黑矩阵用颜料分散组合物、黑矩阵用抗蚀剂组合物以及黑矩阵

    公开(公告)号:CN114539849A

    公开(公告)日:2022-05-27

    申请号:CN202111301052.9

    申请日:2021-11-04

    Inventor: 辻康人 灰藤哲

    Abstract: 本发明提供一种黑矩阵用颜料分散组合物,由其能够形成相对于基板的密合性优异的黑矩阵。该黑矩阵用颜料分散组合物包含黑色着色剂、酞菁铜的磺化物和胺化合物,所述胺化合物是选自下列化合物(A)~(D)中的至少一种:(A)具有吡啶骨架的胺化合物;(B)具有苯胺骨架的胺化合物;(C)具有咔唑骨架的胺化合物;(D)具有碳原子数为8以上的直链烷基、碳原子总数为20以下的胺化合物。

    滤色片用颜料分散物和含有该分散物的滤色片用颜料分散抗蚀剂组合物

    公开(公告)号:CN101899241B

    公开(公告)日:2014-05-28

    申请号:CN200910258428.5

    申请日:2009-09-29

    Abstract: 本发明提供了一种颜料分散性、流动性和分散稳定性良好的新型滤色片用颜料分散物,以及使用该滤色片用颜料分散物的具有良好涂层适应性和显影特性的滤色片用颜料分散抗蚀剂组合物。该颜料分散物含有颜料、颜料分散剂和有机溶剂,其中,所述颜料分散剂为满足下述条件1的化合物,条件1:使分子内具有异氰脲酸酯环的异氰酸酯化合物的异氰酸酯基与在分子内具有活性氢且还具有咔唑环和/或偶氮苯骨架的化合物的活性氢进行反应而得到的化合物,该化合物的分子内的咔唑环和偶氮苯骨架的量相对来源于具有异氰脲酸酯环的异氰酸酯化合物的异氰酸酯基或该异氰酸酯基与活性氢进行反应形成的尿烷键和尿素键的3者合计量为15~85%。

    黑色矩阵用颜料分散组合物
    19.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119592136A

    公开(公告)日:2025-03-11

    申请号:CN202410952619.6

    申请日:2024-07-16

    Abstract: 本发明提供一种黑色矩阵用颜料分散组合物,其保存稳定性优异,能够抑制在向基板涂布抗蚀剂~预烘烤之间的待机时间中的OD值(光学浓度)的降低,且所得到的抗蚀剂膜的细线密合性优异。所述黑色矩阵用颜料分散组合物包含内酰胺黑、二氧化硅系粒子、含有碱性基团的颜料分散剂以及碱溶性树脂,所述黑色矩阵用颜料分散组合物满足下述条件A或条件B中的至少任一者。(条件A)不包含炭黑。(条件B)包含炭黑,炭黑的平均一次粒径为30nm以上。

    黑色隔壁材料用分散液
    20.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116948463A

    公开(公告)日:2023-10-27

    申请号:CN202310111241.2

    申请日:2023-02-14

    Abstract: 本发明提供一种能够增大黑色隔壁材料的锥角、且也能够降低反射率、能够制作高精细的显示器的黑色隔壁材料用分散液。所述黑色隔壁材料用分散液包含内酰胺黑、丙烯酸系分散剂、树脂以及溶剂,对于内酰胺黑,体积基准粒径D50值为20~60nm,体积基准粒径D90值为40~110nm,丙烯酸系分散剂包含嵌段型共聚物。

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