性优异的光学装置用保护膜。