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公开(公告)号:CN118197961A
公开(公告)日:2024-06-14
申请号:CN202410333976.4
申请日:2024-03-22
Applicant: 重庆大学
Abstract: 本发明公开了一种用于PAN型刻蚀液湿法刻蚀的抑菌水洗干燥装置;所述抑菌水洗干燥装置包括依次连接的第一水洗区间、第二水洗区间和风干区间;所述抑菌水洗干燥装置还包括抑菌循环系统,所述抑菌循环系统包括抑菌循环管和抑菌循环泵,所述抑菌循环管上缠绕有超导螺线圈;所述水箱上还设有振荡腔,所述振荡腔内设有压电换能器,所述振荡腔的一面连接抑菌循环管,所述振荡腔相对的另一面形成倒V字型凹陷并且连接文杜里管,所述文杜里管的出口连接矢量喷管,所述矢量喷管设置在水箱内;所述风干区间的入口处设有气帘风刀,所述气帘风刀用于沿着竖直方向吹气形成气帘,防止第二水洗区间的水汽进入风干区间。本发明解决了水洗干燥装置中的细菌问题。
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公开(公告)号:CN114695207A
公开(公告)日:2022-07-01
申请号:CN202210326399.7
申请日:2022-03-30
Applicant: 重庆大学
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明公开了一种带有等离子体清洗的湿法刻蚀装置,所述湿法刻蚀装置包括等离子体清洗腔和刻蚀腔;所述湿法刻蚀装置还包括涡流管、冷却风刀Ⅰ、冷却风刀Ⅱ、加热风刀Ⅰ和加热风刀Ⅱ;所述涡流管的冷气管分别与冷却风刀Ⅰ和冷却风刀Ⅱ连通,所述涡流管的热气管分别与加热风刀Ⅰ和加热风刀Ⅱ连通。本发明通过引入涡流管形成特殊的气路装置,该装置可以将气体分离成冷气体和热气体,冷气体对基板和等离子体清洗腔进行降温,避免高压等离子体对Al、Cu、ITO等膜层的损伤,又可以充分去除有机物避免刻蚀残留,还能抑制挥发出的刻蚀蒸汽对膜层的腐蚀,防止线宽偏小的问题。同时,该装置分离出的热气体可以确保刻蚀腔室温度分布均匀,提升刻蚀均一性。
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