黑矩阵用抗蚀剂组合物以及黑矩阵

    公开(公告)号:CN113589645A

    公开(公告)日:2021-11-02

    申请号:CN202110457761.X

    申请日:2021-04-27

    Abstract: 本发明提供一种黑矩阵用抗蚀剂组合物,由其能够形成即使施以高温且长时间的后烘之后表面电阻值也不降低的黑矩阵。所述黑矩阵用抗蚀剂组合物包含黑色着色剂、具有羧基的碱溶性树脂、光聚合引发剂、有机溶剂以及噁嗪化合物,所述噁嗪化合物是下列通式(1)和/或(2)所示的化合物。在通式(1)中,R1和R2表示任选地含有不饱和键的烷基或芳基,彼此任选地相同或不同;X1表示下列式(3)~(5)所示的连接基团中的任一种。在通式(2)中,R3和R4表示任选地含有不饱和键的烷基或芳基,彼此任选地相同或不同;X2是二价的连接基团。

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