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公开(公告)号：CN116917749A
公开(公告)日：2023-10-20
申请号：CN202280018257.2
申请日：2022-06-01
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: G01R31/28
Abstract: 用于半导体缺陷引导预烧及系统级测试(SLT)的系统及方法经配置以：从线内缺陷部分平均测试(I‑PAT)子系统接收多个线内缺陷部分平均测试(I‑PAT)分数，其中所述多个I‑PAT分数由所述I‑PAT子系统基于多个半导体裸片的半导体裸片数据产生，其中所述半导体裸片数据包含所述多个半导体裸片的特性化测量，其中所述多个I‑PAT分数中的每一I‑PAT分数表示由所述I‑PAT子系统基于所述多个半导体裸片中的对应半导体裸片的特性化测量所确定的缺陷率；在动态决策过程期间将一或多个规则应用于所述多个I‑PAT分数；及基于所述动态决策过程为所述多个半导体裸片中的至少一个半导体裸片产生一或多个缺陷引导安置。
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公开(公告)号：CN107429995B
公开(公告)日：2020-02-28
申请号：CN201680019827.4
申请日：2016-04-05
Applicant: 科磊股份有限公司
Inventor： A·莱维 , D·坎戴尔 , M·E·阿德尔 , L·波斯拉夫斯基 , J·鲁滨逊 , T·马西安诺 , B·布尔戈尔茨 , T·格林茨威格 , D·克莱因 , T·伊茨科维赫 , N·卡梅尔 , N·阿米尔 , V·拉马纳坦 , J·坎普 , M·瓦格纳
Abstract: 本发明揭示一种计量性能分析系统，其包含：计量工具，其包含一或多个检测器；及控制器，其以通信方式耦合到所述一或多个检测器。所述控制器经配置以从所述计量工具接收与计量目标相关联的一或多个计量数据集，其中所述一或多个计量数据集包含一或多个测定计量度量且所述一或多个测定计量度量指示与标称值的偏差。所述控制器经进一步配置以确定与所述标称值的所述偏差和一或多个选定半导体工艺变化之间的关系，及基于所述一或多个计量度量的值和所述一或多个选定半导体工艺变化之间的所述关系确定与所述标称值的所述偏差的一或多个根本原因。
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公开(公告)号：CN107429995A
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：CN201680019827.4
申请日：2016-04-05
Applicant: 科磊股份有限公司
Inventor： A·莱维 , D·坎戴尔 , M·E·阿德尔 , L·波斯拉夫斯基 , J·鲁滨逊 , T·马西安诺 , B·布尔戈尔茨 , T·格林茨威格 , D·克莱因 , T·伊茨科维赫 , N·卡梅尔 , N·阿米尔 , V·拉马纳坦 , J·坎普 , M·瓦格纳
Abstract: 本发明揭示一种计量性能分析系统，其包含：计量工具，其包含一或多个检测器；及控制器，其以通信方式耦合到所述一或多个检测器。所述控制器经配置以从所述计量工具接收与计量目标相关联的一或多个计量数据集，其中所述一或多个计量数据集包含一或多个测定计量度量且所述一或多个测定计量度量指示与标称值的偏差。所述控制器经进一步配置以确定与所述标称值的所述偏差和一或多个选定半导体工艺变化之间的关系，及基于所述一或多个计量度量的值和所述一或多个选定半导体工艺变化之间的所述关系确定与所述标称值的所述偏差的一或多个根本原因。
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公开(公告)号：CN105264640A
公开(公告)日：2016-01-20
申请号：CN201480028376.1
申请日：2014-04-07
Applicant: 科磊股份有限公司
CPC classification number: H01L22/14 , G05B19/41875 , G05B2219/32194 , G05B2219/45031 , H01L22/20 , Y02P90/22
Abstract: 线内合格率监测可包含使用一或多个算法软件模块。线内合格率监测可包含使用例如学习模块及预测模块的两个相关算法软件模块。所述学习模块可从探针电测试合格率及参数电测试PET属性值的数据学习关键PET参数。所述关键PET参数可最佳地分离所述合格率数据中的离群值及内群值。所述预测模块可使用由所述学习模块发现的所述关键PET参数以预测晶片是探针测试分类中的内群值还是离群值。
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