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公开(公告)号：CN102257045A
公开(公告)日：2011-11-23
申请号：CN200980151252.1
申请日：2009-12-22
Applicant: 积水化学工业株式会社
CPC classification number: B32B27/16 , B32B7/12 , B32B27/08 , B32B27/308 , B32B2307/412 , B32B2307/42 , B32B2457/202 , C08J7/18 , G02B1/105 , G02B1/14
Abstract: 本发明提供一种膜的表面处理方法及装置以及偏振片的制造方法。将与易粘接性树脂膜(12)粘接的难粘接性树脂膜(11)配置在接近大气压的处理空间(22)内。通过工艺气体供给系统(3)，将含有丙烯酸(聚合性单体)蒸气的工艺气体供给到处理空间(22)。在等离子体处理部(2)，将工艺气体等离子体化并使其与难粘接性树脂膜(11)接触。设定工艺气体的供给流量，以使处理空间(22)内的氧浓度达到3000ppm以下。由此，可以提高难粘接性树脂膜的粘接性，进而能够进行高速处理。
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公开(公告)号：CN100433263C
公开(公告)日：2008-11-12
申请号：CN200480018059.8
申请日：2004-06-24
Applicant: 积水化学工业株式会社
IPC: H01L21/205 , H01L21/31 , C23C16/455 , H05H1/46
Abstract: 在用于将处理气体通过孔排比如狭缝喷射到有待处理的物体的表面的处理设备中，即使该孔排很短，具有大面积的物体的表面也可以被有效地处理。多个电极板(11，12)被并排地设置于等离子表面处理设备(M)的处理器(1)上。狭缝状的孔排(10a)形成于相邻的电极板之间，并且由并排设置的孔排(10a)组成孔排组(100)。该物体(W)通过移动机构(4)沿着每个狭缝(10a)的延伸方向移动。
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公开(公告)号：CN103619926B
公开(公告)日：2016-03-02
申请号：CN201280030972.4
申请日：2012-08-27
Applicant: 积水化学工业株式会社
Abstract: 本发明在提高用于偏振板的保护膜等的树脂制的被处理膜的粘接性的同时，提高通过粘接而形成的偏振板等膜层叠体的耐热水性。第一处理部(91)中，使含有聚合性单体及交联性添加成分的第一气体与被处理膜(9)接触(第一处理工序)。在第一处理工序后或与第一处理工序并行地，使氮气等放电生成气体进行等离子体化，而与被处理膜(9)接触(第二处理工序)。将交联性添加成分相对于聚合性单体的含有率设定在规定范围内，优选将上述含有率设定在0.5wt％～10wt％。上述交联性添加成分优选为二烯丙基化合物、炔化合物、或硅醇盐化合物。可以向上述放电生成气体中加入0.5vol％以下的氧气。
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公开(公告)号：CN102884223B
公开(公告)日：2015-01-07
申请号：CN201180015135.X
申请日：2011-03-10
Applicant: 积水化学工业株式会社
IPC: C23C16/455
CPC classification number: C23C16/45578 , C23C16/4557 , C23C16/50 , C23C16/545 , H01J37/3244 , H01J37/32541 , H01J37/3277
Abstract: 本发明提供一种在反应气体的反应成分容易凝结的情况下也能够防止其在喷嘴的内部凝结且能够避免短路等不良情况的等离子处理装置。在等离子处理装置(1)的一对电极(11、12)之间形成放电空间(13)，向被处理物(9)照射等离子。喷嘴(20)配置在一对电极(11、12)的至少一方或放电空间(13)的附近。从喷嘴(20)向被处理物(9)喷出含有凝结性的反应成分的反应气体。通过喷嘴温度调节机构(30)对喷嘴(20)的温度进行调节。在喷嘴(20)内形成温度调节路(32)作为温度调节机构(30)，并使温度调节液流动。通过液温调节部(31)以成为比反应成分的凝结温度高的高温的方式对温度调节液进行调节。
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公开(公告)号：CN102884223A
公开(公告)日：2013-01-16
申请号：CN201180015135.X
申请日：2011-03-10
Applicant: 积水化学工业株式会社
IPC: C23C16/455
CPC classification number: C23C16/45578 , C23C16/4557 , C23C16/50 , C23C16/545 , H01J37/3244 , H01J37/32541 , H01J37/3277
Abstract: 本发明提供一种在反应气体的反应成分容易凝结的情况下也能够防止其在喷嘴的内部凝结且能够避免短路等不良情况的等离子处理装置。在等离子处理装置(1)的一对电极(11、12)之间形成放电空间(13)，向被处理物(9)照射等离子。喷嘴(20)配置在一对电极(11、12)的至少一方或放电空间(13)的附近。从喷嘴(20)向被处理物(9)喷出含有凝结性的反应成分的反应气体。通过喷嘴温度调节机构(30)对喷嘴(20)的温度进行调节。在喷嘴(20)内形成温度调节路(32)作为温度调节机构(30)，并使温度调节液流动。通过液温调节部(31)以成为比反应成分的凝结温度高的高温的方式对温度调节液进行调节。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101352108B
公开(公告)日：2011-12-07
申请号：CN200680049571.8
申请日：2006-12-22
Applicant: 夏普株式会社 , 积水化学工业株式会社
IPC: H05H1/24 , B65G49/06 , C23C16/458 , H01L21/3065 , H01L21/316 , H01L21/683
CPC classification number: H01L21/68742 , B65G49/064 , B65G49/065 , B65G2249/02 , B65G2249/04 , B65G2249/045 , H01J37/32431 , H01J2237/20 , H01L21/68778
Abstract: 本发明涉及台装置和等离子体处理装置。提供在台的载置面上载置有被处理基板的状态下，在升降销的上端和载置面之间不产生高低平面差的台装置，此外，还提供利用该台装置作为电极台，能够抑制处理不均的发生的等离子体处理装置。在电极台(2)的中央部，配置有沿销移动方向具有弹性的弹簧式升降销(20)。弹簧式升降销(20)在收容位置上，销上端(20a)从电极台(2)的载置面(11)向上方突出，通过在载置面(11)上载置并吸附被处理基板(4)，由于从被处理基板(4)受到的负荷而被压下至与载置面(11)相同的高度。
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公开(公告)号：CN101258784B
公开(公告)日：2011-03-30
申请号：CN200680032713.X
申请日：2006-09-15
Applicant: 积水化学工业株式会社
CPC classification number: H01J37/32623 , H01J2237/0206 , H05H1/2406 , H05H2001/2412
Abstract: 为了提供能够容纳待加工物品的面积的增加、并且能够在开始正常等离子放电时确保适当的加工的大气压等离子加工设备。在一种大气压等离子加工设备中，台(20)的第一台部分(21)的第一金属表面(21a)被暴露，并且由电介质材料组成的待加工物品(W)放置在第一金属表面21a上。固体介电层(25)设置在第二台部分(22)的第二金属(24)上。物品W的周边部分放置在固体介电层(25)的内部介电部分(26)上。电极(11)在第二台部分(22)的上方的第二移动范围(R2)内产生助走放电(D2)。然后，电极(11)移动到第一台部分(21)的上方的第一移动范围(R1)并产生正常等离子放电(D1)。
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公开(公告)号：CN1735960A
公开(公告)日：2006-02-15
申请号：CN200380100254.0
申请日：2003-10-07
Applicant: 积水化学工业株式会社
IPC: H01L21/205 , C23C16/50
Abstract: 在等离子体成膜设备中，连接到电源(4)的两个第一种电极(51)和两个接地的第二种电极(52)以第二种电极(52)、第一种电极(51)、第一种电极(51)和第二种电极(52)的顺序安置。在中心第一种电极(51)之间形成的第一种流道(50a)使用于形成到膜中的原材料气体(第一种气体)从其中通过。在两侧的第一种和第二种电极(51、52)之间形成的第二种流道的等离子体放电空间(50b)使可激发气体(第二种气体)从其中通过，可激发气体被等离子体激发使得原材料可形成到膜中，但是可激发气体本身仅仅被激发，但是不形成到膜中。那些气体汇集在第一种和第二种流道之间的交叉部分(20c)，通过共同喷气通道(25a)喷出。这样可以防止设备组成构件例如电极被膜粘附。
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公开(公告)号：CN108291045B
公开(公告)日：2020-07-28
申请号：CN201680070019.0
申请日：2016-11-04
Applicant: 积水化学工业株式会社 , 国立大学法人大阪大学
Abstract: 本发明提供一种改善油墨烧结所得的薄膜的密合性和涂布印刷性的氟类树脂膜。向电极21、11间的大气压附近的处理空间1a内通过氟类树脂膜9。将包含非活性气体的工艺气体供给至所述处理空间1a，将电压施加至所述电极间，在所述处理空间1a内产生放电；加热所述被处理面9a，使其比连续使用温度低100℃的温度以上且在所述连续使用温度以下。所述处理空间1a的氧气的体积浓度为1000ppm以下。
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公开(公告)号：CN102791777B
公开(公告)日：2014-03-12
申请号：CN201180012728.0
申请日：2011-02-28
Applicant: 积水化学工业株式会社
CPC classification number: B29D11/00634 , G02B5/3033 , H05H1/48 , H05H2001/485
Abstract: 本发明提供一种膜表面处理装置，在将聚合性单体作为反应成分而对偏振板用保护膜等被处理膜进行等离子体处理时，能够防止电极等的污垢且提高粘接性等处理效果。在第一辊电极(11)及第二辊电极(12)上卷挂被处理膜(9)。使电极(11、12)旋转，从电极(11)向电极(12)输送被处理膜(9)。使反应气体喷嘴(31)沿着第一辊电极(11)的周向从电极(11、12)间的放电空间(14)向电极旋转方向的上游侧离开，且以与第一辊电极(11)对置的方式配置。优选在第一辊电极(11)上覆盖遮蔽构件(40)。从喷嘴(31)吹出含有聚合性单体的反应气体。在第一、第二辊电极(11、12)彼此之间的被处理膜(9)的折返部分(9a)的内侧配置有放电生成气体喷嘴(21)。从放电生成气体喷嘴(21)向放电空间(14)吹出不含有聚合性单体的放电生成气体。
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