杯芳烃化合物、固化性组合物及固化物

    公开(公告)号:CN111108089B

    公开(公告)日:2023-04-18

    申请号:CN201880051207.8

    申请日:2018-07-19

    Abstract: 提供杯芳烃化合物、包含其的固化性组合物及其固化物,所述杯芳烃化合物为下述式(1)所示的化合物,且1分子中含有至少一个‑CH2OH或酚羟基、且具有至少一个碳间不饱和键。[R1为具有‑CH2OH的结构部位(A)、具有碳间不饱和键的结构部位(B)、具有‑CH2OH和碳间不饱和键的结构部位(C)、除前述(A)、(B)、(C)以外的一价有机基团(D)或氢原子(E),R2为(A)、(B)、(C)、(D)、或(E)(其中,不包括R2全部为(E)的情况),R3为氢原子、脂肪族烃基、芳基中的任意者,n为2~10。*为与芳香环的键合点]。

    层间绝缘膜制造用涂布组合物、层间绝缘膜、及半导体元件、以及层间绝缘膜的制造方法

    公开(公告)号:CN115210853A

    公开(公告)日:2022-10-18

    申请号:CN202180017254.2

    申请日:2021-02-04

    Abstract: 提供能够以高生产率制造具有高杨氏模量和低相对介电常数的进行了图案形成的层间绝缘膜的层间绝缘膜制造用涂布组合物、及层间绝缘膜的制造方法、以及具有该层间绝缘膜的半导体元件。具体而言,一种层间绝缘膜制造用涂布组合物,其含有聚合性化合物(A)和光聚合引发剂(B),所述聚合性化合物(A)为具有2个以上聚合性基团的聚合性硅化合物,前述2个以上聚合性基团中的至少1个为*‑O‑R‑Y所示的聚合性基团Q(*表示对硅原子的键合,R表示单键、任选包含杂原子的非取代或取代的碳数1~12的亚烷基、或亚苯基,Y表示聚合性基团)。

    抗蚀剂组合物
    18.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113227181A

    公开(公告)日:2021-08-06

    申请号:CN201980086276.7

    申请日:2019-11-26

    Abstract: 本发明的目的在于,提供具有高耐热性且可用于使用电子射线和极紫外线的光刻的抗蚀剂组合物。具体而言,使用包含酚醛清漆型酚醛树脂(C)的金属盐的抗蚀剂组合物,所述酚醛清漆型酚醛树脂(C)以下述式(1)所示的芳香族化合物(A)和脂肪族醛(B)作为必需的反应原料。(下述式(1)中,R1和R2各自独立地表示氢原子、碳原子数1~9的脂肪族烃基、烷氧基、芳基、芳烷基或卤素原子。m和n各自独立地表示0~4的整数。存在多个R1时,多个R1任选彼此相同或不同。存在多个R2时,多个R2任选彼此相同或不同。R3表示氢原子、碳原子数1~9的脂肪族烃基、或者在烃基上具有1个以上选自烷氧基、卤素基团和羟基中的取代基的结构部位。)

    抗蚀永久膜用固化性组合物及抗蚀永久膜

    公开(公告)号:CN107111229B

    公开(公告)日:2020-11-27

    申请号:CN201580073572.5

    申请日:2015-11-19

    Inventor: 今田知之

    Abstract: 提供一种在溶剂中的溶解性优异、而且能得到碱显影性、耐热分解性、感光度及分辨率优异的涂膜、尤其适于得到抗蚀永久膜的固化性组合物、使用该固化性组合物得到的抗蚀永久膜。具体而言,提供一种抗蚀永久膜用固化性组合物、使该组合物固化而成的抗蚀永久膜,所述抗蚀永久膜用固化性组合物含有:具有下述结构式(1)所示分子结构的含酚羟基化合物(A)和、感光剂(B1)或固化剂(B2)(式(1)中,R1为氢原子、烷基或芳基,n为2~10的整数。R2为烷基、烷氧基、芳基、芳烷基、卤素原子中任意者,m为0~4的整数。m为2以上时,多个R2可以彼此相同,也可以不同,且可以键合在萘骨架的2个芳香环中的任意者上)。

    酚醛清漆型含酚性羟基树脂以及抗蚀膜

    公开(公告)号:CN107531858B

    公开(公告)日:2020-05-08

    申请号:CN201680025670.6

    申请日:2016-04-21

    Abstract: 本发明提供显影性、耐热性和基板追随性优异的酚醛清漆型含酚性羟基树脂以及抗蚀膜。一种酚醛清漆型含酚性羟基树脂,其特征在于,其是以下述结构式(1)[式中,Ar为下述结构式(Ar‑1)或(Ar‑2)所示的结构部位]所示的含酚性羟基化合物(A)、下述结构式(2)[式中,R3为碳原子数4~20的脂肪族烃基,j为1~3的整数]所示的含酚性羟基化合物(B)以及醛化合物(C)为必要反应成分的缩聚物。

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