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公开(公告)号：CN102798917B
公开(公告)日：2015-02-25
申请号：CN201110136683.X
申请日：2011-05-25
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 一种彩色图像的制作方法及使用该方法制作的彩色滤光片。该彩色图像和彩色滤光片的色彩由法布里-珀罗谐振腔的共振特性表征。通过纳米压印工艺，制作出具有不同厚度的法布里-珀罗谐振腔，这些不同厚度的法布里-珀罗谐振腔分别对应红色、绿色和蓝色。这些红色、绿色、蓝色法布里-珀罗谐振腔根据分色原理分布，并且其组合在宏观上满足具有表现整体图像的效果。
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公开(公告)号：CN102998914B
公开(公告)日：2015-01-14
申请号：CN201210591299.3
申请日：2012-12-31
Applicant: 苏州大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种直写式光刻加工系统和光刻方法，该光刻加工系统包括能够运用傅立叶展开计算功能的控制系统和由该控制系统控制实现多次光刻的曝光系统。该光刻方法依据傅立叶分析原理，将待刻曲面展开为傅立叶多项式，然后根据多项式中各项余弦函数进行多次光刻，使得多此光刻叠加后实现目标曲面的刻蚀。通过本发明的实施，能够对任意大幅面的三维曲面进行刻蚀，并且具有较高的设计灵活性、刻蚀效率和精确度，以及较低的成本等优点。
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公开(公告)号：CN102736451B
公开(公告)日：2014-02-26
申请号：CN201210229255.6
申请日：2012-07-04
Applicant: 苏州大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种三光束干涉光刻方法和系统，其方法包括：激光束被位相光栅分光成三路光束后在加工工件表面实现N次干涉曝光，相邻两次曝光位置之间的错位值为dI/N，其中，N为大于等于3的奇数，dI为曝光后的光强分布的周期，所述三路光束分别为复振幅相同的第一光束和第二光束以及0级光束。通过本发明的三光束干涉光刻方法，可以在光刻胶上直接制备大幅面的精密多台阶结构，加工效率高，而且所采用的元器件容易获得，成本低。另外，采用三光束干涉曝光，对光栅和系统没有消零级的要求，易于制备。
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公开(公告)号：CN103424794A
公开(公告)日：2013-12-04
申请号：CN201310395325.X
申请日：2013-09-03
Applicant: 苏州大学
CPC classification number: G02B27/1086 , G02B5/1842 , G02B5/1866 , G03F7/70408
Abstract: 一种透射式分光光栅及干涉光刻系统，该透射式分光光栅包括位于入射面的光栅槽形区和位于该光栅槽形区外围的阻光区，所述光栅槽形区包括阶梯状光栅结构，该阶梯状光栅结构具有透射阶梯面和非透射区。该透射式分光光栅能够实现对±1级光的最大调制，使得透射出去的分束光具有最高的能量利用率，通过该透射式分光光栅的获得的干涉图形，具有良好的边界质量，能够完成进行精密的拼接图形，使得大幅面干涉光刻技术得到显著的提升。
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公开(公告)号：CN103279014A
公开(公告)日：2013-09-04
申请号：CN201310236124.5
申请日：2013-06-14
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 一种纳米图形化衬底制备装置和方法，该制备方法依赖激光干涉曝光对衬底翘曲的不敏感性，克服蓝宝石衬底翘曲特性给现有图形化技术带来的离焦问题，并在制备装置中，设计了能够对相位和空间光场信息进行调制的光学系统，使得该激光干涉曝光系统能够对干涉光斑的形状大小和内部点阵分布进行控制，从而为衬底的纳米图形化工艺带来了工业化应用的可能。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101976020B
公开(公告)日：2012-08-22
申请号：CN201010503788.X
申请日：2010-10-12
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 一种光刻装置及光刻方法，该光刻装置根据光路的可逆原理在光阑的共轭位置处设置检测装置，可以检测光束在待刻物件表面的汇聚和成像信息，提高光刻光点的品质，同时该光刻方法应用上述光刻装置实现在刻蚀过程中无论由待刻物件表面的凹凸情况引起的离焦现象，还是由填充液加热导致的折射率变化而引起的离焦现象，都能即时地、精确地进行自动调焦，从而保证了移动式曝光的光刻质量。
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公开(公告)号：CN102621824A
公开(公告)日：2012-08-01
申请号：CN201210114482.4
申请日：2012-04-18
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种光学加工系统，包括：加工平台，实现第一运动轴的步进运动和第二运动轴的扫描运动；空间光调制器，产生设计图形；投影光学系统，包括第一透镜组、第二透镜组和滤波器，所述滤波器设于所述第一透镜组和第二透镜组之间且位于所述第一透镜组的频谱面上。申请的光学加工系统和方法实现的灰度等级不依赖于曝光时间和曝光次数，可以在极短曝光时间内和单次曝光的条件下实现准确的灰度等级，因而完全适用于飞行曝光加工方式，加工效率和定位精度高。
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公开(公告)号：CN102591159A
公开(公告)日：2012-07-18
申请号：CN201210076397.3
申请日：2012-03-21
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种光学加工系统，包括加工平台、光学投影镜头、光学模板、中央控制系统、位置补偿系统和光源。其中，位置补偿系统包括位置检测系统、空间光调制器、位置信号处理模块和偏差筛选模块。本发明的光学加工系统中，加工平台实现第一运动轴的步进运动和第二运动轴的扫描运动，光学模板实现第三运动轴的扫描运动，通过空间光调制器对第二运动轴方向上的曝光位置进行动态补偿，实现了第二运动轴和第三运动轴这两个扫描轴的精确高速同步，从而能够以“两轴扫描、一轴步进”的方式实现三维加工，其加工效率和加工精度大幅提升。
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公开(公告)号：CN103729673B
公开(公告)日：2017-01-04
申请号：CN201410042013.5
申请日：2014-01-28
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 一种三维码及其制备方法，该三维码包括多个空间复用的二维编码图形，所述空间复用是指将多个二维编码图形以不同的角度记录在记录材料表面的同一空间处，解码时，利用识读引擎以记录时对应的角度进行识读，从而分别解码出特定角度下记录的二维编码图形字符。与二维码相比，该三维码增加空间利用率、提高了信息容量，通过多视角通道的复用和信息的相互验证，提高了二维码使用和识别的安全性。
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公开(公告)号：CN102798918B
公开(公告)日：2016-08-03
申请号：CN201110136699.0
申请日：2011-05-25
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 本发明涉及一种反射式彩色滤光片。基底、高反金属层、共振腔层以及半反半透金属层。其中，共振腔层和半反半透金属层的交界面处为线栅结构，半反半透金属层覆盖在该线栅结构上，形成金属光栅，该金属光栅的周期小于400nm。通过调整线栅共振腔的厚度、线栅的占宽比、反射层2的厚度和覆盖层的厚度等参数，可以获得低角敏、带宽合适且旁带反射率低的反射式彩色滤光片，且可实现不同颜色的反射滤波。
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