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公开(公告)号：CN109778149B
公开(公告)日：2020-12-29
申请号：CN201811317375.5
申请日：2018-11-07
Applicant: 株式会社神户制钢所
IPC: C23C16/515 , C23C16/503 , C23C16/30 , C23C16/54 , H01L51/50 , H01L51/56
Abstract: 提供一种对于水蒸汽的阻隔性能提高的阻气膜、气体阻隔性薄膜和该气体阻隔性薄膜的制造方法。本发明的一个方式的阻气膜，至少含有氧、硅和碳，在由衰减全反射法得到的光谱中，处于3400cm－1附近由O－H键引起的峰值的强度相对于处于1000cm－1附近由Si－O键引起的峰值强度的比为0.019以下。本发明的另一方式的气体阻隔性薄膜，具备基材、和层叠在该基材的一侧的面上的上述阻气膜。本发明再一方式的气体阻隔性薄膜的制造方法，具备如下工序：使用配置在真空室内、且具备一对成膜辊和气体供给部的成膜装置，将基材卷绕到上述一对成膜辊上的工序；通过等离子体化学气相沉积法使上述阻气膜层叠在上述基材上的工序。
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公开(公告)号：CN105814681A
公开(公告)日：2016-07-27
申请号：CN201480065043.6
申请日：2014-11-26
Applicant: 株式会社神户制钢所 , 神钢力得米克株式会社
Abstract: 本发明提供一种底板，该底板在一方的安装面上借助接合材料接合被接合构件，在供被接合构件接合的安装面的接合位置，具备用于借助接合材料接合被接合构件的凹处。凹处构成为，凹处开口面积比所述被接合构件大，在被接合构件的外周缘所面对的凹处外周部，凹陷的深度比凹处中央部深。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109955567B
公开(公告)日：2021-02-19
申请号：CN201811346623.9
申请日：2018-11-13
Applicant: 株式会社神户制钢所
Abstract: 提供一种具有优异的防水性和透明性且不会因膜剥落造成防水性降低的防水性透明薄膜，能够简易且有效率地生产该防水性透明薄膜的防水性透明薄膜的制造方法，以及可隔绝水滴等加以保护，并且可视性优异的显示器和光学调整薄膜。本发明的一方式的防水性透明薄膜，是对表面之中的至少一部分的区域实施过防水处理的防水性透明薄膜，其特征在于，上述防水处理区域的表层部含有碳、氟和氧，在以X射线光电子能谱法测定的上述表层部的深度方向的氟原子含量的分布曲线上，上述氟原子含量在上述表面显示最大值，随着上述深度的增加而递减。本发明的另一方式是具备上述防水性透明薄膜的显示器。本发明的再一方式是外层使用有上述防水性透明薄膜的光学调整薄膜。
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公开(公告)号：CN106431011B
公开(公告)日：2019-09-06
申请号：CN201610390354.0
申请日：2016-06-03
Applicant: 株式会社神户制钢所
IPC: C03C17/36
Abstract: 本发明目的在于得到银不凝集而能够发挥良好的光学特性的层叠膜、和使用其的热线反射材。本发明的层叠膜是在隔着第一金属氧化物层而层叠有第一银合金层和第二银合金层的第一层叠体的两侧分别具有1个以上的第二层叠体的层叠膜，其中，在第二层叠体中层叠有第二金属氧化物层和折射率比第二金属氧化物层大的高折射率层，所述第一和第二银合金层是含有(a)Cu和Pd、(b)Cu和Nd、(c)Bi和Zn、(d)Bi和Nd、(e)Bi中的任意一组作为合金元素的银合金，所述第一和第二金属氧化物层的波长200～1000nm的平均折射率低于2.0，所述高折射率层的波长200～1000nm的平均折射率为2.0以上。
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公开(公告)号：CN109955567A
公开(公告)日：2019-07-02
申请号：CN201811346623.9
申请日：2018-11-13
Applicant: 株式会社神户制钢所
Abstract: 提供一种具有优异的防水性和透明性且不会因膜剥落造成防水性降低的防水性透明薄膜，能够简易且有效率地生产该防水性透明薄膜的防水性透明薄膜的制造方法，以及可隔绝水滴等加以保护，并且可视性优异的显示器和光学调整薄膜。本发明的一方式的防水性透明薄膜，是对表面之中的至少一部分的区域实施过防水处理的防水性透明薄膜，其特征在于，上述防水处理区域的表层部含有碳、氟和氧，在以X射线光电子能谱法测定的上述表层部的深度方向的氟原子含量的分布曲线上，上述氟原子含量在上述表面显示最大值，随着上述深度的增加而递减。本发明的另一方式是具备上述防水性透明薄膜的显示器。本发明的再一方式是外层使用有上述防水性透明薄膜的光学调整薄膜。
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公开(公告)号：CN106637131A
公开(公告)日：2017-05-10
申请号：CN201610712432.4
申请日：2016-08-24
Applicant: 株式会社神户制钢所
IPC: C23C16/40
CPC classification number: C23C16/401
Abstract: 本发明提供一种用硅原料的成膜装置，其在成为试样的基材上形成薄膜层，所述成膜装置具有具备试样保持机构及排气机构的反应室，所述反应室包括：原料供给部件，将硅原料与氧化性气体混合；能量供给部件，施加能量使所述硅原料氧化而形成薄膜层；以及未反应的原料回收部件，使未反应的原料在所述排气机构中分解或者吸附于分解物上；并且所述硅原料为含有硅、氧及碳的至少一种有机化合物，以在将所述硅原料1分子化学计量性地完全氧化的情况下所生成的全氧化物的合计分子数A与所述硅原料中所含的硅的原子数B满足(A‑B)/B≤6.75的关系的方式来调整供给量。
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公开(公告)号：CN106431011A
公开(公告)日：2017-02-22
申请号：CN201610390354.0
申请日：2016-06-03
Applicant: 株式会社神户制钢所
IPC: C03C17/36
Abstract: 本发明目的在于得到银不凝集而能够发挥良好的光学特性的层叠膜、和使用其的热线反射材。本发明的层叠膜是在隔着第一金属氧化物层而层叠有第一银合金层和第二银合金层的第一层叠体的两侧分别具有1个以上的第二层叠体的层叠膜，其中，在第二层叠体中层叠有第二金属氧化物层和折射率比第二金属氧化物层大的高折射率层，所述第一和第二银合金层是含有(a)Cu和Pd、(b)Cu和Nd、(c)Bi和Zn、(d)Bi和Nd、(e)Bi中的任意一组作为合金元素的银合金，所述第一和第二金属氧化物层的波长200～1000nm的平均折射率低于2.0，所述高折射率层的波长200～1000nm的平均折射率为2.0以上。
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