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公开(公告)号：CN207703678U
公开(公告)日：2018-08-07
申请号：CN201721579816.X
申请日：2017-11-23
Applicant: 浙江工业大学
Abstract: 一种抛光液大颗粒在线监测装置，包括光学系统、数据采集与处理系统、系统标定与检验和辅助系统，光学系统包括观察窗口、激光光源、激光发射光路、激光衰减接收光路和激光散射接收光路，实现对抛光液中大颗粒光衰减、光散射信号的光电转换，数据采集与处理系统包括激光衰减、激光散射信号的采集与处理的模拟与数字电路；标定及检验系统利用标准颗粒悬浮液对抛光液大颗粒检测系统进行标定，建立激光衰减、激光散射电信号与标准颗粒已知尺寸之间的关系；辅助系统包括抽样系统、清洗系统和气泡消除系统。本实用新型检测范围大，实时在线检测，对提升高表面完整性的抛光加工的良品率有重要作用，降低生产成本。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN204565865U
公开(公告)日：2015-08-19
申请号：CN201520188290.7
申请日：2015-03-31
Applicant: 浙江工业大学
Abstract: 一种基于主动控制反应条件方式的SiC材料高效抛光装置，包括密封腔体、机架、抛光盘、工件夹具、碱性抛光液输入部件和氧化性气体输入部件，抛光盘、工件夹具均置于密封腔体内，工件夹具置于抛光盘上方，待抛光的SiC材料装夹在工件夹具的底面；抛光盘安装在驱动主轴上，所述驱动主轴伸出所述密封腔体的底部，驱动主轴与主轴驱动装置连接；碱性抛光液输入部件安装在密封腔体上，碱性抛光液输入部件上装有用于控制抛光过程中抛光液的流量的流量调节阀；氧化性气体输入部件安装在密封腔体上，氧化性气体输入部件上装有用于控制抛光过程中所述密封腔内的气压大小的气压调节阀。本实用新型材料去除率较高、过程可控、低成本。
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公开(公告)号：CN202397378U
公开(公告)日：2012-08-29
申请号：CN201120525507.0
申请日：2011-12-15
Applicant: 浙江工业大学
IPC: A47K13/12
Abstract: 可伸缩脚踏板式幼儿坐便圈，包括本体、脚踏板，所述的本体前端下底面边缘设有连接装置和凹面；所述脚踏板分为第一组块、第二组块、第三组块和第四组块，所述脚踏板的所述第一组块通过所述连接装置与所述的本体铰接；所述第一组块、第二组块、第三组块和第四组块依次连接。本实用新型的有益效果是：1)坐便圈可以旋转、翻折、拼接，自由调整脚踏板到舒适的位子上，再将坐便圈置于座便器上，便于幼儿踩踏，保证其安全；2)在不使用时，将脚踏板缩回坐便圈背部前端，便于闲置时的存放，节省空间。
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Patent Agency Ranking
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公开(公告)号：CN201178090Y
公开(公告)日：2009-01-07
申请号：CN200820082096.0
申请日：2008-01-11
Applicant: 浙江工业大学
Abstract: 一种CMP过程中晶圆下液体薄膜中间变量的测量装置，包括激光器、分光镜、滤光片、摄像头、用以计算测量的计算机以及用以提供具有两种荧光材料的抛光液的抛光液供给机构，激光器通过光纤连接发散透镜，发散透镜的出射光学范围覆盖晶圆下的液体薄膜，分光镜位于晶圆的上方，分光镜的两个出射方向设有两个滤光片，每个滤光片与各自摄像头相对，摄像头与计算机数据连接，计算机包括用以计算得到两种荧光强度后，将其比值作为相对荧光强度，计算得到厚度、温度和pH值的中间变量测量模块。本实用新型能够对CMP过程中晶圆下中间变量(如厚度、温度、pH值)进行有效测量。
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公开(公告)号：CN204748204U
公开(公告)日：2015-11-11
申请号：CN201520348947.1
申请日：2015-05-27
Applicant: 浙江工业大学
IPC: B24B1/00
Abstract: 一种基于空化效应的软脆材料加工装置，包括加工池，所述加工池内设有用于固定待加工软脆材料工件的夹具，所述夹具上方设有弹性摩擦轮，所述夹具与所述弹性摩擦轮之间的区域为加工工位，所述夹具与用于带动所述夹具运动的夹具驱动机构连接，所述弹性摩擦轮与用于带动弹性摩擦轮运动的摩擦轮驱动机构连接，所述加工池的上方布置用于使加工池内的加工液在加工工位附近发生空化的空化系统。本实用新型提出了一种高效、高质量与低成本的基于空化效应的软脆材料加工装置。
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