黑色矩阵用颜料分散组合物
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119592136A

    公开(公告)日:2025-03-11

    申请号:CN202410952619.6

    申请日:2024-07-16

    Abstract: 本发明提供一种黑色矩阵用颜料分散组合物,其保存稳定性优异,能够抑制在向基板涂布抗蚀剂~预烘烤之间的待机时间中的OD值(光学浓度)的降低,且所得到的抗蚀剂膜的细线密合性优异。所述黑色矩阵用颜料分散组合物包含内酰胺黑、二氧化硅系粒子、含有碱性基团的颜料分散剂以及碱溶性树脂,所述黑色矩阵用颜料分散组合物满足下述条件A或条件B中的至少任一者。(条件A)不包含炭黑。(条件B)包含炭黑,炭黑的平均一次粒径为30nm以上。

    黑色隔壁材料用分散液
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116948463A

    公开(公告)日:2023-10-27

    申请号:CN202310111241.2

    申请日:2023-02-14

    Abstract: 本发明提供一种能够增大黑色隔壁材料的锥角、且也能够降低反射率、能够制作高精细的显示器的黑色隔壁材料用分散液。所述黑色隔壁材料用分散液包含内酰胺黑、丙烯酸系分散剂、树脂以及溶剂,对于内酰胺黑,体积基准粒径D50值为20~60nm,体积基准粒径D90值为40~110nm,丙烯酸系分散剂包含嵌段型共聚物。

    黑色矩阵用颜料分散组合物
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118667391A

    公开(公告)日:2024-09-20

    申请号:CN202410036668.5

    申请日:2024-01-10

    Abstract: 本发明提供一种黑色矩阵用颜料分散组合物,其所得到的抗蚀剂组合物的保存稳定性优异,能够抑制OD值(光学浓度)的降低,能够降低所得到的抗蚀剂膜的反射率,可得到高精细的显示器。所述黑色矩阵用颜料分散组合物包含内酰胺黑、二氧化硅系粒子、含有碱性基团的颜料分散剂以及碱溶性树脂,且满足下述条件A~条件C中的至少任一者。(条件A)不包含炭黑。(条件B)包含第1炭黑,第1炭黑的平均一次粒径为28nm以下。(条件C)包含第2炭黑,第2炭黑的平均一次粒径为30nm以上,且含有碱性基团的颜料分散剂的Tg为10℃以下。

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