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公开(公告)号:CN119592136A
公开(公告)日:2025-03-11
申请号:CN202410952619.6
申请日:2024-07-16
Applicant: 阪田油墨株式会社
IPC: C09D17/00 , G02F1/1335 , G02F1/1362 , G03F7/075 , G03F7/004
Abstract: 本发明提供一种黑色矩阵用颜料分散组合物,其保存稳定性优异,能够抑制在向基板涂布抗蚀剂~预烘烤之间的待机时间中的OD值(光学浓度)的降低,且所得到的抗蚀剂膜的细线密合性优异。所述黑色矩阵用颜料分散组合物包含内酰胺黑、二氧化硅系粒子、含有碱性基团的颜料分散剂以及碱溶性树脂,所述黑色矩阵用颜料分散组合物满足下述条件A或条件B中的至少任一者。(条件A)不包含炭黑。(条件B)包含炭黑,炭黑的平均一次粒径为30nm以上。
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公开(公告)号:CN118667391A
公开(公告)日:2024-09-20
申请号:CN202410036668.5
申请日:2024-01-10
Applicant: 阪田油墨株式会社
Abstract: 本发明提供一种黑色矩阵用颜料分散组合物,其所得到的抗蚀剂组合物的保存稳定性优异,能够抑制OD值(光学浓度)的降低,能够降低所得到的抗蚀剂膜的反射率,可得到高精细的显示器。所述黑色矩阵用颜料分散组合物包含内酰胺黑、二氧化硅系粒子、含有碱性基团的颜料分散剂以及碱溶性树脂,且满足下述条件A~条件C中的至少任一者。(条件A)不包含炭黑。(条件B)包含第1炭黑,第1炭黑的平均一次粒径为28nm以下。(条件C)包含第2炭黑,第2炭黑的平均一次粒径为30nm以上,且含有碱性基团的颜料分散剂的Tg为10℃以下。
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公开(公告)号:CN118546569A
公开(公告)日:2024-08-27
申请号:CN202410117836.3
申请日:2024-01-29
Applicant: 阪田油墨株式会社
Abstract: 本发明提供一种黑矩阵用颜料分散组合物,由其能够在形成黑矩阵时保持线宽于适当范围并且能够形成光密度、细线密合性以及表面电阻值也优异的黑矩阵。一种黑矩阵用颜料分散组合物,其包含黑色着色剂、颜料分散剂、颜料衍生物、卡多树脂以及含有包含下述(a)~(c)的材料的组合物。其中,(a)具有两个以上的马来酰亚胺基团的多官能马来酰亚胺化合物,(b)苯并噁嗪化合物,(c)环氧树脂。
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公开(公告)号:CN116731561A
公开(公告)日:2023-09-12
申请号:CN202310085575.7
申请日:2023-02-09
Applicant: 阪田油墨株式会社
IPC: C09D17/00 , G02F1/1335 , G02F1/1362 , G03F7/027 , G03F7/004
Abstract: 本发明提供一种黑矩阵用颜料分散组合物,由其能够在形成黑矩阵时保持显影时间及线宽于适当范围并且能够形成细线密合性及表面电阻值优异的黑矩阵。所述黑矩阵用颜料分散组合物包含黑色着色剂、颜料分散剂、粘合剂树脂以及有机溶剂,并且所述颜料分散剂具有戊内酯骨架和异氰脲酸酯骨架。
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