使用微透镜阵列的扫描曝光装置

    公开(公告)号:CN103140804A

    公开(公告)日:2013-06-05

    申请号:CN201180048221.0

    申请日:2011-09-12

    Abstract: 扫描曝光装置通过多个微透镜阵列(2),将掩模(3)的曝光图案投影于衬底(1)上。此时,通过线性CCD相机检测衬底上的图像,将衬底上的第一层图案作为基准图案,检测掩模的曝光图案是否与该基准图案一致。不一致时,使微透镜阵列从平行于衬底的方向倾斜,调整由微透镜阵列形成的衬底上的曝光区域,使掩模的曝光图案与基准图案一致。由此,即使产生曝光图案与基准图案的偏移,也能在曝光中检测该偏移,防止曝光图案的错位,能够提高重叠曝光中的曝光图案的精度。

    扫描曝光装置
    12.
    实用新型

    公开(公告)号:CN203720529U

    公开(公告)日:2014-07-16

    申请号:CN201420091928.0

    申请日:2014-02-28

    Abstract: 本实用新型提供一种扫描曝光装置,其不影响节拍时间而确认基板表面上的光照射能量。本实用新型的扫描曝光装置(1)具备:基板台(2);光照射装置(3);照度传感器台(4),以与基板(W)的表面相同的高度支承照度传感器(4S);及扫描控制装置(6),同时或分别控制基板台(2)与照度传感器台(4)的沿扫描方向的移动。照度传感器台(4)位于基板台(2)的扫描方向下游侧。

    聚焦能量束装置
    13.
    发明授权

    公开(公告)号:CN115461833B

    公开(公告)日:2025-03-28

    申请号:CN202180029913.4

    申请日:2021-05-31

    Abstract: 差动排气装置将处理用空间设为高真空度,其中,所述差动排气装置具备:位移驱动部,其能够使头部或被处理基板进行位移来调整被处理面与所述头部的对置面的平行度及距离;间隙测定部,其沿着所述头部的所述对置面的周缘分别配置在至少三个部位以上,能够检测所述对置面与所述被处理面之间的距离;以及间隙控制部,其基于所述间隙测定部检测出的所述对置面与所述被处理面之间的距离信息来控制所述位移驱动部,以使得所述对置面与所述被处理面隔开规定的距离而成为平行。

    光照射装置
    15.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110462503A

    公开(公告)日:2019-11-15

    申请号:CN201880019554.2

    申请日:2018-04-10

    Inventor: 新井敏成

    Abstract: 本发明涉及一种光照射装置,该光照射装置能够使原本应形成曝光图案的位置与实际曝光的曝光图案的位置一致。在与第一方向(x方向)大致正交的第二方向(y方向)上,在掩模(32)上形成的透光区域(32a)与光轴(Ax)间的距离为由通过透光区域(32a)的光形成在基板(W)上的曝光图案与光轴(Ax)间的距离的A(A为1以上的数值)倍。

    曝光装置
    16.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104395831B

    公开(公告)日:2018-07-06

    申请号:CN201380034890.1

    申请日:2013-03-29

    CPC classification number: G03F7/201 G03F7/2004

    Abstract: 本发明提供一种曝光装置,其使用多个短尺寸灯作为光源,并能够以简单的结构进行照度不均较低的曝光。提供一种可轻松更换灯的曝光装置。曝光装置(100)具有:搬送部(2),向搬送方向搬送被曝光体(11);及光照射部(3),在水平面内以规定间隔排列配置有具备长边方向的长度比被曝光体(11)短的棒状光源(32)及配置于光源(32)与被曝光体(11)之间的偏光器(34)的多个光照射单元(31),光照射单元(31)配置成光源(32)及偏光器(34)相对于被曝光体(11)平行,且各偏光器(34)的偏振轴的方向相对于搬送方向设定为规定方向,各光源(32)配置成光源(32)的长边方向相对于搬送方向平行或成为倾斜方向。曝光装置(100)具有摆动机构(56b),所述摆动机构使被曝光体(11)或光照射部(3)向相对于搬送方向交叉的方向摆动。

    光取向用偏光照射装置
    17.
    发明授权

    公开(公告)号:CN105008990B

    公开(公告)日:2018-03-30

    申请号:CN201480009344.7

    申请日:2014-03-07

    CPC classification number: G02B27/286 G02B5/30 G02F1/1303 G02F1/133788

    Abstract: 本发明提供一种光取向用偏光照射装置,以作业性良好、且节省空间地进行光取向用偏光照射装置中的光源的维护。光取向用偏光照射装置(1)具备光照射部(10),其具有包含光源(2)及偏振器(4)的光学部件,光照射部(10)具备将光源(2)在光学部件之上的光照射位置(P1)支承的同时,在从光学部件向扫描方向远离的维护位置(P2)支承的光源支承导杆(11),光源支承导杆(11)使光源(2)从光照射位置(P1)移动至维护位置(P2)时,使光源(2)的朝向发生变化,以使光照射侧沿着扫描方向。

    偏光膜粘合装置
    18.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104136973B

    公开(公告)日:2016-12-21

    申请号:CN201380012132.X

    申请日:2013-02-07

    CPC classification number: G02B5/3033 G02F1/1303

    Abstract: 在使工作台上的偏光膜暂时安装并卷绕于卷筒之后,将液晶显示面板载置在工作台上,通过卷筒的旋转来将卷筒的安装面上的偏光膜粘合到液晶显示面板上。此时,使工作台向X方向移动,并且,在向该X方向移动的期间,配合卷绕在卷筒上的偏光膜的中心点CL的弯曲的状态来使工作台向Y方向移动。由此,即使在卷筒上在偏光膜存在弯曲,其第一以及第二偏振光部也与液晶显示面板的像素线高精度地匹配。由此,获得偏光膜的粘合装置,其能够提高偏光膜与液晶显示面板的粘合精度并且能够制造能显示高画质的3D图像的液晶显示装置。

    光取向曝光装置及光取向曝光方法

    公开(公告)号:CN104395832B

    公开(公告)日:2016-08-17

    申请号:CN201380034909.2

    申请日:2013-03-29

    Abstract: 本发明提供一种光取向曝光装置及光取向曝光方法。将取向曝光方式适用于多域法时,消除单位图像区域的分割区域中的边界附近的取向混乱。一种光取向曝光装置(100),其将液晶显示元件的各单位图像区域分割为多个分割区域,并分别向不同方向对各分割区域的取向材料膜进行光取向,所述光取向曝光装置具备:第1掩模(M1)及第1曝光装置(11),用于单独接近式曝光第1分割区域(Da1);第2掩模(M2)及第2曝光装置(12),用于单独接近式曝光与第1分割区域(Da1)相邻的第2分割区域(Da2);及第3掩模(M3)及第3曝光装置(13),用于曝光第1分割区域(Da1)与第2分割区域(Da2)的边界附近的第1分割区域(Da1)侧的区域,第3曝光装置(13)相对于被曝光面Bs具备与第1曝光装置(11)或第2曝光装置(12)相同的光照射角度,在第3掩模(M3)的掩模开口与被曝光面(Bs)之间具备聚光机构(20),其使掩模透射光聚光于边界附近的第1分割区域(Da1)侧的区域。

    偏光膜粘合装置
    20.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104136973A

    公开(公告)日:2014-11-05

    申请号:CN201380012132.X

    申请日:2013-02-07

    CPC classification number: G02B5/3033 G02F1/1303

    Abstract: 在使工作台上的偏光膜暂时安装并卷绕于卷筒之后,将液晶显示面板载置在工作台上,通过卷筒的旋转来将卷筒的安装面上的偏光膜粘合到液晶显示面板上。此时,使工作台向X方向移动,并且,在向该X方向移动的期间,配合卷绕在卷筒上的偏光膜的中心点CL的弯曲的状态来使工作台向Y方向移动。由此,即使在卷筒上在偏光膜存在弯曲,其第一以及第二偏振光部也与液晶显示面板的像素线高精度地匹配。由此,获得偏光膜的粘合装置,其能够提高偏光膜与液晶显示面板的粘合精度并且能够制造能显示高画质的3D图像的液晶显示装置。

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