正型光致抗蚀剂组合物
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103210349A

    公开(公告)日:2013-07-17

    申请号:CN201180054437.8

    申请日:2011-10-25

    Abstract: 本发明提供一种正型光致抗蚀剂组合物,其特征在于,其含有甲酚酚醛清漆树脂(A)和酚醛清漆型酚醛树脂(B),所述甲酚酚醛清漆树脂(A)是以间甲酚、对甲酚和甲醛为必需原料制造的,所述酚醛清漆型酚醛树脂(B)是以邻甲酚、间苯二酚和甲醛为必需原料制造的。该正型光致抗蚀剂组合物以高水平兼具至今难以兼具的灵敏度和耐热性,能够适宜用作在由于近年来的高度集成化而需要更细线化的图案制作的IC、LSI等半导体制造、LCD等显示装置制造、印刷原版制造等中使用的抗蚀剂。

    正型光致抗蚀剂组合物
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103270451B

    公开(公告)日:2015-08-26

    申请号:CN201180054438.2

    申请日:2011-10-25

    CPC classification number: G03F7/004 C08G8/04 C08G8/20 C08L61/12 G03F7/0236

    Abstract: 本发明提供一种正型光致抗蚀剂组合物,其特征在于,其含有将下述通式(1)或(2)所示的芳香族化合物(A)和脂肪族醛(B)缩聚而得到的酚醛清漆型酚醛树脂(C)作为必需成分。该正型光致抗蚀剂组合物以高水平兼具至今难以兼具的灵敏度和耐热性,能够适宜用作由于近年来的高度集成化而需要更细线化的图案制作的IC、LSI等半导体制造、LCD等显示装置制造、印刷原版制造等中使用的正型光致抗蚀剂。(式中,R1、R2和R3分别独立地为碳原子数1~8的烷基。另外,m、n和p分别独立地为0~4的整数,q为1~(5-p)的整数,s为1~(9-p)的整数。)。

    正型光致抗蚀剂组合物
    6.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103210349B

    公开(公告)日:2014-04-16

    申请号:CN201180054437.8

    申请日:2011-10-25

    Abstract: 本发明提供一种正型光致抗蚀剂组合物,其特征在于,其含有甲酚酚醛清漆树脂(A)和酚醛清漆型酚醛树脂(B),所述甲酚酚醛清漆树脂(A)是以间甲酚、对甲酚和甲醛为必需原料制造的,所述酚醛清漆型酚醛树脂(B)是以邻甲酚、间苯二酚和甲醛为必需原料制造的。该正型光致抗蚀剂组合物以高水平兼具至今难以兼具的灵敏度和耐热性,能够适宜用作在由于近年来的高度集成化而需要更细线化的图案制作的IC、LSI等半导体制造、LCD等显示装置制造、印刷原版制造等中使用的抗蚀剂。

    正型光致抗蚀剂组合物
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103270451A

    公开(公告)日:2013-08-28

    申请号:CN201180054438.2

    申请日:2011-10-25

    CPC classification number: G03F7/004 C08G8/04 C08G8/20 C08L61/12 G03F7/0236

    Abstract: 本发明提供一种正型光致抗蚀剂组合物,其特征在于,其含有将下述通式(1)或(2)所示的芳香族化合物(A)和脂肪族醛(B)缩聚而得到的酚醛清漆型酚醛树脂(C)作为必需成分。该正型光致抗蚀剂组合物以高水平兼具至今难以兼具的灵敏度和耐热性,能够适宜用作由于近年来的高度集成化而需要更细线化的图案制作的IC、LSI等半导体制造、LCD等显示装置制造、印刷原版制造等中使用的正型光致抗蚀剂。(式中,R1、R2和R3分别独立地为碳原子数1~8的烷基。另外,m、n和p分别独立地为0~4的整数,q为1~(5-p)的整数,s为1~(9-p)的整数。)

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