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公开(公告)号：CN103858208A
公开(公告)日：2014-06-11
申请号：CN201280039116.5
申请日：2012-08-07
Applicant: 株式会社V技术
Inventor： 桥本和重
IPC: H01L21/027 , G03F9/00
CPC classification number: G01B11/028 , G03F9/00 , G03F9/7069 , G03F9/7088
Abstract: 对准装置设置有射出用于对准的光的对准光源，例如内置于照相机。而且，对准光源例如与照相机检测出的光的光轴同轴地射出对准光。对准光照射到基板和掩模，反射光由照相机所检测。在掩模对准标记与基板对准标记之间还存在用于曝光的微透镜阵列，由此，从基板对准标记反射的正立等倍像被成像在掩模上。进而，通过由照相机检测出的掩模对准标记的反射光以及基板对准标记，控制装置进行基板与掩模的对准。由此，能以高精度执行基板与掩模的对准。
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公开(公告)号：CN101990651B
公开(公告)日：2014-06-04
申请号：CN200980112848.0
申请日：2009-04-02
Applicant: 株式会社V技术
IPC: G02F1/1337
CPC classification number: G02F1/133788
Abstract: 本发明涉及一种液晶显示装置的制造方法，其在对在TFT基板和相对电极基板之间以矩阵状形成多个像素并密封有液晶的液晶显示用基板的所述各像素施加了电场的状态，对所述液晶显示用基板照射规定波长的光，使得所述液晶的分子定向于规定方向，包括：将所述液晶显示用基板和灯体以相互相对的状态浸入到具有规定值以上的电阻率并对所述光具有充分的高透过率的透明液体中的步骤；和在对所述各像素施加了规定量的电场的状态下点亮所述灯体并对所述液晶显示用基板照射规定光量的所述光的步骤。
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公开(公告)号：CN102902155B
公开(公告)日：2017-07-14
申请号：CN201210262534.2
申请日：2012-07-26
Applicant: 株式会社 V 技术
Abstract: 本发明提供一种光掩模及曝光装置。光掩模(9)在同一掩模基板(10)上将掩模图案不同的多种图案区域(11)按照其中心轴相互平行的方式排列设置，并具备：在与各所述图案区域(11)的所述中心轴交叉的方向上，在与各中心轴偏离一定距离的位置处，分别按照纵长中心轴与所述中心轴平行的方式设置的细长状的多个开口部(12)；和在各所述开口部(12)内分别为了辨别所述掩模图案而设置的、与所述纵长中心轴交叉的至少一条细线状的辨别用标记(13)，将各所述开口部(12)内的辨别用标记(13)分别设置在各所述开口部(12)的纵长中心轴上的不同位置。
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公开(公告)号：CN103858208B
公开(公告)日：2016-08-24
申请号：CN201280039116.5
申请日：2012-08-07
Applicant: 株式会社V技术
Inventor： 桥本和重
IPC: H01L21/027 , G03F9/00
CPC classification number: G01B11/028 , G03F9/00 , G03F9/7069 , G03F9/7088
Abstract: 对准装置设置有射出用于对准的光的对准光源，例如内置于照相机。而且，对准光源例如与照相机检测出的光的光轴同轴地射出对准光。对准光照射到基板和掩模，反射光由照相机所检测。在掩模对准标记与基板对准标记之间还存在用于曝光的微透镜阵列，由此，从基板对准标记反射的正立等倍像被成像在掩模上。进而，通过由照相机检测出的掩模对准标记的反射光以及基板对准标记，控制装置进行基板与掩模的对准。由此，能以高精度执行基板与掩模的对准。
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公开(公告)号：CN102902155A
公开(公告)日：2013-01-30
申请号：CN201210262534.2
申请日：2012-07-26
Applicant: 株式会社V技术
Abstract: 本发明提供一种光掩模及曝光装置。光掩模(9)在同一掩模基板(10)上将掩模图案不同的多种图案区域(11)按照其中心轴相互平行的方式排列设置，并具备：在与各所述图案区域(11)的所述中心轴交叉的方向上，在与各中心轴偏离一定距离的位置处，分别按照纵长中心轴与所述中心轴平行的方式设置的细长状的多个开口部(12)；和在各所述开口部(12)内分别为了辨别所述掩模图案而设置的、与所述纵长中心轴交叉的至少一条细线状的辨别用标记(13)，将各所述开口部(12)内的辨别用标记(13)分别设置在各所述开口部(12)的纵长中心轴上的不同位置。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104834043B
公开(公告)日：2018-12-11
申请号：CN201510064078.4
申请日：2015-02-06
Applicant: 株式会社V技术
IPC: G02B5/30 , G02B27/28 , G02F1/1337
Abstract: 本发明提供一种偏振器、偏振光照射装置及偏光轴方向调整方法，在偏振器单体或并列配置多个偏振器的偏振光照射装置中，以高精度进行偏振器的偏光轴方向的调整。所述偏振器具备：基板(10)，在表面形成有线栅(G)；及遮光部(11、11A)，形成于基板(10)上且阻挡透射基板(10)的光，光透射的光透射区域(12A)与遮光部(11、11A)的边界线(L)相对于线栅(G)的延伸方向在设定方向上形成为直线状。
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公开(公告)号：CN105008990A
公开(公告)日：2015-10-28
申请号：CN201480009344.7
申请日：2014-03-07
Applicant: 株式会社V技术
IPC: G02F1/1337 , F21V19/00 , G02F1/13 , H01L21/027 , G02B5/30
CPC classification number: G02B27/286 , G02B5/30 , G02F1/1303 , G02F1/133788
Abstract: 本发明提供一种光取向用偏光照射装置，以作业性良好、且节省空间地进行光取向用偏光照射装置中的光源的维护。光取向用偏光照射装置(1)具备光照射部(10)，其具有包含光源(2)及偏振器(4)的光学部件，光照射部(10)具备将光源(2)在光学部件之上的光照射位置(P1)支承的同时，在从光学部件向扫描方向远离的维护位置(P2)支承的光源支承导杆(11)，光源支承导杆(11)使光源(2)从光照射位置(P1)移动至维护位置(P2)时，使光源(2)的朝向以光照射侧沿扫描方向的方式发生变化。
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公开(公告)号：CN104834043A
公开(公告)日：2015-08-12
申请号：CN201510064078.4
申请日：2015-02-06
Applicant: 株式会社V技术
IPC: G02B5/30 , G02B27/28 , G02F1/1337
CPC classification number: G02B5/3058 , G02B27/286 , G02F1/133788
Abstract: 本发明提供一种偏振器、偏振光照射装置及偏光轴方向调整方法，在偏振器单体或并列配置多个偏振器的偏振光照射装置中，以高精度进行偏振器的偏光轴方向的调整。所述偏振器具备：基板(10)，在表面形成有线栅(G)；及遮光部(11、11A)，形成于基板(10)上且阻挡透射基板(10)的光，光透射的光透射区域(12A)与遮光部(11、11A)的边界线(L)相对于线栅(G)的延伸方向在设定方向上形成为直线状。
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公开(公告)号：CN102640058B
公开(公告)日：2014-10-22
申请号：CN201080054737.1
申请日：2010-11-10
Applicant: 株式会社V技术
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70275
Abstract: 本发明提供一种曝光装置，其具有：光掩模（10、24），该光掩模形成有与被曝光在TFT用基板（4）的表面上的曝光图案相同形状的掩模图案，该TFT用基板（4）被保持在载物台（8）上；透镜组装体（11、25），该透镜组装体将多个单元透镜组（15、29）排列在与光掩模（10、24）以及被保持在载物台（80）上的TFT用基板（4）的表面平行的面内，单元透镜组（15、29）是在光掩模（10、24）的法线方向上配置多个凸透镜（14、28）而构成的，能够将形成在所述光掩模（10、24）上的掩模图案的等倍正立像成像在TFT用基板(4)表面上；和移动单元（12、26），该移动单元使得该透镜组装体（11、25）在与光掩模（10、24）以及载物台（8）上的TFT用基板（4）的表面平行的面内移动。
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公开(公告)号：CN102246100A
公开(公告)日：2011-11-16
申请号：CN200980150397.X
申请日：2009-11-05
Applicant: 株式会社V技术
IPC: G03F7/20 , G02F1/1335 , G02F1/1339 , G03F1/08
CPC classification number: G02F1/133516 , G02F1/13394 , G02F2001/13396 , G03F7/203 , G03F7/70283
Abstract: 本发明是对涂敷了正性的感光材料的基板进行曝光的光掩模(3)，至少以规定的排列间距在透明基板上形成了如下掩模图案群：第1掩模图案群(16)，其以与基板上的高度不同的两种凸起状图案形成部对应的间隔具有与凸起状图案的横截面积大致相等的面积的第1遮光图案(20)；和第2掩模图案群(17)，其具有与两种凸起状图案形成部中高度较高的凸起状图案形成部对应的规定面积的第2遮光图案(22)、和与高度较低的凸起状图案形成部对应的开口图案(23)。由此，能够将高度不同的多种凸起状图案的顶部形成为大致半球面状。
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