一种利用1,2-二芳炔前体合成多取代芳基化合物的方法

    公开(公告)号:CN111675721A

    公开(公告)日:2020-09-18

    申请号:CN202010606847.X

    申请日:2020-06-30

    Applicant: 许昌学院

    Inventor: 吕春杰 张羽翔

    Abstract: 本发明公开了一种利用1,2-二芳炔前体合成多取代芳基化合物的方法,将苯胺类化合物A,碳酸钾以及3-(氯甲基)吡啶盐酸盐固相混合均匀,50摄氏度条件下缓慢搅拌,反应12小时后点板监测反应完全;待反应完全,反应粗品直接经硅胶柱层析纯化,得到纯品N,N-双(吡啶-2-基甲基)苯胺类配体化合物C。本发明利用1,2-二芳炔前体生成的第一个芳炔中间体与N,N-二甲基甲酰胺一锅煮进行反应,高效地制备了3-位含醛基取代基团芳炔前体B。本发明首先实现了3-位含醛基取代基团的多取代芳基化合物的合成,在有机物合成和药物合成领域具有广阔的应用前景;其次,此方法合成方法简便,能大量制备。

    一种原子层沉积技术生长SnSx薄膜的方法

    公开(公告)号:CN114875390A

    公开(公告)日:2022-08-09

    申请号:CN202210486755.1

    申请日:2022-05-06

    Applicant: 许昌学院

    Abstract: 本发明提供一种原子层沉积技术生长SnSx薄膜的方法,属于纳米材料制备技术领域。包括以下步骤:将衬底置于反应腔中,在真空条件下,以脉冲形式向反应腔中通入气相Sn源进行沉积,得到沉积有Sn源的衬底,所述Sn源为Sn(acac)2;(2)向体系中充入惰性气体进行吹扫;(3)将硫醇作为硫源以脉冲形式通入反应腔,与沉积在衬底上的Sn源进行反应,得到纳米SnSx薄膜;(4)向体系中充入惰性气体吹扫,完成一个ALD循环,将上述循环过程重复多次,即可得到一定厚度的SnSx薄膜。本发明可以在衬底上沉积形成保型性较好的含SnSx沉积层。

    变桨系统超级电容异常工况控制方法

    公开(公告)号:CN114006464A

    公开(公告)日:2022-02-01

    申请号:CN202111310995.8

    申请日:2021-11-08

    Applicant: 许昌学院

    Abstract: 本发明公开了变桨系统超级电容异常工况控制方法,属于风力发电技术领域,步骤301、变桨系统中变桨驱动器检测超级电容电压,并计算方差值,通过方差值初步判断超级电容电压是否发生了波动;步骤302、变桨驱动器检测超级电容电压最小值,进一步确认超级电容的电压是否发生了波动;在变桨系统运行、尤其是收桨过程中,由充电器直接为变桨电机提供电能,减少超级电容的耗电,通过变桨电机电流值来监测超级电容的异常工况,由于叶片在正常变桨过程中,变桨电机的电流值波动较小,超级电容电压波动频繁,对变桨电机的电流值的检测更容易实现,并且控制精度更高,可靠程度更高。

    一种原子层沉积技术ALD生长NiSix薄膜的方法

    公开(公告)号:CN112442681A

    公开(公告)日:2021-03-05

    申请号:CN202011077872.X

    申请日:2020-10-10

    Applicant: 许昌学院

    Abstract: 本发明提供一种原子层沉积技术ALD生长NiSix薄膜的方法,包括以下步骤:将半导体衬底置于反应腔中,在真空条件且载气存在的条件下,以脉冲形式向反应腔中通入Ni源进行沉积,所述Ni源为气相Ni源,得到沉积有Ni源的衬底;向反应腔中充入惰性气体进行吹扫;在载气存在的条件下,以脉冲形式向反应腔通入硅源,所述硅源为气相硅源,与沉积在衬底上的Ni源进行单原子反应,得到纳米NiSix薄膜;向反应腔中充入惰性气体进行吹扫,完成一个ALD生长循环;重复步骤一至步骤四1~3000次,通过重复不同次数制备得到不同厚度的NiSix沉积层。本发明可以在衬底上沉积形成保型性好、表面粗糙度低的含NiSix沉积层。

    一种超灵敏的水体中汞离子检测方法

    公开(公告)号:CN112326752A

    公开(公告)日:2021-02-05

    申请号:CN202010999383.3

    申请日:2020-09-22

    Applicant: 许昌学院

    Abstract: 本发明提供一种超灵敏的水体中汞离子检测方法,所述水体中汞离子检测方法的步骤为:锥形聚合物纳米通道的制备;汞离子引发的杂交链式反应溶液的配制;汞离子的检测;数据处理。本发明具有简单、快速、低成本、高通量和无需标记的优点,根据Hg2+能与胸腺嘧啶碱基形成稳定的T‑Hg‑T结构的原理,设计了可特异性检测Hg2+的功能核酸序列,可以实现水体中Hg2+的选择性检测,且将杂交链式反应信号放大技术与纳米孔单分子检测技术相结合,有效地提高检测方法的灵敏度,在单分子水平上实现了对金属离子汞的超灵敏检测分析,可应用于水环境中汞离子的实时检测及汞离子毒理作用的研究。

    一种快速、超灵敏的ATP检测方法及其应用

    公开(公告)号:CN112326747A

    公开(公告)日:2021-02-05

    申请号:CN202010999381.4

    申请日:2020-09-22

    Applicant: 许昌学院

    Abstract: 本发明提供一种快速、超灵敏的ATP检测方法及其应用,所述ATP检测方法包括三个基本步骤,分别为:锥形聚合物纳米通道的制备;ATP的检测;数据处理。本发明在检测生物细胞ATP分子时,具有操作简单、耗时较少、成本较低的特点,通过设计捕获探针DNA(H1,H2)和辅助探针DNA(H3,H4)的DNA序列,实现ATP分子的特异性检测,同时具有良好的抗干扰能力,且在检测生物细胞ATP分子时无需分子标记,可实现高通量、超灵敏检测,检出限可低至pM级别,同时还可观测到单分子指纹信息。

    一种热原子层沉积技术ALD生长CoSix薄膜的方法

    公开(公告)号:CN112281138A

    公开(公告)日:2021-01-29

    申请号:CN202011077350.X

    申请日:2020-10-10

    Applicant: 许昌学院

    Abstract: 本发明提供了一种热原子层沉积技术ALD生长CoSix薄膜的方法,包括以下步骤:1)将半导体衬底置于反应腔中,在真空且载气存在的条件下,以脉冲形式向反应腔中通入气相Co源进行沉积,得到沉积有Co源的衬底;2)向反应腔中充入惰性气体对沉积有Co源的衬底进行吹扫;3)在载气存在的条件下,以脉冲形式向反应腔通入硅源,所述硅源为气相硅源,与沉积在衬底上的Co源进行单原子反应,得到纳米CoSix薄膜;4)向反应腔中充入惰性气体进行吹扫,完成一个ALD生长循环;重复步骤一至步骤四的操作1~3000次,即可得到生长有不同厚度的CoSix沉积层。本发明可以在衬底上沉积形成保型性好、表面粗糙度低的含CoSix沉积层。

    一种N,N-双(吡啶-2-基甲基)苯胺类配体的合成方法

    公开(公告)号:CN111620810A

    公开(公告)日:2020-09-04

    申请号:CN202010606848.4

    申请日:2020-06-30

    Applicant: 许昌学院

    Inventor: 吕春杰 张羽翔

    Abstract: 本发明公开了一种N,N-双(吡啶-2-基甲基)苯胺类配体的合成方法,以苯胺类化合物A和3-(氯甲基)吡啶盐酸盐B为原料,利用碳酸钾做碱,不加溶剂,利用固相反应合成N,N-双(吡啶-2-基甲基)苯胺类配体。本发明使用的各原料非常简单,均为简单易得,来源广泛,并且性能非常稳定,不需要特殊保存条件;合成N,N-双(吡啶-2-基甲基)苯胺类配体化合物的传统的方法一般是使用强碱高温、溶剂或者催化剂来实现、产率不高。本发明苯胺类类衍生物和碳酸钾、3-(氯甲基)吡啶盐酸盐作为起始原料反应得到N,N-双(吡啶-2-基甲基)苯胺类配体化合物。反应操作比较简单,反应条件温和,不需要溶剂,产率较高,适合大规模工业化生产。

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