公开(公告)号：CN114539849B

公开(公告)日：2025-01-28

申请号：CN202111301052.9

申请日：2021-11-04

Applicant: 阪田油墨株式会社

Inventor： 辻康人 ,  灰藤哲

IPC: C09D17/00 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明提供一种黑矩阵用颜料分散组合物，由其能够形成相对于基板的密合性优异的黑矩阵。该黑矩阵用颜料分散组合物包含黑色着色剂、酞菁铜的磺化物和胺化合物，所述胺化合物是选自下列化合物(A)～(D)中的至少一种：(A)具有吡啶骨架的胺化合物；(B)具有苯胺骨架的胺化合物；(C)具有咔唑骨架的胺化合物；(D)具有碳原子数为8以上的直链烷基、碳原子总数为20以下的胺化合物。

公开(公告)号：CN114644860A

公开(公告)日：2022-06-21

申请号：CN202111451025.X

申请日：2021-12-01

Applicant: 阪田油墨株式会社

Inventor： 辻康人 ,  灰藤哲

IPC: C09D17/00 ,  G03F7/027 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明提供一种黑矩阵用颜料分散组合物，该黑矩阵用颜料分散组合物即使在后烘烤后也能够保持表面电阻值并且能够形成热流特性也优异的黑矩阵。一种黑矩阵用颜料分散组合物，其包含黑色着色剂、酞菁铜的磺化物和胺化合物，上述胺化合物是咪唑类化合物和/或三唑类化合物；相对于100质量份上述黑色着色剂，上述胺化合物的含量为0.1质量份～1.5质量份。

公开(公告)号：CN114539847A

公开(公告)日：2022-05-27

申请号：CN202111299836.2

申请日：2021-11-04

Applicant: 阪田油墨株式会社

Inventor： 辻康人 ,  灰藤哲

IPC: C09D17/00 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明提供一种黑矩阵用颜料分散组合物，由其能够形成即使进行高温且长时间的后烘烤也不降低表面电阻值的黑矩阵，并且能够得到断点不随保存时间而变化的黑矩阵用抗蚀剂组合物。一种黑矩阵用颜料分散组合物，其包含黑色着色剂、酞菁铜的磺化物和环氧化合物。

公开(公告)号：CN114539847B

公开(公告)日：2024-12-03

申请号：CN202111299836.2

申请日：2021-11-04

Applicant: 阪田油墨株式会社

Inventor： 辻康人 ,  灰藤哲

IPC: C09D17/00 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明提供一种黑矩阵用颜料分散组合物，由其能够形成即使进行高温且长时间的后烘烤也不降低表面电阻值的黑矩阵，并且能够得到断点不随保存时间而变化的黑矩阵用抗蚀剂组合物。一种黑矩阵用颜料分散组合物，其包含黑色着色剂、酞菁铜的磺化物和环氧化合物。

公开(公告)号：CN114539849A

公开(公告)日：2022-05-27

申请号：CN202111301052.9

申请日：2021-11-04

Applicant: 阪田油墨株式会社

Inventor： 辻康人 ,  灰藤哲

IPC: C09D17/00 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明提供一种黑矩阵用颜料分散组合物，由其能够形成相对于基板的密合性优异的黑矩阵。该黑矩阵用颜料分散组合物包含黑色着色剂、酞菁铜的磺化物和胺化合物，所述胺化合物是选自下列化合物(A)～(D)中的至少一种：(A)具有吡啶骨架的胺化合物；(B)具有苯胺骨架的胺化合物；(C)具有咔唑骨架的胺化合物；(D)具有碳原子数为8以上的直链烷基、碳原子总数为20以下的胺化合物。

公开(公告)号：CN114539848A

公开(公告)日：2022-05-27

申请号：CN202111301045.9

申请日：2021-11-04

Applicant: 阪田油墨株式会社

Inventor： 辻康人 ,  灰藤哲

IPC: C09D17/00 ,  G03F7/004 ,  C09C1/56 ,  C09C3/08 ,  G02F1/1335

Abstract: 本发明提供一种黑矩阵用颜料分散组合物，由其能够形成具有高表面电阻值的黑矩阵。黑矩阵用颜料分散组合物，其包含黑色着色剂、酞菁铜的磺化物和胺化合物，所述胺化合物是选自下列化合物(A)和(B)中的至少一种：(A)在从氨基的氮原子出发后3个原子以内具有二级以上的碳原子的胺化合物；(B)氨基通过碳原子数3以下的烃基与一个以上的芳环连接的胺化合物。