公开(公告)号：CN115836248A

公开(公告)日：2023-03-21

申请号：CN202180047315.X

申请日：2021-08-03

Applicant: 三井化学株式会社

Inventor： 小野阳介 ,  大久保敦 ,  高村一夫

IPC: G03F1/62

Abstract: 本发明的课题在于提供能抑制防护膜劣化的防护膜组件和曝光原版。防护膜组件包含：包含碳含有率为40质量％以上的碳系膜的防护膜(12)、支撑防护膜(12)的支撑框(14)、以及含有粘接剂的粘接剂层(15)；在23℃、1×10‑3Pa以下的气氛下，水系释气的合计量为5.0×10‑4Pa·L/sec以下。

公开(公告)号：CN115004108A

公开(公告)日：2022-09-02

申请号：CN202180009908.7

申请日：2021-02-16

Applicant: 三井化学株式会社

Inventor： 大久保敦 ,  高村一夫 ,  石川比佐子 ,  小野阳介 ,  藤井泰久 ,  吉川弥 ,  松本信子 ,  出口朋枝

IPC: G03F1/62 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明涉及一种防护膜、防护膜组件、曝光原版、曝光装置、半导体装置的制造方法以及防护膜组件的制造方法，所述防护膜包含碳纳米管，所述碳纳米管至少在表面层侧含有碳的至少一部分被硅取代的碳化硅层。

公开(公告)号：CN112088334A

公开(公告)日：2020-12-15

申请号：CN201980017088.9

申请日：2019-03-01

Applicant: 三井化学株式会社

Inventor： 小野阳介 ,  高村一夫 ,  大久保敦 ,  种市大树 ,  石川比佐子 ,  美谷岛恒明

IPC: G03F1/64 ,  G03F1/22 ,  G03F1/62 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明提供抑制了从粘接层产生释气的防护膜组件。防护膜组件(100)具有：防护膜(101)；支撑上述防护膜的支撑框(103)；设置于上述支撑框的突起部(105)；设置于上述突起部的第1粘接层(107)；以及无机物层，上述无机物层与上述第1粘接层相比设置在上述防护膜所处的一侧。上述无机物层可以包含第1无机物层(109)，上述第1无机物层(109)设置于上述第1粘接层中作为与上述防护膜交叉的方向的侧面的、上述防护膜所处一侧的第1侧面(121)。

公开(公告)号：CN109416505A

公开(公告)日：2019-03-01

申请号：CN201780042244.8

申请日：2017-06-30

Applicant: 日本轻金属株式会社 ,  三井化学株式会社

Inventor： 田口喜弘 ,  高村一夫 ,  种市大树

IPC: G03F1/64 ,  C22C21/00 ,  C22F1/04 ,  C25D11/04 ,  C25D11/14 ,  C25D11/18 ,  G03F1/84 ,  C22F1/00

Abstract: 本发明提供：一种能够有效地抑制因贴附防护膜组件(1)而引起的曝光原版(8)的变形、且不具有复杂形状的防护膜框架(2)；使用该防护膜框架的防护膜组件；以及，能够降低在聚光灯下表面晃眼的缺陷、且为了容易地进行使用前的异物附着检查等而黑色化的防护膜框架的制造方法。一种防护膜框架，其特征在于：在铝合金制框架的表面具有阳极氧化膜，该铝合金制框架由铝合金构成，该铝合金含有5.0～10.0质量％的Ca且剩余部分为铝和不可避免的杂质，该铝合金中作为分散相的Al4Ca相的面积(体积)率为25％以上，该Al4Ca相的一部分的晶体结构是单斜晶，并且，分散于阳极氧化膜的Al4Ca相被阳极氧化，阳极氧化膜被黑色染料染色。

公开(公告)号：CN109313385A

公开(公告)日：2019-02-05

申请号：CN201780035395.0

申请日：2017-06-20

Applicant: 三井化学株式会社

Inventor： 大久保敦 ,  小野阳介 ,  高村一夫 ,  藤井泰久 ,  吉川弥

IPC: G03F1/62 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明提供尘埃等的附着降低了的EUV用防护膜、防护膜组件框体、防护膜组件及其制造方法。本发明提供防护膜组件的制造方法，在基板(200)上形成防护膜(202)，在上述基板的与形成有上述防护膜的面相反侧的面上形成金属的掩模(204)，从上述金属掩模侧除去上述基板的一部分，除去上述金属掩模。根据本发明的一个实施方式，本发明能够提供尘埃等的附着降低了的EUV用防护膜、防护膜组件框体、防护膜组件及其制造方法。

公开(公告)号：CN106462052A

公开(公告)日：2017-02-22

申请号：CN201580023964.0

申请日：2015-05-12

Applicant: 三井化学株式会社

Inventor： 小野阳介 ,  高村一夫

IPC: G03F1/62

Abstract: 防护膜具有由有机系材料和无机系材料形成的膜片，在该膜片的同一平面上存在包含有机系材料的区域和由无机系材料形成的区域，至少上述膜片的中心部为由无机系材料形成的区域，并且，至少上述膜片的周端部为包含有机系材料的区域。

公开(公告)号：CN117270314A

公开(公告)日：2023-12-22

申请号：CN202311217958.1

申请日：2021-04-02

Applicant: 三井化学株式会社 ,  国立研究开发法人产业技术综合研究所

Inventor： 小野阳介 ,  石川比佐子 ,  小川亮平 ,  大久保敦 ,  高村一夫 ,  关口贵子 ,  加藤雄一 ,  山田健郎 ,  周英

IPC: G03F1/62 ,  G03F7/20 ,  C01B32/168 ,  C01B32/17 ,  B82Y40/00

Abstract: 本发明提供曝光用防护膜、防护膜组件、曝光原版、曝光装置及曝光用防护膜的制造方法。一种曝光用防护膜，其包含碳纳米管膜，碳纳米管膜含有碳纳米管，碳纳米管膜在波长13.5nm时的EUV光的透射率为80％以上，碳纳米管膜的厚度为1nm以上50nm以下，将碳纳米管膜配置于硅基板上，对于配置后的碳纳米管膜，使用反射分光膜厚度计，以下述条件测定反射率时，反射率的3σ为15％以下。＜条件＞测定点的直径：20μm，基准测定波长：波长285nm，测定点数：121点，相邻的测定点的中心点间距离：40μm。

公开(公告)号：CN116609996A

公开(公告)日：2023-08-18

申请号：CN202310651908.8

申请日：2017-07-03

Applicant: 三井化学株式会社 ,  国立研究开发法人产业技术综合研究所

Inventor： 小野阳介 ,  大久保敦 ,  高村一夫 ,  关口贵子 ,  加藤雄一 ,  山田健郎

IPC: G03F1/62 ,  G03F1/64 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明提供EUV透射性进一步高的防护膜及其组件和组件框体、以及组件制造方法。此外，提供能够以此进行高精度的EUV光刻的、曝光原版、曝光装置和半导体装置的制造方法。本发明的防护膜是铺设在支撑框的开口部的曝光用防护膜，上述防护膜的厚度为200nm以下，上述防护膜包含碳纳米管片，上述碳纳米管片具备由多个碳纳米管形成的捆，上述捆的直径为100nm以下，上述捆在上述碳纳米管片中进行面内取向，上述防护膜的碳纳米管片的膜厚方向的峰强度与碳纳米管片的面内方向的峰强度之比RB为0.40以上。

公开(公告)号：CN115398334A

公开(公告)日：2022-11-25

申请号：CN202180027875.9

申请日：2021-04-02

Applicant: 三井化学株式会社 ,  国立研究开发法人产业技术综合研究所

Inventor： 小野阳介 ,  石川比佐子 ,  小川亮平 ,  大久保敦 ,  高村一夫 ,  关口贵子 ,  加藤雄一 ,  山田健郎 ,  周英

IPC: G03F1/62 ,  G03F7/20

Abstract: 一种曝光用防护膜，其包含碳纳米管膜，碳纳米管膜含有碳纳米管，碳纳米管膜在波长13.5nm时的EUV光的透射率为80％以上，碳纳米管膜的厚度为1nm以上50nm以下，将碳纳米管膜配置于硅基板上，对于配置后的碳纳米管膜，使用反射分光膜厚度计，以下述条件测定反射率时，反射率的3σ为15％以下。＜条件＞测定点的直径：20μm，基准测定波长：波长285nm，测定点数：121点，相邻的测定点的中心点间距离：40μm。

公开(公告)号：CN110545997B

公开(公告)日：2022-05-24

申请号：CN201880027357.5

申请日：2018-04-24

Applicant: 三井化学株式会社

Inventor： 镰田润 ,  高村一夫 ,  茅场靖刚

IPC: B32B7/12 ,  C09J11/06 ,  C09J179/02 ,  C09J183/04 ,  C09J201/02 ,  H01L21/02

Abstract: 一种基板层叠体，其依次层叠有第1基板、粘接层以及第2基板，所述粘接层包含化合物(A)与交联剂(B)的反应产物，所述化合物(A)具有包含伯氮原子和仲氮原子中的至少一个的阳离子性官能团，且重均分子量为90以上40万以下，所述交联剂(B)在分子内具有3个以上‑C(＝O)OX基(X为氢原子或碳原子数1以上6以下的烷基)，3个以上‑C(＝O)OX基中，1个以上6个以下为‑C(＝O)OH基，且重均分子量为200以上600以下，上述化合物(A)包含选自由重均分子量1万以上40万以下的脂肪族胺、以及具有硅氧烷键(Si‑O键)和氨基的重均分子量130以上10000以下的化合物所组成的组中的至少1种。