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公开(公告)号：CN111033693A
公开(公告)日：2020-04-17
申请号：CN201880051857.2
申请日：2018-07-26
Applicant: 株式会社V技术
IPC: H01L21/268 , H01L21/20 , H01L21/336 , H01L29/786
Abstract: 本发明的一实施方式的激光照射装置的特征在于，具备：光源，其产生激光；投影透镜，其向粘附于基板的非晶硅薄膜的规定的区域照射所述激光；及投影掩模图案，其配置在所述投影透镜上，包含使所述激光以规定的投影图案透过的长方形形状的透过区域，所述长方形形状的透过区域的短边的长度是透过了所述投影掩模图案的激光的照射能量在所述规定的区域中成为大致均匀的长度。
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公开(公告)号：CN110462503A
公开(公告)日：2019-11-15
申请号：CN201880019554.2
申请日：2018-04-10
Applicant: 株式会社V技术
Inventor： 新井敏成
IPC: G02F1/1337 , G02F1/13
Abstract: 本发明涉及一种光照射装置，该光照射装置能够使原本应形成曝光图案的位置与实际曝光的曝光图案的位置一致。在与第一方向(x方向)大致正交的第二方向(y方向)上，在掩模(32)上形成的透光区域(32a)与光轴(Ax)间的距离为由通过透光区域(32a)的光形成在基板(W)上的曝光图案与光轴(Ax)间的距离的A(A为1以上的数值)倍。
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公开(公告)号：CN107407888B
公开(公告)日：2019-03-29
申请号：CN201680010209.3
申请日：2016-02-17
IPC: G03F7/20 , G02F1/1337
Abstract: 本发明提供一种扫描曝光装置。为了改善扫描曝光装置的生产节拍时间并提高吞吐量，在进行光源的高照度化和扫描速度的高速化时，防止在基板的端部附近的曝光不均。扫描曝光装置(1)具备：载物台(2)，在与载物台表面(2A)之间设置间隙(2S)而支撑基板(W)；光源单元(3)，向沿基板(W)上的一方向延伸设置的光照射区域(3L)照射光；及扫描装置(4)，使载物台(2)与光源单元(3)的一方或双方沿与一方向交叉的扫描方向(S)相对移动，在扫描装置(4)中设置有从载物台(2)及光源单元(3)静止的位置直至被载物台(2)支撑的基板(W)进入到光照射区域(3L)的加速区间(F)，载物台(2)在其端部具备覆盖载物台表面(2A)与基板(W)之间的间隙(2S)的遮光体(20)。
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公开(公告)号：CN104395831B
公开(公告)日：2018-07-06
申请号：CN201380034890.1
申请日：2013-03-29
Applicant: 株式会社V技术
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/201 , G03F7/2004
Abstract: 本发明提供一种曝光装置，其使用多个短尺寸灯作为光源，并能够以简单的结构进行照度不均较低的曝光。提供一种可轻松更换灯的曝光装置。曝光装置(100)具有：搬送部(2)，向搬送方向搬送被曝光体(11)；及光照射部(3)，在水平面内以规定间隔排列配置有具备长边方向的长度比被曝光体(11)短的棒状光源(32)及配置于光源(32)与被曝光体(11)之间的偏光器(34)的多个光照射单元(31)，光照射单元(31)配置成光源(32)及偏光器(34)相对于被曝光体(11)平行，且各偏光器(34)的偏振轴的方向相对于搬送方向设定为规定方向，各光源(32)配置成光源(32)的长边方向相对于搬送方向平行或成为倾斜方向。曝光装置(100)具有摆动机构(56b)，所述摆动机构使被曝光体(11)或光照射部(3)向相对于搬送方向交叉的方向摆动。
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公开(公告)号：CN105008990B
公开(公告)日：2018-03-30
申请号：CN201480009344.7
申请日：2014-03-07
Applicant: 株式会社V技术
IPC: G02F1/1337 , F21V19/00 , G02F1/13 , H01L21/027 , G02B5/30
CPC classification number: G02B27/286 , G02B5/30 , G02F1/1303 , G02F1/133788
Abstract: 本发明提供一种光取向用偏光照射装置，以作业性良好、且节省空间地进行光取向用偏光照射装置中的光源的维护。光取向用偏光照射装置(1)具备光照射部(10)，其具有包含光源(2)及偏振器(4)的光学部件，光照射部(10)具备将光源(2)在光学部件之上的光照射位置(P1)支承的同时，在从光学部件向扫描方向远离的维护位置(P2)支承的光源支承导杆(11)，光源支承导杆(11)使光源(2)从光照射位置(P1)移动至维护位置(P2)时，使光源(2)的朝向发生变化，以使光照射侧沿着扫描方向。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104136973B
公开(公告)日：2016-12-21
申请号：CN201380012132.X
申请日：2013-02-07
Applicant: 株式会社V技术
IPC: G02F1/1335 , G02B5/30 , G02F1/13
CPC classification number: G02B5/3033 , G02F1/1303
Abstract: 在使工作台上的偏光膜暂时安装并卷绕于卷筒之后，将液晶显示面板载置在工作台上，通过卷筒的旋转来将卷筒的安装面上的偏光膜粘合到液晶显示面板上。此时，使工作台向X方向移动，并且，在向该X方向移动的期间，配合卷绕在卷筒上的偏光膜的中心点CL的弯曲的状态来使工作台向Y方向移动。由此，即使在卷筒上在偏光膜存在弯曲，其第一以及第二偏振光部也与液晶显示面板的像素线高精度地匹配。由此，获得偏光膜的粘合装置，其能够提高偏光膜与液晶显示面板的粘合精度并且能够制造能显示高画质的3D图像的液晶显示装置。
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公开(公告)号：CN104395832B
公开(公告)日：2016-08-17
申请号：CN201380034909.2
申请日：2013-03-29
Applicant: 株式会社V技术
IPC: G03F7/20 , G02F1/1337
CPC classification number: G02F1/133788 , G02F1/1303 , G02F1/133753 , G02F2001/133757 , G03F7/201 , G03F7/70275 , G03F7/70283 , G03F7/70308 , G03F7/70325 , G03F7/70358
Abstract: 本发明提供一种光取向曝光装置及光取向曝光方法。将取向曝光方式适用于多域法时，消除单位图像区域的分割区域中的边界附近的取向混乱。一种光取向曝光装置(100)，其将液晶显示元件的各单位图像区域分割为多个分割区域，并分别向不同方向对各分割区域的取向材料膜进行光取向，所述光取向曝光装置具备：第1掩模(M1)及第1曝光装置(11)，用于单独接近式曝光第1分割区域(Da1)；第2掩模(M2)及第2曝光装置(12)，用于单独接近式曝光与第1分割区域(Da1)相邻的第2分割区域(Da2)；及第3掩模(M3)及第3曝光装置(13)，用于曝光第1分割区域(Da1)与第2分割区域(Da2)的边界附近的第1分割区域(Da1)侧的区域，第3曝光装置(13)相对于被曝光面Bs具备与第1曝光装置(11)或第2曝光装置(12)相同的光照射角度，在第3掩模(M3)的掩模开口与被曝光面(Bs)之间具备聚光机构(20)，其使掩模透射光聚光于边界附近的第1分割区域(Da1)侧的区域。
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公开(公告)号：CN104136973A
公开(公告)日：2014-11-05
申请号：CN201380012132.X
申请日：2013-02-07
Applicant: 株式会社V技术
IPC: G02F1/1335 , G02B5/30 , G02F1/13
CPC classification number: G02B5/3033 , G02F1/1303
Abstract: 在使工作台上的偏光膜暂时安装并卷绕于卷筒之后，将液晶显示面板载置在工作台上，通过卷筒的旋转来将卷筒的安装面上的偏光膜粘合到液晶显示面板上。此时，使工作台向X方向移动，并且，在向该X方向移动的期间，配合卷绕在卷筒上的偏光膜的中心点CL的弯曲的状态来使工作台向Y方向移动。由此，即使在卷筒上在偏光膜存在弯曲，其第一以及第二偏振光部也与液晶显示面板的像素线高精度地匹配。由此，获得偏光膜的粘合装置，其能够提高偏光膜与液晶显示面板的粘合精度并且能够制造能显示高画质的3D图像的液晶显示装置。
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公开(公告)号：CN102906635A
公开(公告)日：2013-01-30
申请号：CN201180020598.5
申请日：2011-04-15
Applicant: 株式会社V技术
IPC: G02F1/1337 , G02F1/13
CPC classification number: G03F9/7084 , G02F1/13 , G02F1/1337 , G02F1/133788 , G03F7/7035 , G03F7/70566
Abstract: 本发明提供一种取向处理方法及取向处理装置，其使涂敷了取向膜的基板与具有第一掩模图案组（6A）和第二掩模图案组（6B）的光掩模（7）靠近对置，将该基板（4）在与所述第一及第二掩模图案组（6A）、（6B）交叉的方向上移动，第一掩模图案组（6A）以一定的排列间距形成细长状的多个开口，第二掩模图案组（6B）与该第一掩模图案组（6A）平行地设置且以与所述多个开口的排列间距相同的间距形成细长状的多个开口，对所述光掩模（7）的第一及第二掩模图案组（6A）、（6B）分别照射入射角度（θ）为不同的P偏振光，在所述取向膜上交替地形成取向状态不同的条纹状的第一及第二取向区域。由此，通过一次取向处理来形成取向状态不同的二种条纹状的取向区域并缩短取向处理工序的节拍。
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公开(公告)号：CN111279270B
公开(公告)日：2023-04-04
申请号：CN201880070461.2
申请日：2018-11-22
Applicant: 株式会社V技术
Abstract: 本发明提供一种曝光装置及曝光方法，该曝光装置将对形成于被曝光基板的已有基准图案进行拍摄后的基准图案数据与光掩模的基准位置部数据进行比较，检测宽度方向上光掩模的偏移量，计算出光掩模的暂定移动量，预先存储被曝光基板或光掩模的偏转状态变化的装置固有的偏转特性数据，并基于偏转特性数据，进行对光掩模移动量施加补正的控制。
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