公开(公告)号：CN106062637B

公开(公告)日：2019-11-05

申请号：CN201580012365.9

申请日：2015-07-10

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 朴泰文 ,  郑大哲 ,  李东勋 ,  李佑然 ,  李贤浚 ,  金周永

IPC: G03F7/42

Abstract: 本发明涉及用于移除光刻胶的剥离剂组合物以及使用其剥离光刻胶的方法，剥离剂组合物包含：至少一种胺化合物；酰胺类化合物，其中具有1到5个碳原子的直链或支链烷基对氮单取代或二取代；极性有机溶剂；三唑类化合物；以及苯并咪唑类化合物。

公开(公告)号：CN106462088B

公开(公告)日：2019-09-27

申请号：CN201580031398.8

申请日：2015-07-10

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 朴泰文 ,  郑大哲 ,  李东勋 ,  李佑然 ,  李贤浚 ,  金周永

IPC: G03F7/34

Abstract: 本发明涉及一种光刻胶去除设备以及使用所述设备的光刻胶去除方法，所述设备包括：剥离室，其包括用于去除光刻胶的剥离剂储存槽、用于使表面上形成有光刻胶的基底移动的基底移动装置、用于将用于去除光刻胶的剥离剂喷淋到基底移动装置上的剥离剂喷淋器、以及将用于去除光刻胶的剥离剂从储存槽输送至剥离剂喷淋器的剥离剂输送装置；冷却装置，其位于剥离室的上方并且使剥离室中蒸发的物质冷却；以及传送装置，其将通过冷却装置冷却的物质传送至用于去除光刻胶的剥离剂储存槽或剥离室。

公开(公告)号：CN106062637A

公开(公告)日：2016-10-26

申请号：CN201580012365.9

申请日：2015-07-10

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 朴泰文 ,  郑大哲 ,  李东勋 ,  李佑然 ,  李贤浚 ,  金周永

IPC: G03F7/42

Abstract: 本发明涉及用于移除光刻胶的剥离剂组合物以及使用其剥离光刻胶的方法，剥离剂组合物包含：至少一种胺化合物；酰胺类化合物，其中具有1到5个碳原子的直链或支链烷基对氮单取代或二取代；极性有机溶剂；三唑类化合物；以及苯并咪唑类化合物。

公开(公告)号：CN111989621B

公开(公告)日：2024-11-26

申请号：CN201980009806.8

申请日：2019-10-07

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 朴泰文 ,  李东勋 ,  宋贤宇 ,  李佑然

IPC: G03F7/42 ,  C11D11/00 ,  C11D3/28 ,  C11D3/30 ,  C11D3/32 ,  C11D3/43

Abstract: 本公开内容涉及用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物以及涉及用于使用其剥离光致抗蚀剂的方法，所述用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物在能够表现出对光致抗蚀剂优异的剥离能力的同时能够抑制剥离过程期间下部金属膜的腐蚀并能够有效地除去氧化物。

公开(公告)号：CN115039036A

公开(公告)日：2022-09-09

申请号：CN202180012135.8

申请日：2021-09-17

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 朴泰文 ,  李东勋 ,  宋贤宇 ,  李佑然

IPC: G03F7/42

Abstract: 本发明涉及用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物以及用于使用其剥离光致抗蚀剂的方法，所述用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物可以具有优异的光致抗蚀剂剥离力，可以在剥离过程中抑制对下面的金属膜的腐蚀，并且可以有效地除去氧化物。

公开(公告)号：CN106462088A

公开(公告)日：2017-02-22

申请号：CN201580031398.8

申请日：2015-07-10

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 朴泰文 ,  郑大哲 ,  李东勋 ,  李佑然 ,  李贤浚 ,  金周永

IPC: G03F7/34

Abstract: 本发明涉及一种光刻胶去除设备以及使用所述设备的光刻胶去除方法，所述设备包括：剥离室，其包括用于去除光刻胶的剥离剂储存槽、用于使表面上形成有光刻胶的基底移动的基底移动装置、用于将用于去除光刻胶的剥离剂喷淋到基底移动装置上的剥离剂喷淋器、以及将用于去除光刻胶的剥离剂从储存槽输送至剥离剂喷淋器的剥离剂输送装置；冷却装置，其位于剥离室的上方并且使剥离室中蒸发的物质冷却；以及传送装置，其将通过冷却装置冷却的物质传送至用于去除光刻胶的剥离剂储存槽或剥离室。

公开(公告)号：CN105556392A

公开(公告)日：2016-05-04

申请号：CN201580000649.6

申请日：2015-08-18

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 朴泰文 ,  郑大哲 ,  李东勋 ,  李佑然 ,  李贤濬 ,  金周永

IPC: G03F7/42

Abstract: 本发明涉及一种用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物，其包含：重均分子量大于95g/mol的链胺化合物；重均分子量不大于90g/mol的链胺化合物；环胺化合物；其中具有1至5个碳原子的直链或支链的烷基基团被氮单取代或双取代的基于酰胺的化合物；和极性有机溶剂，其中所述重均分子量大于95g/mol的链胺化合物与所述重均分子量不大于90g/mol的链胺化合物的重量比为1∶1至1∶10；还涉及一种使用所述剥离剂组合物剥离光致抗蚀剂的方法。