公开(公告)号：CN101105638B

公开(公告)日：2011-08-31

申请号：CN200710109897.1

申请日：2007-06-05

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： J·J·M·巴塞尔曼斯 ,  K·尤雅马

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70583 ,  G02B27/48

Abstract: 一种系统和方法用于从相干射束中形成不相干射束。系统包括辐射源和反射环路系统。辐射源产生相干或部分相干射束。反射环路系统接收该部分相干射束，并通过环路或备选通过不重叠环路反射该部分相干射束，以形成不相干射束。

公开(公告)号：CN102109775A

公开(公告)日：2011-06-29

申请号：CN201110063823.5

申请日：2006-03-29

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： P·A·J·蒂内曼斯 ,  J·J·M·巴塞尔曼斯

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70191 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70433 ,  G03F7/70508

Abstract: 光刻装置和采用数据过滤的器件制造方法。一种在衬底上形成图案的装置和方法。其包括投影系统，图案形成装置，低通滤光器，和数据操作处理装置。投影系统将辐射光束以子辐射光束阵列投射到衬底上。图案形成装置调制子辐射光束以在衬底上基本上产生被请求的剂量图案。低通滤光器对从被请求的剂量图案导出的图案数据进行操作，以便形成主要只包括低于选择的门限值频率的空间频率部分的频率限制的目标剂量图案。数据操作处理装置产生包括要由图案形成装置产生的点曝光强度的、基于从点曝光强度至频率限制的目标剂量图案的直接代数最小二乘方拟合的控制信号。在各种实施例中，可以使用图案锐化，图像对数斜率控制，和/或CD偏置的滤光器。

公开(公告)号：CN1808279A

公开(公告)日：2006-07-26

申请号：CN200510121556.7

申请日：2005-12-29

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： J·J·M·巴塞尔曼斯 ,  S·N·L·董德尔斯 ,  C·A·霍根达姆 ,  J·J·S·M·梅藤斯 ,  J·C·H·穆尔肯斯 ,  B·斯特里夫卡克

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  G06F17/00

CPC classification number: G03F9/7023 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70883

Abstract: 提供了一种用于修正沉浸光刻装置的曝光参数的方法。在该方法中，使用投射穿过在沉浸光刻装置的投影系统与衬底台之间的液体的测量光束来测量曝光参数，并根据物理特性的变化来确定偏移以至少部分地修正测量的曝光参数，所述物理特性影响用测量光束所做的测量。还提供了一种用来在沉浸光刻装置中测量与液体相连的光学元件的高度的装置和方法，所述液体在投影系统与衬底台之间。