公开(公告)号：CN101273302B

公开(公告)日：2012-02-01

申请号：CN200680035418.X

申请日：2006-09-25

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 梶山康一 ,  渡边由雄

IPC: G03F1/42 ,  G03F7/00 ,  G03F9/00

CPC classification number: G03F7/0007 ,  G03F1/44

Abstract: 本发明是由透明基体材料2和形成在该透明基体材料2的一个面上的遮光膜3构成的光掩模1，该光掩模1设置了多个掩模图案4和观察孔5，所述多个掩模图案4单向排列形成在上述遮光膜3上，并使曝光用光透过，所述观察孔5形成在上述遮光膜3上，并且形成在上述多个掩模图案4的排列方向的一侧，可观察对置的滤色基板的表面。这样，提高曝光图案相对于涂敷了感光性树脂的基板的基准图案的重合精度。

公开(公告)号：CN101238416B

公开(公告)日：2010-08-18

申请号：CN200680028831.3

申请日：2006-07-24

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 梶山康一 ,  渡边由雄

IPC: G03F9/00 ,  H01L21/68

CPC classification number: G03F7/7085 ,  G03F7/70258 ,  G03F9/7003 ,  G03F9/7088

Abstract: 本发明提供一种曝光装置及被曝光体，承载在设定于表面的图案区域的一个边缘的规定位置形成有对准标记的彩色滤光基板6，并通过输送装置1，以形成有对准标记的一侧为最前侧，输送该彩色滤光基板6，通过拍摄装置3拍摄对准标记和像素，通过控制装置4，根据拍摄装置3所取得的对准标记的检测输出，计算出彩色滤光基板6上的基准位置和预先设定在曝光光学系统2的光掩模17上的基准位置的偏差，并使拍摄装置3和曝光光学系统2一体地在与彩色滤光基板的承载面平行的面内移动，从而修正该偏差，将从曝光光源12发射的曝光用的光经由光掩模17照射到彩色滤光基板6上。