公开(公告)号：CN1611490A

公开(公告)日：2005-05-04

申请号：CN200410076928.4

申请日：2004-09-03

Applicant: 松下电器产业株式会社

Inventor： 岸村真治 ,  远藤政孝 ,  屉子胜 ,  上田充 ,  饭森弘和 ,  福原敏明

IPC: C07C311/01 ,  C08F28/00 ,  G03F7/00

CPC classification number: C08F220/18 ,  C08F212/02 ,  C08F228/02 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/107 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111

Abstract: 本发明能够提供一种对波长小于等于300nm带的曝光光的透过性优良、衬底密接性、显像溶解性优良的抗蚀材料。抗蚀材料的基础树脂含有由[化学式1]这样的通式所表示的单元。R1、R2及R3相同或者不同，为氢原子、氟原子、碳原子数大于等于1且小于等于20的直链烷基、支链或环烷基、或者氟代烷基；R4为碳原子数大于等于0且小于等于20的直链亚烷基、或者支链或环状亚烷基；R5、R6相同或者不同，为氢原子、碳原子数大于等于1且小于等于20的直链烷基、支链或环烷基、氟代烷基、或者由酸脱离出来的保护基。